JP2013508144A5 - - Google Patents
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- JP2013508144A5 JP2013508144A5 JP2012535398A JP2012535398A JP2013508144A5 JP 2013508144 A5 JP2013508144 A5 JP 2013508144A5 JP 2012535398 A JP2012535398 A JP 2012535398A JP 2012535398 A JP2012535398 A JP 2012535398A JP 2013508144 A5 JP2013508144 A5 JP 2013508144A5
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Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 44
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 28
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 23
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 20
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 16
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 14
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 230000001112 coagulating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 56
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US25467409P | 2009-10-24 | 2009-10-24 | |
| US61/254,674 | 2009-10-24 | ||
| PCT/US2010/053669 WO2011050232A2 (en) | 2009-10-24 | 2010-10-22 | Process for gradient nanovoided article |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013508144A JP2013508144A (ja) | 2013-03-07 |
| JP2013508144A5 true JP2013508144A5 (enExample) | 2013-12-05 |
| JP5801815B2 JP5801815B2 (ja) | 2015-10-28 |
Family
ID=43900976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012535398A Expired - Fee Related JP5801815B2 (ja) | 2009-10-24 | 2010-10-22 | 傾斜ナノボイド含有物品の製法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10293370B2 (enExample) |
| EP (2) | EP2848321B1 (enExample) |
| JP (1) | JP5801815B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101781661B1 (enExample) |
| CN (1) | CN102574151B (enExample) |
| WO (1) | WO2011050232A2 (enExample) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2313800A4 (en) | 2008-07-10 | 2014-03-19 | 3M Innovative Properties Co | VISCOELASTIC LIGHT GUIDE |
| EP3026471A1 (en) | 2008-08-08 | 2016-06-01 | 3M Innovative Properties Company | Lightguide having a viscoelastic layer for managing light |
| BRPI1006713A2 (pt) | 2009-04-15 | 2019-06-18 | 3M Innovative Properties Co | artigos retrorrefletivos |
| US9291752B2 (en) | 2013-08-19 | 2016-03-22 | 3M Innovative Properties Company | Retroreflecting optical construction |
| CN105690874A (zh) | 2009-04-15 | 2016-06-22 | 3M创新有限公司 | 包括低折射率涂层的回射片材 |
| WO2011050268A1 (en) | 2009-10-24 | 2011-04-28 | 3M Innovative Properties Company | Immersed reflective polarizer with high off-axis reflectivity |
| WO2011050226A1 (en) | 2009-10-24 | 2011-04-28 | 3M Innovative Properties Company | Immersed reflective polarizer with angular confinement in selected planes of incidence |
| US8922733B2 (en) | 2009-10-24 | 2014-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Light source and display system incorporating same |
| EP2491444B1 (en) | 2009-10-24 | 2018-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Immersed asymmetric reflector with reduced color |
| CN102576101B (zh) | 2009-10-24 | 2015-01-14 | 3M创新有限公司 | 空隙化扩散体 |
| CN102576100B (zh) | 2009-10-24 | 2016-05-04 | 3M创新有限公司 | 梯度低折射率制品和方法 |
| EP3270049A3 (en) | 2009-12-08 | 2018-04-18 | 3M Innovative Properties Co. | Optical constructions incorporating a light guide and low refractive index films |
| JP6356420B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2018-07-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | パターン付き勾配ポリマーフィルム及び方法 |
| MX341955B (es) | 2010-04-15 | 2016-09-08 | 3M Innovative Properties Co | Articulos retrorreflectantes que incluyen areas opticamente activas y areas opticamente inactivas. |
| MX341289B (es) | 2010-04-15 | 2016-08-12 | 3M Innovative Properties Co | Articulos retrorreflectantes que incluyen areas opticamente activas y areas opticamente inactivas. |
| MX341957B (es) | 2010-04-15 | 2016-09-08 | 3M Innovative Properties Co | Articulos retrorreflectantes que incluyen areas opticamente activas y areas opticamente inactivas. |
| JP6629708B2 (ja) | 2010-10-20 | 2020-01-15 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 相互接続された空隙を有する低屈折率拡散体要素 |
| KR20130129239A (ko) | 2010-12-16 | 2013-11-27 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광학적으로 투명한 접착제 및 코팅을 제조하는 방법 |
| EP2678736B1 (en) | 2011-02-25 | 2015-01-21 | 3M Innovative Properties Company | Variable index light extraction layer for use in a front-lit reflective display device |
| US9310527B2 (en) * | 2011-03-09 | 2016-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Antireflective film comprising large particle size fumed silica |
| DE102013218989A1 (de) * | 2013-09-20 | 2015-03-26 | Tesa Se | Trennbeschichtung mit definierter Oberflächenstruktur |
| CN107530733B (zh) * | 2014-06-17 | 2021-01-05 | 维帝安特光学有限公司 | 经校正光色散的消色差梯度折射率光学元件 |
| WO2016014753A1 (en) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Avery Dennison Corporation | Two-in-one translucent and colored film |
| CN104827688A (zh) * | 2015-05-03 | 2015-08-12 | 佛山市崇源机械有限公司 | 一种pc板卷材表面硬化处理的工艺及设备 |
| US10180248B2 (en) | 2015-09-02 | 2019-01-15 | ProPhotonix Limited | LED lamp with sensing capabilities |
| WO2018204648A1 (en) * | 2017-05-05 | 2018-11-08 | 3M Innovative Properties Company | Display devices containing polymeric films |
| US10914871B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-02-09 | Facebook Technologies, Llc | Optical lens assemblies and related methods |
| MX2020012614A (es) | 2018-06-27 | 2021-01-29 | Kimberly Clark Co | Particulas superabsorbentes nanoporosas. |
| US11768145B2 (en) | 2019-07-26 | 2023-09-26 | 3M Innovative Properties Company | Porous fluid sensor |
| DE102020122857B4 (de) | 2020-09-01 | 2022-12-08 | Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. (Engl.Leibniz Institute of Photonic Technology) | Verfahren zur Herstellung einer ultradünnen freistehenden 2D-Membran mit Poren sowie ihre anwendungsbezogene Modifikation und Verwendung der über dieses Verfahren hergestellten 2D-Membranen |
Family Cites Families (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2801185A (en) | 1952-05-16 | 1957-07-30 | Du Pont | Silica hydrosol powder |
| US4379201A (en) | 1981-03-30 | 1983-04-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multiacrylate cross-linking agents in pressure-sensitive photoadhesives |
| US4522958A (en) | 1983-09-06 | 1985-06-11 | Ppg Industries, Inc. | High-solids coating composition for improved rheology control containing chemically modified inorganic microparticles |
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| JP4883383B2 (ja) | 2005-06-02 | 2012-02-22 | 旭硝子株式会社 | 中空状ＳｉＯ２を含有する分散液、塗料組成物及び反射防止塗膜付き基材 |
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| JP2007157521A (ja) | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Fujitsu Ltd | 燃料電池 |
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| WO2008011919A1 (de) | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Ilford Imaging Switzerland Gmbh | Flexible materialien fuer optische anwendungen |
| US7678838B2 (en) * | 2006-08-04 | 2010-03-16 | University Of Memphis Research Foundation | Nanothin polymer films with selective pores and method of use thereof |
| US20090018646A1 (en) * | 2007-07-10 | 2009-01-15 | Zhao Jonathon Z | Coating Employing an Anti-Thrombotic Conjugate |
| US8377852B2 (en) * | 2007-10-26 | 2013-02-19 | Dow Corning Corporation | Method of preparing a substrate with a composition including an organoborane initiator |
| JP2009175226A (ja) * | 2008-01-22 | 2009-08-06 | Fujifilm Corp | 光学フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
| BRPI0910877A2 (pt) * | 2008-03-26 | 2015-10-06 | 3M Innovative Proferties Company | método para aplicar dois ou mais fluidos como um revestimento de deslizamento |
| US20110059321A1 (en) * | 2008-06-23 | 2011-03-10 | General Electric Company | Method of repairing a thermal barrier coating and repaired coating formed thereby |
| WO2010120864A1 (en) | 2009-04-15 | 2010-10-21 | 3M Innovative Properties Company | Optical film |
| IN2011CN07418A (enExample) | 2009-04-15 | 2015-08-21 | 3M Innovative Properties Co | |
| US8808811B2 (en) * | 2009-04-15 | 2014-08-19 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for a nanovoided article |
| TWI605276B (zh) | 2009-04-15 | 2017-11-11 | ３Ｍ新設資產公司 | 光學結構及包含該光學結構之顯示系統 |
| WO2010120422A1 (en) | 2009-04-15 | 2010-10-21 | 3M Innovative Properties Company | Process and apparatus for coating with reduced defects |
| JP2012524381A (ja) | 2009-04-15 | 2012-10-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ボイドを含有する光学フィルムを備える光ガイド及びディスプレイシステム用ブラックライト |
| CN102460125B (zh) | 2009-04-15 | 2015-11-25 | 3M创新有限公司 | 防止光学耦合的光学膜 |
| CN102576100B (zh) | 2009-10-24 | 2016-05-04 | 3M创新有限公司 | 梯度低折射率制品和方法 |
| WO2011050226A1 (en) | 2009-10-24 | 2011-04-28 | 3M Innovative Properties Company | Immersed reflective polarizer with angular confinement in selected planes of incidence |
| WO2011050268A1 (en) | 2009-10-24 | 2011-04-28 | 3M Innovative Properties Company | Immersed reflective polarizer with high off-axis reflectivity |
| US8922733B2 (en) | 2009-10-24 | 2014-12-30 | 3M Innovative Properties Company | Light source and display system incorporating same |
-
2010
- 2010-10-22 US US13/501,304 patent/US10293370B2/en active Active
- 2010-10-22 EP EP14197809.8A patent/EP2848321B1/en not_active Not-in-force
- 2010-10-22 JP JP2012535398A patent/JP5801815B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-22 EP EP10825719.7A patent/EP2490827A4/en not_active Withdrawn
- 2010-10-22 KR KR1020127013261A patent/KR101781661B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-22 WO PCT/US2010/053669 patent/WO2011050232A2/en not_active Ceased
- 2010-10-22 CN CN201080046867.0A patent/CN102574151B/zh not_active Expired - Fee Related
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