JP2013231955A - 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】位相差と表面耐擦傷性を付与することができ、かつ薄型化の要求を満たし、像の映り込みがなく、黒締りにも優れた偏光板を提供することができる光学フィルムであって、長尺ロール状で巻き取っても接着の問題が起こらない光学フィルムを提供する。上記特性を有する光学フィルムを用いた偏光板、液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体の一方の面の最表面に硬化性樹脂組成物からなる光学異方性層を有し、もう一方の面にハードコート層と屈折率が１．２０〜１．４５で平均膜厚が５０〜１２０ｎｍの低屈折率層とを、前記透明支持体、前記ハードコート層及び前記低屈折率層の順で有する光学フィルムであって、
前記低屈折率層が平均粒径３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の無機微粒子Ａと、平均粒径６５ｎｍより大きく１３０ｎｍ以下の無機微粒子Ｂ、及びバインダーを含有し、
無機微粒子Ｂの前記低屈折率層の全固形分に対する含有量が１．５〜１５質量％であり、
低屈折率層を有する側の光学フィルム表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３０μｍ以下であることを特徴とする光学フィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は、透明支持体の一方の面に光学異方性層を有し、他の面にハードコート層、低屈折率層を有する光学フィルム、該光学フィルムを有する偏光板、及び画像表示装置に関する。特に、液晶表示装置用表面フィルムとして好適に用いられる光学フィルム、該光学フィルムを保護フィルムとして含む偏光板、また、前記ハードコート層が視認側に、前記光学異方性層が偏光膜側になるように前記光学フィルムを表面に配置した液晶表示装置に関する。

液晶表示装置（ＬＣＤ）は、薄型、軽量で、かつ消費電力が小さいことから広く使用されている。液晶表示装置は、液晶セル及び偏光板を含む。偏光板は、通常、保護膜と偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、一般的に、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、更には一枚以上の光学補償フィルム（位相差フィルム）が２つの偏光板の内側（液晶セル側）に配置されている。また、光学補償フィルムを前記保護膜として用いることもある。光学補償フィルムとしては例えば、基材フィルム（透明支持体）上にディスコティック液晶性化合物が配向状態を保った状態で固定化された光学異方性層を有するものが広く用いられている。
近年、液晶表示装置の高機能化のために、透過型液晶表示装置を用いた立体画像表示装置の開発が進められている。例えば特許文献１には、立体画像表示方法として、２つの偏光板の内側に液晶セルを配置した透過型液晶表示装置を基本に、λ／４の面内レターデーションを有する位相差フィルム（λ／４板）を視認側偏光板の外側にλ／４板の遅相軸と視認側偏光板の吸収軸が４５°となるように配置し、出射光を円偏光化する時分割２眼立体視の透過型液晶表示装置が記載されている。

λ／４の面内レターデーションを有する位相差フィルムとしては、延伸フィルムを用いるものと、透明支持体上に硬化型液晶性化合物によって形成される光学異方性層を有するものとが挙げられる。
このうち、延伸フィルムは一般に長さ方向又は幅方向に延伸して作成されるため、遅相軸は長さ方向に対し平行又は直交である。
偏光板の作成において、位相差フィルムと偏光子を貼り合わせる場合、位相差フィルムと偏光子がロール・トゥ・ロールで貼合されることが生産効率上好ましい。
一方、液晶表示装置では一般にポリビニルアルコールの延伸フィルムが偏光膜として用いられており、偏光の吸収軸は長さ方向と平行である。
従って、偏光軸に対して４５°方向に遅相軸を有する位相差フィルムと偏光子をロール・トゥ・ロールで貼合するためには４５°方向に遅相軸を有する位相差フィルムのロールフィルムが必要なため、延伸フィルムはロール・トゥ・ロールでの貼り合わせには適さない。
これに対し、硬化型液晶性化合物によって形成される光学異方性層を有する位相差フィルムは、ラビングなどの方法で液晶性化合物の配向方向を制御することで遅相軸の方向を自由に変えることができるため、ロール・トゥ・ロールでの貼り合わせに適している。

特許文献２にはトリアセチルセルロースフィルムを透明支持体として重合性棒状液晶性化合物が配向した長手方向に対して４５°方向に遅相軸を有するロールフィルム状のλ／４板を作成し、それをロール・トゥ・ロールで偏光子と貼合して楕円偏光板を作成できることが示されている。このようにして作成される楕円偏光板は、光学異方性層／配向膜／透明支持体／偏光子／保護フィルムという構成を有し、液晶セルは光学異方性側に、保護フィルムは表示装置の視認側に配置される。
特許文献２に記載はないが、表示装置の表面側に配置される保護フィルムは耐擦傷性の機能付与を目的に通常ハードコートフィルムが保護フィルムとして用いられることが考えられる。
一方、上記特許文献１の時分割２眼立体視の透過型液晶表示装置におけるλ／４板として上記特許文献２に記載の構成の楕円偏光板を用いた場合、光学異方性層が表示装置の視認側に配置されるために、耐擦傷性付与のためにハードコートフィルムが最表面に用いられることが好ましいと考えられる。光学異方性層の表面にハードコートフィルム（通常、透明支持体上にハードコート層を設けてなる）を設けようとすると、ハードコート層／透明支持体／粘着剤層／光学異方性層／配向膜／透明支持体／偏光子／保護フィルムという構成になり、表面の部材（偏光板）が厚くなってしまうという問題が生じる。

特開２０１０−２４３７０５号公報 特開２００７−１５５９７０号公報

このような問題解決のために、本発明者らはハードコート層と光学異方性層の基材の共通化による表面部材の薄型化を検討し、透明支持体の一方の面にハードコート層を積層し、他方の面に光学異方性層に積層することで透明支持体を１つ省略できることに思い至った。すなわち、ハードコート層／透明支持体／（配向膜／）光学異方性層／偏光子／保護フィルムという構成を取ることで偏光板の薄型化が可能になることを見出した。
しかしながら、上記の構成の中で、表面が平滑なハードコート層を設けた構成に於いて、長尺ロール状で保存しておくと、ハードコート面と光学異方性層が接着する問題が起きることが分かった。
像の映り込みを防止するため表面フィルムは、表面の凹凸形状を有する防眩フィルムと、表面が平滑なハードコート上に低屈折率層を設けた反射防止フィルムが現在主流である。上記の構成に於いて接着の問題が起きるのは、表面が平滑な反射防止フィルムに限られる。表面が凹凸な防眩フィルムに対し、表面が平滑な反射防止フィルムは黒締りが良好で根強い人気があり、上記の構成に於いて、接着の問題を解決する技術が望まれていた。

以上をまとめると、本発明の目的は、位相差と表面耐擦傷性を付与することができ、かつ薄型化の要求を満たし、像の映り込みがなく、黒締りにも優れた偏光板を提供することができる光学フィルムであって、長尺ロール状で巻き取っても接着の問題が起こらない光学フィルムを提供することにある。また、上記特性を有する光学フィルムを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することにある。

本発明者ら前記のようにまず、ハードコート層と光学異方性層の基材の共通化による表面部材の薄型化を検討し、ハードコート層を光学異方性層に直接積層することで透明支持体と粘着剤層を省略できることに思い至った。すなわち、低屈折率層／ハードコート層／光学異方性層／配向膜／透明支持体／偏光子／保護フィルムという構成を取ることで薄型化が可能になることを見出した。
上記構成に於いて、像の映り込みを防止しつつ、黒締りを改良するために、ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を設けた。
更にこの構成に於いて低屈折率層に特定サイズの微粒子を含有させることで、位相差と表面耐擦傷性、像の映り込み、黒締りにも優れた性能を維持しつつ長尺ロール上で巻き取っても接着の問題を解決できることを見出し、本発明の完成に至った。

本発明の上記目的は、下記の手段により達成される。
〔１〕
透明支持体の一方の面の最表面に硬化性樹脂組成物からなる光学異方性層を有し、もう一方の面にハードコート層と屈折率が１．２０〜１．４５で平均膜厚が５０〜１２０ｎｍの低屈折率層とを、前記透明支持体、前記ハードコート層及び前記低屈折率層の順で有する光学フィルムであって、
前記低屈折率層が平均粒径３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の無機微粒子Ａと、平均粒径６５ｎｍより大きく１３０ｎｍ以下の無機微粒子Ｂ、及びバインダーを含有し、
無機微粒子Ｂの前記低屈折率層の全固形分に対する含有量が１．５〜１５質量％であり、
低屈折率層を有する側の光学フィルム表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３０μｍ以下であることを特徴とする光学フィルム。
〔２〕
前記無機微粒子Ｂの低屈折率層の全固形分に対する含有量が３．０〜１０質量％であることを特徴とする〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕
前記無機微粒子Ｂの平均粒径が７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする〔１〕または〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕
前記無機微粒子Ｂがシリカ粒子であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔５〕
前記無機微粒子Ａが中空シリカ粒子であることを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔６〕
前記無機微粒子Ａの平均粒径が４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることを特徴とする〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔７〕
前記低屈折率層を有する側の光学フィルム表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）に基づく算術平均面粗さＲａが２〜６ｎｍであることを特徴とする〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に光学フィルム。
〔８〕
前記低屈折率層を有する側の光学フィルム表面のＡＦＭに基づく算術平均面粗さＲａが２．５ｎｍ〜４ｎｍであることを特徴とする〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔９〕
前記低屈折率層に含有されるバインダーの少なくとも１種が下記一般式（１）で表される含フッ素多官能モノマーであることを特徴とする〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
一般式（１）：

（式中、Ｒｆ_１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す。Ｒｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。ｐは３〜１０の整数、ｑは０〜７の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表す。ｒは０〜１００の整数、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０又は１を表す。Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表す。（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２）、（ＯＣＦＲｆ_２）の配置順に制限はない。）
〔１０〕
前記光学フィルムの５５０ｎｍにおける面内レターデーションが８０〜２００ｎｍであることを特徴とする〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔１１〕
前記光学異方性層が液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものである〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔１２〕
前記液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物である〔１１〕に記載の光学フィルム。
〔１３〕
前記光学異方性層が液晶性化合物を固形分濃度で９３質量％以上含有する組成物より形成されたことを特徴とする〔１１〕または〔１２〕に記載の光学フィルム。
〔１４〕
長さ方向を基準に正面レターデーションの遅相軸が時計回り又は反時計回りに５〜８５°であり、長尺ロール状である、〔１〕〜〔１３〕のいずれか１項に記載の光学フィルム。
〔１５〕
少なくとも１つの保護膜と偏光膜とを有し、前記少なくとも１つの保護膜が〔１〕〜〔１４〕のいずれか１項に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの光学異方性層側の表面と前記偏光膜とが貼合された偏光板。
〔１６〕
〔１〕〜〔１４〕のいずれか１項に記載の光学フィルム、又は〔１５〕に記載の偏光板を少なくとも１つ含む画像表示装置。
〔１７〕
視認側から、〔１〕〜〔１４〕のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光膜と、液晶セルとをこの順に有する液晶表示装置であって、低屈折率層が視認側に、前記光学異方性層が前記偏光膜側になるように前記光学フィルムが配置された液晶表示装置。

本発明によれば、ロール状で巻き取った時に接着の問題が起こらず、生産性が高く、表面硬度が高く、像の映り込みがなく、黒締りにも優れ、搭載した画像表示装置の画像品位（光学補償に優れ、クロストークなどがない）にも優れ、偏光板やそれを搭載した画像表示装置の薄型化に好適な光学フィルムを提供することができる。
また、本発明の光学フィルムは、透過型液晶表示装置をベースとした立体型画像表示装置に適している。

本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は、「数値１以上〜数値２以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
本発明の光学フィルムは、透明支持体の一方の面の最表面に硬化性樹脂組成物からなる光学異方性層を有し、もう一方の面にハードコート層と屈折率が１．２０〜１．４５で平均膜厚が５０〜１２０ｎｍの低屈折率層を、透明支持体、ハードコート層、低屈折率層の順で有する光学フィルムであって、
低屈折率層が平均粒径３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の無機微粒子Ａと、平均粒径６５ｎｍより大きく１３０ｎｍ以下の無機微粒子Ｂ、及びバインダーを含有し、
無機微粒子Ｂの前記低屈折率層の全固形分に対する含有量が１．５〜１５質量％であり、
前記低屈折率層を有する側の光学フィルム表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３０μｍ以下であることを特徴とする。

（透明支持体に積層可能な層と、その層構成）
本発明の光学フィルムは、目的に応じて、透明支持体に対し、ハードコート層と低屈折率層を積層した面に、ハードコート層と低屈折率層以外にも必要な機能層を設けることができる。例えば、反射防止層（中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、帯電防止層、紫外線吸収層、防汚層などを設けることができる。

本発明の光学フィルムの光学異方性層は、硬化性樹脂組成物からなる光学異方性層である。前記光学異方性層は、液晶性化合物を含有することが好ましい。液晶化合物を含有する場合、光学異方性層に隣接する層は液晶化合物を配向させるための配向膜層であることが好ましい。
本発明の光学フィルムのより好ましい具体的な層構成の例を下記に示すが、本発明の趣旨を逸脱しない限り、これらに限定されるものではない。

光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。

光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／導電性層／ハードコート層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／導電性層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／導電性層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／導電性層／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／導電性層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／高屈折率層／導電性層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／導電性層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／導電性層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／中屈折率層／導電性層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／（配向膜／）透明支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／導電性層／低屈折率層
一方の面において、各機能層に用いることのできる材料及び詳細な層構成については、特開２０１０−１５２３１１号公報の段落番号００１８〜０１６７、段落番号０１７０〜０１８３、段落番号０１８７〜０２４３に記載されているものを使用できるが、本発明は、これらに限定されるものではない。

次に、本発明の光学フィルムの各々の層について、説明する。
＜透明支持体＞
本発明の光学フィルムでは、透明支持体を使用する。本発明の透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。

また、本発明における透明支持体を形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることが出来る。以下に、本発明の透明支持体の例として、主にセルロースアシレートについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できることは明らかである。

本発明の光学フィルムでは、セルロースアシレートを使用することが好ましい。これは、液晶表示装置に使用する際、光学異方性を制御可能な素材、及び添加剤を使用することにより、あらゆる液晶表示モードに対応することができるからである。

本発明に使用される透明支持体は、厚みが２０〜８０μｍであることが好ましく、３０〜７０μｍであることがより好ましい。厚みが厚すぎると、本発明の光学フィルムをロール状に巻き取った際、巻き芯付近での半径方向応力が大きくなることで、いわゆるブロッキング現象が起こり、接着によって光学フィルムが変形しやすくなる。

＜光学フィルムのヘイズ＞
本発明の光学フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましい。０．７％未満がより好ましく、０．５％未満が最も好ましい。ヘイズを上記範囲とすることにより大きすぎ、光学的な散乱を抑えることができ、本発明の光学フィルムを液晶表示装置に適用する場合に、コントラストの低下を防ぐことができる。

＜低屈折率層＞
本発明の低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．４５であり、１．２５〜１．４３であることがより好ましく、１．３０〜１．４０であることが更に好ましい、屈折率をこの範囲に制御することで、像の映り込みを防止と耐擦傷性を両立することができる。

＜低屈折率層の凹凸＞
本発明の低屈折率層を有する側のフィルム表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に基づく算術平均粗さＲａは０．０３０μｍ以下である。０．０３０μｍより大きいと良好な黒締り性が得がたい。また前記Ｒａは０．００１〜０．０２５μｍであることが好ましく、０．００２〜０．０２０μｍであることがより好ましい。この範囲に制御することで黒締り性を確保することができる。
また、塗膜の白濁を抑えつつ接着跡を低減するという観点から、低屈折率層を有する側のフィルム表面のＡＦＭによる算術平均面粗さＲａは２〜６ｎｍであることが好ましく、２．５〜５ｎｍであることがさらに好ましく、２．５〜４ｎｍであることが最も好ましい。
ここで、算術平均面粗さＲａは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメンツ（株）製）にて１０μｍ角の視野を２５６×２５６の測定点で５視野測定し、得られた画像から各々測定した値の平均値として算出することができる。

＜低屈折率層の粒子＞
本発明の光学フィルムは、低屈折率層に平均粒径の異なる複数種の無機微粒子を含有する。
以下、本発明に使用される平均粒径の異なる複数種の無機微粒子が果たす機能について詳細に説明する。

＜無機微粒子Ａ＞
本発明では、低屈折率層に含有する無機微粒子Ａの平均粒径が、３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下であり、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることがより好ましい。平均粒径が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の粒子は、主に低屈折率層の屈折率を制御する目的で使用することができる。そのため、粒子自身の屈折率が小さいことが好ましい。
本発明において、平均粒径は、無作為に選択された粒子を電子顕微鏡で観察することで算出することができる。本発明では、低屈折率層に含有される任意の粒子を４００個選択し、これらの粒子の粒径分布（粒子径に対する粒子数分布）を求め、その粒子数がピークとなる粒径を平均粒径と定義する。
前記４００個を選択して得られた粒径分布中に、複数のピークが存在する場合には、異なる平均粒径を有する複数種の粒子が含有されるものとする。このとき、前記複数のピークは、前記複数種の粒子が有する各々の平均粒径に相当するものとする。
同じ平均粒径の粒子でも、粒子の形状、材質等、明らかに異なるもの（例えば、不定形の球状でない粒子など）は、別の粒子とみなす。不定形の球状でない粒子の場合の粒径は、球相当の直径を用いて表現する。
また、同一の製造方法及び合成方法で得られた粒子の中で、特異的に大きな粒径のピーク、いわゆる「粗大粒子」とみなされるものは、本発明の趣旨とは合致しないため、本願発明の粒子には含まないものとする。
粒子の屈折率が小さい粒子としては、具体的には、シリカ、フッ化マグネシウム等が挙げられるが、シリカ粒子が好ましい。
シリカ粒子は、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）、スノーテックス（日産化学（株））、ｓｉｃａｓｔａｒ（コアフロント（株））、スルーリア（日揮触媒化成工業（株））などの市販品を使用することができる。

（多孔質又は中空の微粒子）
低屈折率化を図るために、低屈折率層に含まれる無機微粒子のうち少なくとも１種に多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましく、無機微粒子Ａが多孔質又は中空構造の微粒子であることが特に好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。

多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。

多孔質又は中空シリカの製造方法は、例えば特開２００１−２３３６１１や特開２００２−７９６１６に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開２００２−７９６１６号公報に記載の方法で算出することができる。

低屈折率層に含有される、前記無機微粒子Ａの粒子の含有量は全固形分に対して２０〜６０質量％であることが好ましく、２５〜５０質量％であることがさらに好ましく、３０〜４５質量％であることが最も好ましい。少なすぎると、低屈折率化の効果や耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、粒子を保持するバインダーの量が少なくなりすぎて塗膜強度が著しく低下したり、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化したりしてしまう。
本発明においては、低屈折率層の粒子は粒径分布を有していてもよく、その変動係数は好ましくは６０％〜５％、更に好ましくは５０％〜１０％である。
無機微粒子Ａの粒径が小さすぎると、空孔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。

本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ^２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ^２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ^２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることが出来る。

＜無機微粒子Ｂ＞
次に、本発明に使用される、平均粒径が６５ｎｍより大きく１３０ｎｍ以下の無機微粒子Ｂについて説明する。
本発明で無機微粒子Ｂとは、低屈折率層に含有される平均粒径が６５ｎｍよりも大きく１３０ｎｍ以下の無機微粒子のことをいう。
本発明の低屈折率層は、無機微粒子Ｂを全固形分に対して１．５〜１５質量％含有し、その含有量は３．０〜１０質量％であることが好ましく、５．０〜１０．０質量％であることがさらに好ましい。無機微粒子Ｂは、主に、低屈折率層に凹凸を形成する機能を果たす。
無機微粒子Ｂが少なすぎると、凹凸の密度が少なくなってしまい、凹凸以外の平坦な部分が原因となって接着が発生するため、好ましくない。無機微粒子Ｂが多すぎると、表面が白濁して見えるため、好ましくない。屈折率を制御する目的で使用する無機微粒子Ａを緻密に配置し、かつ接着耐性を付与するためには、無機微粒子Ｂの含有比が適切な範囲とする必要がある。

本発明において、無機微粒子Ｂの平均粒径が６５〜１１０ｎｍであることが更に好ましく、７０〜１００ｎｍであることが特に好ましい。平均粒径を上記範囲内とすることで、大きい粒子により光散乱を抑えることができ、ヘイズや塗膜の白濁を抑えることできる。
無機微粒子Ｂとしては、具体的には、シリカ、フッ化マグネシウム等が挙げられるが、シリカ粒子が好ましい。
前記シリカ粒子は、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）、スノーテックス（日産化学（株））、ｓｉｃａｓｔａｒ（コアフロント（株））、スルーリア（日揮触媒化成工業（株））などの市販品を使用することができる。中でも、スノーテックス ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬが好ましい。

（無機微粒子の表面処理方法）
低屈折率層に含有する無機微粒子の少なくとも１種は低屈折率層形成用の塗布組成物への分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされていることが好ましく、無機微粒子Ａの表面がオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされていることがより好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。オルガノシランの構造は特に限定されないが、末端に（メタ）アクリロイル基を有するものがバインダーと結合することで優れた耐擦傷性が得られることから好ましい。具体的な化合物としては、後述の（オルガノシラン化合物）で示される化合物を好適に用いることができる。

＜低屈折率層の厚み＞
本発明の光学フィルムにおいて、前記支持体の一方の面に積層される、低屈折率層の厚みは、５０〜１２０ｎｍであり、７０ｎｍ〜１１０ｎｍであることが好ましい。厚みが薄すぎると、光学フィルム全体の色味を低減し、高品質の液晶表示装置を提供する目的が大きく損なわれるため、好ましくない。また、厚みが厚すぎると、異なる粒子を用いた凹凸が付与できなくなり、接着が発生するため、好ましくない。

＜硬化性組成物＞
本発明の光学フィルムは、透明支持体の一方の面に積層された複数の層のうち、低屈折率層は、前記の平均粒径の異なる複数種の前記粒子を含有する硬化性組成物から形成されてなる。本発明における硬化性組成物は、本発明の目的を達成する限り特に制限はないが、任意の硬化性組成物を使用することができる。
以下、本発明におけるバインダーについて説明する。
上記低屈折率層が含有するバインダー形成材料としては、含フッ素ビニルモノマーを他の共重合成分と共重合してなる含フッ素共重合体を好ましく用いることができる。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では含フッ素共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、２５〜５５質量％となるように導入することがより好ましく、３０〜５０質量％となるように導入することが更に好ましい。

上記含フッ素ビニルモノマーと共重合させる他の共重合成分としては、架橋反応性付与のために下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）で示されるモノマーなどが好ましく挙げられる。

（ａ）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルなどの分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマー。
（ｂ）：カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）。
（ｃ）：分子内に上記（ａ）、（ｂ）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有するモノマー（例えば、ヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できるモノマー）。

上記（ｃ）のモノマーは、架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。

光重合性基を含有する含フッ素共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
ａ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
ｂ．水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
ｃ．エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
ｄ．カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。

上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基、ヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。

本発明に有用な含フッ素共重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。

併用可能な他のビニルモノマーとしては、特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。

本発明で特に有用な含フッ素共重合体は、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４、特開２００４−４５４６２号に記載のものを挙げることができる。

本発明の含フッ素共重合体には、防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分は含フッ素共重合体中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。

本発明に好ましく用いることのできる含フッ素共重合体の好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上、好ましくは１００００〜５０００００、最も好ましくは１５０００〜２０００００である。平均分子量の異なる含フッ素共重合体を併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。

（重合性の不飽和結合を有する化合物）
上記バインダー形成材料としては、重合性の不飽和結合を有する化合物を用いることも好ましい。上記の含フッ素共重合体と重合性の不飽和結合を有する化合物とを特開平１０−２５３８８号公報及び特開２０００−１７０２８号公報に記載のごとく、適宜併用してもよい。また、特開２００２−１４５９５２号に記載のごとく含フッ素共重合体と重合性不飽和結合を有する多官能の含フッ素化合物との併用も好ましい。重合性の不飽和結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。これら化合物は、特に含フッ素共重合体本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性、あるいは薬品処理後の耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、後述するハードコート層に使用するハードコート形成用組成物用硬化性モノマーに記載の化合物が共通で使用できる。

多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
光重合性多官能モノマーの重合反応には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤が好ましく、特に好ましいのは光ラジカル重合開始剤である。

（含フッ素多官能モノマー）
本発明では、硬化性組成物として、重合性基を３つ以上有する含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量の３５．０質量％以上であり、前記重合性基を重合させたとき、すべての架橋間分子量の計算値が３００以下である含フッ素多官能モノマーも好ましく利用できる。

前記含フッ素多官能モノマーとしては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）：

（式中、Ｒｆ_１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す。Ｒｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。ｐは３〜１０の整数、ｑは０〜７の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表す。ｒは０〜１００の整数、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０又は１を表す。Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表す。（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２）、（ＯＣＦＲｆ_２）の配置順に制限はない。）

一般式（１）について説明する。
Ｒｆ_１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す（含フッ素コア部と呼ぶ）。含フッ素コア部の代表的なものとして、下記の具体例が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

上記具体例のうち、Ｒｆ−６、８〜１５、１７が好ましい。上記具体例中、＊は反応性官能基あるいは水酸基に連結する位置を表す。ただし、反応性官能基あるいは水酸基と含フッ素コア部の間に二価の連結基を有していてもよい。
該二価の連結基としては、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒａ）−、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒａ）−を組み合わせて得られる基、炭素数６〜１０のアリーレン基と−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒａ）−を組み合わせて得られる基を表す。Ｒａは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。該二価の連結基がアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、該二価の連結基で表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。

Ｒｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい（酸素原子及び水素原子の両方を含んでもよい）、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。
Ｒｆ_２は、好ましくは炭素数１〜１２の鎖状又は分岐のペルフルオロアルキル基（例えば、トリフルオロメチル、ペルフルオロエチル、ペルフルオロプロピル等）又は炭素数３〜１２のペルフルオロシクロアルキル基（例えば、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロシクロヘキシル等）であり、より好ましくは上記のペルフルオロアルキル基であり、最も好ましくはトリフルオロメチル基である。
ｐは３〜１０の整数を表し、３〜６が好ましく、３〜４がより好ましい。
ｑは０〜７の整数を表し、０〜３が好ましく、０〜１がより好ましく、０が更に好ましい。
（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表し、３〜６が好ましく、３〜４がより好ましい。
ｒは０〜１００の整数を表し、０〜２０が好ましく、１〜５がより好ましく、１が更に好ましい。ｓは０又は１を表し、０が好ましい。ｔは０又は１を表す。
Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表し、水素原子、メチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
一般式（１）において、ｒ＝１〜５、ｓ＝０又は１、ｔ＝０又は１、ｐ＝３〜６、ｑ＝０である場合も好ましい態様である。

前記含フッ素多官能モノマーの他の例としては、具体的には、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２３〕から〔００２７〕に記載のＸ−２〜４、Ｘ−６、Ｘ−８〜１４、Ｘ２１〜３３を好ましく用いることができる。
また、特開２００６−２８４７６１号公報の段落番号〔００６２〕〜〔００６５〕に記載のＭ−１〜Ｍ−１６も好ましく用いることができる。
低屈折率層に用いる無機微粒子Ｂは粒子径が大きいことから凝集すると塗膜表面に不必要に大きな凹凸が形成され白濁が発生しやすい。上記含フッ素化合物を併用することで粒子の凝集が起こりにくくなり、接着跡を防止しつつ塗膜の白濁を抑制することができる。さらには、低屈折率と優れた耐擦傷性を両立することができる。

中でも耐擦傷性と低屈折率の両立という観点から上記Ｘ−２２、及びＭ−１を用いることが特に好ましく、Ｍ−１を用いることが最も好ましい。

また、ＷＯ２００５／０５９６０１号公報の段落番号０１３５〜０１４９に記載の下記化合物も好適に用いることができる。

（上記一般式（Ｉ）中、Ａ^１〜Ａ^６は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、ｎ，ｍ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒは各々独立に、０〜２の整数を表し、Ｒ^１〜Ｒ^６は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）

（上記一般式（ＩＩ）中、Ａ^１１〜Ａ^１４は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、ｓ，ｔ，ｕ，ｖは各々独立に、０〜２の整数を表し、Ｒ^１１〜Ｒ^１４は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）

また、以下に示す化合物ＭＡ１〜ＭＡ２０も好ましく用いることができる。

さらには、特開２００６−２９１０７７号公報の段落番号００１４〜００２８に記載の化合物も好適に用いることができる。

（オルガノシラン化合物）
本発明の光学フィルムを構成する一方の面に積層される層のうちの少なくとも１層は、その層を形成する塗布液中に、オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物の少なくとも一種の成分、いわゆるゾル成分（以降このように称する場合もある）を含有することが耐擦傷性の点で好ましい。
特に本発明の光学フィルムにおいては反射防止能と耐擦傷性を両立させるために、低屈折率層にゾル成分を含有することが好ましい。このゾル成分は、塗布液を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成し上記層のバインダーの一部となる。また、該硬化物が重合性不飽和結合を有する場合、活性光線の照射により３次元構造を有するバインダーが形成される。

オルガノシラン化合物は、下記一般式１で表されるものが好ましい。
一般式１：（Ｒ^１）_ｍ−Ｓｉ（Ｘ）_４−ｍ

上記一般式１において、Ｒ^１は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基か好ましく、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものである。アルキル基の具体例として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。

Ｘは、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ^２ＣＯＯ（Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。例えばＣＨ_３ＣＯＯ、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｍは１〜３の整数を表し、好ましくは１〜２である。

Ｘが複数存在するとき、複数のＸはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ^１に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

Ｒ^１は置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
オルガノシラン化合物としては、一般式２の化合物を出発原料として合成される下記一般式２で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物も好ましい。
一般式２

上記一般式２において、Ｒ_２は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、又は塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、及び塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、及び塩素原子が更に好ましく、水素原子及びメチル基が特に好ましい。
Ｙは単結合もしくは＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＮＨ−＊＊又は＊−Ｏ−＊＊を表し、単結合、＊−ＣＯＯ−＊＊及び＊−ＣＯＮＨ−＊＊が好ましく、単結合及び＊−ＣＯＯ−＊＊が更に好ましく、＊−ＣＯＯ−＊＊が特に好ましい。＊は＝Ｃ（Ｒ_２）−に結合する位置を、＊＊はＬに結合する位置を表す。

Ｌは２価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基（例えば、エーテル、エステル、アミドなど）を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。

ｌはｌ＝１００−ｍの数式を満たす数を表し、ｍは０〜５０の数を表す。ｍは０〜４０の数がより好ましく、０〜３０の数が特に好ましい。
Ｒ_３〜Ｒ_５は、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基、もしくは無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ_３〜Ｒ_５は塩素原子、水酸基、無置換の炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、水酸基、炭素数１〜３のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基もしくはメトキシ基が特に好ましい。
Ｒ_６は水素原子、アルキル基を表す。アルキル基はメチル基、エチル基などが好ましい。Ｒ_７は前述の一般式１のＲ_１で定義された基あるいは水酸基が好ましく、水酸基もしくは無置換のアルキル基がより好ましく、水酸基もしくは炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましく、水酸基もしくはメチル基が特に好ましい。

一般式１の化合物は２種類以上を併用しても良い。特に一般式２の化合物は一般式１の化合物２種類を出発原料として合成される。以下に一般式１の化合物及び一般式２で表される化合物の出発原料の具体例を示すが、限定されるものではない。

ＳＩ−４８ メチルトリメトキシシラン

本発明の所望の効果を得るためには、オルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物における前記ビニル重合性基を含有するオルガノシランの含有量は、オルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物の全量中３０質量％〜１００質量％が好ましく、５０質量％〜１００質量％がより好ましく、７０質量％〜９５質量％が更に好ましい。

上記オルガノシランの加水分解物及びその部分縮合物の少なくともいずれかは塗布品性能の安定化のためには揮発性を抑えることが好ましく、具体的には、１０５℃における１時間当たりの揮発量が５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。

本発明に用いられるゾル成分は上記オルガノシランを加水分解及び／又は部分縮合することにより調製される。
加水分解縮合反応は加水分解性基（Ｘ）１モルに対して０．０５〜２．０モル、好ましくは０．１〜１．０モルの水を添加し、本発明に用いられる触媒の存在下、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。

上記オルガノシランの加水分解物及びその部分縮合物の少なくともいずれかにおいて、ビニル重合性基を含有するオルガノシランの加水分解物及びその部分縮合物いずれかの質量平均分子量は、分子量が３００未満の成分を除いた場合に、４５０〜２００００が好ましく、５００〜１００００がより好ましく、５５０〜５０００が更に好ましく、６００〜３０００が更に好ましい。

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
分散度（質量平均分子／数平均分子量）は３．０〜１．１が好ましく、２．５〜１．１がより好ましく、２．０〜１．１が更に好ましく、１．５〜１．１が特に好ましい。

本発明で用いるオルガノシラン化合物の加水分解物及び部分縮合物について詳細を説明する。
オルガノシランの加水分解反応、それに引き続く縮合反応は、一般に触媒の存在下で行われる。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類；シュウ酸、酢酸、酪酸、マレイン酸、クエン酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類；トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類；トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブチルチタネート、ジブチル錫ジラウレート等の金属アルコキシド類；Ｚｒ、Ｔｉ又はＡｌなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等；ＫＦ、ＮＨ_４Ｆなどの含Ｆ化合物が挙げられる。
上記触媒は単独で使用しても良く、或いは複数種を併用しても良い。

オルガノシランの加水分解・縮合反応は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができるが成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒はオルガノシランと触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。

オルガノシランの加水分解性基１モルに対して０．０５〜２モル、好ましくは０．１〜１モルの水を添加し、上記溶媒の存在下あるいは非存在下に、そして触媒の存在下に、２５〜１００℃で、撹拌することにより行われる。

本発明に用いられる塗布液には、上記ゾル成分及び金属キレート化合物を含む組成物に加えて、β−ジケトン化合物及びβ−ケトエステル化合物の少なくともいずれかが添加されることが好ましい。

上記オルガノシラン化合物の加水分解物及び部分縮合物の含有量は、比較的薄膜である反射防止層の場合は少なく、厚膜であるハードコート層の場合は多いことが好ましい。含有量は効果の発現、屈折率、膜の形状・面状等を考慮すると、含有層（添加層）の全固形分の０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜１５質量％が最も好ましい。
本発明に用いられる低屈折率層形成用の組成物には、＜光重合開始剤＞において後述する光重合開始剤を含有することが好ましい。本発明に係る低屈折率層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、低屈折率層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、低屈折率層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

本発明の光学フィルムにおいて、前記支持体の一方の面に積層する層として最も好ましい例として、ハードコート層について説明する。

＜ハードコート層形成用組成物＞
本発明において、ハードコート層とは、該層を形成することで透明支持体の鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。ハードコート層の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、更に好ましくは１〜３０μｍであり、最も好ましくは１．５〜２０μｍである。
ハードコート層形成用組成物は、硬化性のモノマー、光重合開始剤及び溶剤を含有することが好ましい。使用する溶剤は、硬化性のモノマー、及び光重合開始剤を溶解することができ、ハードコート層形成用組成物を作製することができれば、とくに限定されないが、以下のような溶剤、及び硬化性のモノマーを好ましく使用することができる。

＜溶剤＞
ハードコート層使用する溶剤は、（Ｓ−１）と（Ｓ−２）とから選ばれる少なくとも１種の溶剤と（Ｓ−３）から選ばれる少なくとも１種の溶剤の混合物、又は、（Ｓ−１）から選ばれる少なくとも１種の溶剤と（Ｓ−２）から選ばれる少なくとも１種の溶剤との混合物であることが好ましい。
（Ｓ−１）透明支持体を溶解する溶剤
（Ｓ−２）透明支持体を膨潤する溶剤
（Ｓ−３）透明支持体を溶解も膨潤もしない溶剤

ここで、透明支持体を溶解する溶剤（Ｓ−１）とは、
２４ｍｍ×３６ｍｍの大きさの基材フィルムを該溶剤の入った１５ｃｃの瓶に室温下（２５℃）で６０秒浸漬させて取り出した後に、浸漬させた溶液をゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で分析したとき、透明支持体成分のピーク面積が４００ｍＶ／ｓｅｃ以上である溶剤のことを意味する。若しくは２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍ）の大きさの基材フィルムを該溶剤の入った１５ｃｃの瓶に室温下（２５℃）で２４時間経時させ、適宜瓶を揺らすなどして、フィルムが完全に溶解して形をなくすものも、基材に対して溶解能を有する溶剤を意味する。
また、透明支持体に対して膨潤能を有する溶剤（Ｓ−２）とは、２４ｍｍ×３６ｍｍ（厚み８０μｍに成型）の大きさの基材フィルムを該溶剤の入った１５ｃｃの瓶に縦に入れ、２５℃で６０秒浸漬し、適宜該瓶を揺らしながら観察し、折れ曲がりや変形が見られる溶剤を意味する（フィルムは膨潤した部分の寸度が変化し折れ曲がりや変形として観察される。膨潤能の無い溶剤では折れ曲がりや変形といった変化が見られない）。
また、透明支持体を溶解も膨潤もしない溶剤（Ｓ−３）とは、上記（Ｓ−１）にも（Ｓ−２）にも該当しない溶剤をいう。
透明支持体が組成の異なる複数の材料の積層体である場合には、ハードコート層が塗工される側の透明支持体の最表面の部分の材料を用いて判定する。

以下、透明支持体としてトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合を例に、溶解能又は膨潤能を有する溶剤を例示する。
支持体を溶解する溶剤（Ｓ−１）としては、例えば蟻酸メチル、酢酸メチル、アセトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジオキサン、ジオキソラン、クロロホルム、メチレンクロライド、テトラクロルエタンなどが挙げられる。
支持体を膨潤する溶剤（Ｓ−２）としては、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、酢酸エチル、乳酸エチル、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルが挙げられる。
また、支持体を溶解も膨潤もしない溶剤（Ｓ−３）としては、例えば、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、キシレンが挙げられる。

本発明において用いることのできる溶剤の混合割合について説明する。
本発明において用いることのできる溶剤の好ましい一つの態様は、（Ｓ−１）と（Ｓ−２）とから選ばれる少なくとも１種の溶剤と（Ｓ−３）から選ばれる少なくとも１種の溶剤との混合物である。好ましくは（Ｓ−１）と（Ｓ−３）との併用又は、（Ｓ−２）と（Ｓ−３）との併用である。これらの混合溶液の場合の全溶剤に対する（Ｓ−１）又は（Ｓ−２）の比率は、２０〜９０質量％が好ましく、更に好ましくは３０〜８０質量％である。また、この混合溶剤で使用する形態においては、（Ｓ−１）としては、酢酸メチル又はアセトンが好ましく、更に好ましくは酢酸メチルである。また（Ｓ−２）としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルが好ましく、更に好ましくはメチルエチルケトン、酢酸エチル、炭酸ジメチルである。
本発明において用いることのできる溶剤の好ましい別の態様は、（Ｓ−１）から選ばれる少なくとも１種の溶剤と（Ｓ−２）から選ばれる少なくとも１種の溶剤との混合物である。（Ｓ−１）と（Ｓ−２）との比率（質量比）は、９０：１０〜１０：９０が好ましく、更に好ましくは８０：２０〜２０：８０であり、最も好ましくは３０：７０〜７０：３０である。

ハードコート層組成物の溶剤は、液晶性化合物を含有する層のフッ素系の配向助剤の溶解性が高いものが好ましく、酢酸メチル、メチルエチルケトン、炭酸ジメチルを含有していることが特に好ましい。上記溶剤組成にすることで、透明支持体とハードコート層との間には化合物分布（透明支持体成分とハードコート層成分）が透明支持体側からハードコート層側にかけて徐々に変化するグラデーション領域を形成することができる。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分のみが含まれており、透明支持体成分を含まない部分を指し、透明支持体とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
グラデーション領域の厚さは、干渉ムラ抑制の観点から、ハードコート層の厚さに対して５％以上２００％以下であることが好ましく、５％以上１５０％以下であることが更に好ましく、５％以上９５％以下であることが最も好ましい。
上記の領域が好ましい理由として、この範囲のグラデーション領域を形成することで、透明支持体とハードコート層の間に屈折率差があっても干渉ムラが起こりにくい。また、グラデーション領域が薄ければ、ハードコート厚みがその分厚くなるので良好なハードコート性（高硬度・低カール）を保ちやすいためである。
また、グラデーション領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、透明支持体成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。

本発明のハードコート層形成用組成物中の全溶剤量は、組成物中の固形分の濃度が、好ましくは１〜７０質量％の範囲、より好ましくは２０〜７０質量％の範囲、更に好ましくは４０〜７０質量％が好ましく、４５〜６５質量％がより好ましく、５０〜６５質量％が更に好ましく、５５〜６５質量％が最も好ましい。

＜ハードコート層形成用組成物に使用できる硬化性モノマー＞
本発明のハードコート層形成用組成物に使用可能な、硬化性モノマーの好ましい態様について以下に説明する。

本発明では、ハードコート層形成用組成物として、１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物を好ましく使用することができる。１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物はハードコート層のバインダー及び硬化剤として機能することができ、塗膜の硬度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。 １分子中の官能基の数は、３〜２０であることが
好ましく、３〜１０であることがより好ましく、３〜６であることが更に好ましい。
１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物は、本発明のハードコート層形成用組成物において２種類以上併用することも好ましい。

１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の不飽和二重結合）を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２を有する化合物好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。

重合性の官能基を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物としては市販されているものを用いることもできる。例えば、（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−３０、同ＰＥＴ３０、新中村化学工業（株）製Ａ−ＴＭＭＴを挙げることができる。また、ポリウレタンポリアクリレートとしては、新中村化学工業（株）１５ＨＡ、同Ｕ４ＨＡ、同ＵＡ３０６Ｈ、同ＥＢ５１２９等を挙げることができる。

本発明に係るハードコート層形成用組成物中の１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９９質量％が好ましく、４５〜９９質量％がより好ましく、５０〜９９質量％が更に好ましく、５５〜９５質量％が最も好ましい。

また、本発明では、１分子中に３つ以上の官能基を有するウレタンアクリレート化合物を使用することができる。

本発明では上記の１分子中に３つ以上の官能基を有する化合物に対して、１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物を併用することも好ましい。１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基（重合性の不飽和二重結合）を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２を有する化合物好ましい。１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物は透明支持体へ浸透しやすく、上記の化合物と併用することで、グラデーション領域を形成し、かつグラデーション層とハードコート層の屈折率界面をなくす効果を得やすい。

１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物の具体例としては、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのエチレンユニット繰り返し数８以下のポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、などのプロピレンユニット繰り返し数６以下のポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（メタクリロキシ・エトキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
イソボルニル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート、エトキシ化フェニル（メタ）アクリレート、β−カルボキエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等の単官能の（メタ）アクリル酸エステル類；
等が挙げられる。

１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物としては市販されているものを用いることもでき、日油株式会社製のブレンマーＥ、同ブレンマーＰＥ―９０、同ブレンマーＧＭＲ、同ブレンマーＰＭＥ−１００、同ブレンマーＰＭＥ−２００、同ブレンマーＰＭＥ−４００、同ブレンマーＰＤＥ―２００、同ブレンマーＰＤＥ―４００、新中村化学社製のＡＢＥ１０、同ＡＢＥ３００、同Ａ−２００、同Ａ−４００、大阪有機化学工業株式会社製のビスコート＃１９５、ダイセル工業のＥＢ４８５８等を挙げることができる。

本発明に係るハードコート層形成用組成物中の１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物の含有量は、ハードコート組成物中に含まれる多官能材料に対して０質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。０．５〜９質量％がより好ましく、０．５〜８質量％がさらに好ましい。１分子中に２つ以下の官能基を有する化合物の添加量を上げることでカールが顕著に良化する一方、多量に添加しすぎると鉛筆硬度が下がる場合もあり、カールを良化させつつも硬度が良い領域をとる観点からは前記添加量領域が好ましい。
ただし上記添加量は、単官能の化合物と２官能の化合物とで最適範囲が±５％ずれてもよい。これは２官能の化合物の使用時に比べて単官能の化合物の使用時のカール良化効果が大きいためである。

また、別の好ましいハードコート層モノマー第３の態様は、ハードコート層形成用組成物に含有されるモノマーの少なくとも一部が下記（Ａａ）である。
（Ａａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）
［（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物］
本発明のハードコート層形成用組成物に含まれる前記（ａ）光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−構造を有するポリエチレンオキシド化合物（ｎは１〜５０の数を表す）について説明する。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物は、光重合可能な基を１つ以上有し、かつ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−構造を有する（ｎは１〜５０の数を表す）。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基の数としては、ブリードアウトを抑止し、かつハードコート層の硬度を阻害しない観点から官能基等量として１０〜２０００ｇ・ｍｏｌ^−１が好ましく、５０〜１０００ｇ・ｍｏｌ^−１がより好ましく、１００〜５００ｇ・ｍｏｌ^−１が更に好ましい。更に具体的な官能基数としては、１〜１８個が好ましく、２個又は３個がより好ましく、２個が更に好ましい。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物が有する光重合可能な基としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基、などが挙げられ他の不飽和二重結合を有する化合物との反応性が良好である観点から、（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、より好ましくはアクリロイルオキシ基である。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物において、ｎは繰り返し数を表し、１〜５０の数を表す。ｎは１〜３０が好ましく、３〜２０がより好ましい。
特に、（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が２つの場合は、ｎは１〜２０が好ましく、３〜１５がより好ましい。（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が２つの場合は、ｎが２０以下であるとハードコート層の硬度が向上するため好ましい。また、ｎが１以上であることでカール低減に優れるため好ましい。
また、（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物において光重合可能な基が３つの場合は、ｎは１〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましい。これは、ｎが２の場合よりも架橋密度が高くなるため、カールを低減させるにはポリエチレンオキシド鎖がより長い方に最適値がかわるためであると考えられる。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物に含まれる−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−構造の数は、１分子中に含まれる−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−構造のトータル個数で比較すると、ポリエチレンオキシド鎖が長い方がカール低減に有利である点から少ないほうが好ましく、６つ以内がより好ましく、４つ以内が更に好ましく、１つが特に好ましい。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物の分子量は１０００以下が好ましい。分子量が１０００以下であるとハードコート層の硬度が向上し、カール低減効果も大きいため好ましい。これは、（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物の分子量が１０００以下であると、（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物が透明支持体表面に集まりにくくなるためであると考えられる。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物は、光重合可能な基と、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−構造とを含むが、これら以外の構造を含んでもよい。例えば、アルキレン、アミド結合、スルホニルアミド結合、チオアミド結合、エーテル結合、エステル結合、ウレタン結合などが挙げられる。
カール低減効果が最も発現しやすいという理由から、（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物は、好ましくは光重合可能な基と、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）ｎ−構造とからなるものである。
（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物は、分岐状又は直線状の構造を有していてもよいが、一分子中に含まれる（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）構造の数が等しい分岐状と直線状の構造を有する化合物を比較すると、分岐炭素部分はカール低減効果がないため、直線状の化合物の方がより有利にカールを低減できるという観点から、好ましくは直線状の構造を有する化合物である。
（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物の特に好ましい構造としては、１つの−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−構造の両末端に光重合可能な基が結合した構造であり、下記一般式（ａ１）で表される化合物であることが好ましい。

上記式中、ＲＡ及びＲＢは各々独立に水素原子又はメチル基を表す。ｎは前記と同義であり、好ましい範囲も同様である。なかでも、ｎ≒９であるものが最も好ましい。

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物の具体例を以下に示すが、これらに限定されない。なお、エチレンオキシドを「ＥＯ」と略する。
ＥＯ付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート
ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート
ＥＯ変性ジグリセリンテトラアクリレート

（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物は、例えば、特開２００１−１７２３０７号公報、特許第４５０６２３７号公報などに記載の方法により合成することができる。また、（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物としては市販品を用いることもできる。市販品としては、新中村化学工業（株）製の「Ａ−４００」、日油（株）製の「ブレンマーＰＰ−５００」、「ブレンマーＰＭＥ−１０００」、大阪有機化学工業（株）製の「ビスコートＶ♯３６０」、共栄社化学製の「ＤＧＥ−４Ａ」などが好ましく挙げられる。

本発明のハードコート層形成用組成物中の（Ａａ）ポリエチレンオキシド化合物の含有量は、ハードコート層の硬度を低減しない範囲でカール低減効果にも優れるという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して０質量％〜４０質量％が好ましく、３質量％〜３０質量％がより好ましく、５質量％〜２０質量％が更に好ましい。

＜光重合開始剤＞
本発明に係るハードコート層形成用組成物に、光重合開始剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

本発明に係るハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

透明支持体としてトリアセチルセルロースフィルムを用いる場合を例に、溶解能又は膨潤能を有する溶剤を例示する。
支持体を溶解する溶剤としては、例えば蟻酸メチル、酢酸メチル、アセトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジオキサン、ジオキソラン、クロロホルム、メチレンクロライド、テトラクロルエタンなどが挙げられる。
支持体を膨潤する溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、酢酸エチル、乳酸エチル、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチルが挙げられる。
また、支持体を溶解も膨潤もしない溶剤としては、例えば、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、キシレンが挙げられる。
本発明の目的及び効果を損なわない限り、ハードコート層形成用組成物には、これらの溶剤を適切に組み合わせることができる。

本発明において、ハードコート層形成用組成物には、ハードコート層の膜厚ムラを制御するため、レベリング剤を使用することができる。本発明の目的及び効果を損なわない限り、あらゆるレベリング剤を使用することができる。好ましいレベリング剤としては、特許４４７４１１４号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーも好ましい。特許４４７４１１４号に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーの組成比違いとして、フルオロ脂肪族基含有の重合単位の比率が５０〜７０％の範囲のフルオロ脂肪族基含有ポリマーもレベリング剤として用いることもできる。

また、シリコーン系化合物もレベリング剤として用いることが可能である。シリコーン系化合物としては、変性シリコーンが好ましい。変性に用いられる官能基としては、例えば、ポリエーテル基、ポリウレタン基、エポキシ基、カルボキシル基、（メタ）アクリレート基、カルビノール基、水酸基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキサイド基などが挙げられる。

本発明において、レベリング剤は、ハードコート層の塗布ムラを解消するために、ハードコート層表面に十分量が並ぶことが望ましい。しかしながら、ハードコート層の上に反射防止層を積層する際、ハードコート層に含有されたレベリング剤が、ハードコート層と反射防止層との界面に残ったままだと密着性を悪化させ、耐擦傷性を著しく減損させてしまう。このため、レベリング剤は反射防止層を積層した際に速やかに反射防止層中に抽出され、界面に残らないことが重要となる。

本発明に係るハードコート層形成用組成物中のレベリング剤の含有量は、十分なレベリング性を付与して塗布ムラを改良してかつハードコート層と他の層の界面に残存しないよう十分少なく設定する必要がある理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．０００５質量％〜２．５質量％が好ましく、０．００５質量％〜０．５質量％がより好ましい。０．５質量％よりも多いと、使用する硬化性モノマーと溶剤の種類によっては、レベリング剤が原因となる相分離が発生し、均一なハードコート層を形成できなくなるため、好ましくない。

＜導電性化合物＞
本発明の光学フィルムにおけるハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、レベリング剤の表面偏在性を向上させることができ、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。

本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に透明支持体側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。

４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、透明支持体側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ_２ＣＯＯ−Ｍ^＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ−Ｍ^＋を表す。Ｍ^＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ_２、Ｒ_２’及びＲ_２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、又はこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ⁻はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ_３とＲ_４及びＲ_５とＲ_６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−又は―Ｒ_２３ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−又は―Ｒ_２３ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−又は−ＮＨＣＯＲ_２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１４、Ｒ_１５、Ｒ_１６、Ｒ_１７、Ｒ_１９、Ｒ_２０、Ｒ_２２、Ｒ_２３、Ｒ_２５及びＲ_２６はアルキレン基を表す。Ｒ_１０、Ｒ_１３、Ｒ_１８、Ｒ_２１及びＲ_２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ^‐はアニオンを表す。Ｚ_１、Ｚ_２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ^＋［Ｘ⁻］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。

一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

一般式（Ｉ）において、Ｒ_１は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ_２、Ｒ_２’及びＲ_２’’は各々メチル基である。
Ｘ⁻は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。

一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ⁻は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基であることが好ましい。Ｚ_１、Ｚ_２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。

以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｚ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｚ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。

上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。

電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。

また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。

電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。

電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。 好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン
、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。

本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。

本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。

導電性化合物として４級アンモニウム塩基を有する化合物が用いられる場合、元素分析（ＥＳＣＡ）による帯電防止層表面側の窒素又は硫黄の窒素原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。

本発明のハードコート層形成用組成物は、導電性化合物を含有しても含有しなくてもよいが、含有する場合は、導電性化合物の含有量は、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して５〜２０質量％が好ましく、１０〜１５質量％がより好ましい。

＜塗布方法＞
本発明の光学フィルムにおいて、前記透明支持体の一方の面に複数の層を積層する際、以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、各層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。その後、乾燥工程に於いて溶剤を取り除かれる。乾燥工程としては、塗布直後に乾燥ゾーンを設け、乾燥ゾーン内の環境を制御することで乾燥速度を制御する乾燥工程を設置することが好ましく、特開２００３−１０６７６７号に記載されているような、塗布直後の走行位置にほぼ並行に板状部材である凝縮板を設置し、凝縮板と塗布膜の距離や凝縮板の温度を制御して、塗布液中の溶媒を凝縮、回収させる乾燥装置を配置する乾燥工程を設置することがより好ましい。
その後光照射あるいは加熱して、各層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより各層が形成される。

＜前記透明支持体の他方の面の複数層＞
本発明では、透明支持体の一方の面に複数の層を積層し、前記複数の層の低屈折率層の表面に凹凸を形成するが、透明支持体の他方の面に、更に複数の層を積層する。これら複数の層には、様々な機能を付与することができるが、一方の層に付与された機能とは異なる機能を付与した層を他方の層に積層する。例えば、導電性層、輝度向上層、光学異方性層、易接着層、屈折率制御層、防湿層、配向膜層などが挙げられる。
本発明において、前記複数の層のうち、透明支持体から最も遠い層（いわゆる最外層）が、硬化性樹脂組成物からなる光学異方性層である。

本発明の光学フィルムは、一方の面と他方の面のどちらを先に積層してもよい。一方の面を積層し、凹凸を形成した後、他方の面に別の方法で積層し、光学フィルムを作製することができる。一方の面と他方の面を同時に積層することにより、光学フィルムを作製することができる。本発明の光学フィルムは、凹凸を積層する前に、他方の面を積層し、その後凹凸を付与する一方の面を積層する方法で、本発明の光学フィルムを作製することが好ましい。
また、透明支持体の表裏については特に制限を設けないが、透明支持体にナーリングが設けられている際、凹凸を付与しない面をナーリングの凹凸面として、一方の面及び他方の面を積層することが好ましい。

本発明の光学フィルムは、透明支持体上に積層された、一方の面の二重結合反応率Ａが６０％以上であることが好ましい。７０％以上がより好ましく、８０％以上が最も好ましい。
本発明の光学フィルムは、前記透明支持体上に積層された一方の面とは反対側の、他方の面の二重結合反応率Ｂが７０％以上であることが好ましい。７５％以上であることがより好ましく、８０％以上が最も好ましい。
上記二重結合反応率Ａが小さいと、光学フィルムをロール状に巻き取り、バルク状態で経時後に、一方の面の積層物が、他方の面に転写してしまうため、好ましくない。一方、上記二重結合反応率Ｂが小さいと、光学フィルムをロール状に巻き取り、バルク状態で経時後に、他方の面が一方の面に転写してしまうため、好ましくない。

前記他方の面に積層する層の好ましい一例として、光学異方性層、及び配向膜について詳細に説明する。
先にも述べたように、光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。ここでは、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層について説明する。
なお、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層については、例えば、光配向膜とパターン露光を組み合わせた技術が特表２０１２−５１７０２４号公報（ＷＯ２０１０／０９０４２９号公報）に記載されており、このようなパターンを形成した光学異方性層を光学フィルムにおいて好ましく用いることができる。

［光学異方性層］
本発明においては、各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が一つの好ましい態様である。
まず、光学特性の測定方法について説明する。本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、後述する光学異方性層中のディスコティック液晶分子の配向膜側の平均チルト角、その反対側の平均チルト角の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（ＩＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。

・・・・・・式（Ａ）
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。
本発明において、正面レターデーションとは、波長５５０ｎｍ及びθが０度で測定したときの式（Ａ）のＲｅ（θ）を指す。
本発明の光学フィルムは、正面レターデーションが８０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであることがより好ましく、１１５ｎｍ〜１５０ｎｍであることが更に好ましく、１２０〜１４５ｎｍであることが最も好ましい。
また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（ＩＩＩ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
本発明の光学フィルムは、長尺ロール状の光学フィルムであって、長さ方向（長尺方向）を基準に正面レターデーションの遅相軸が時計回り又は反時計回りに５〜８５°であることが好ましい。

［液晶性化合物を含む光学異方性層］
本発明の光学フィルムが有し得る光学異方性層の形成に用いられる液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。

前記光学異方性層において、液晶性化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。視野角依存性が対称である位相差板を作製するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直であるか、又は、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度の平均値が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が更に好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°が更に好ましい。
液晶性化合物の分子をハイブリッド配向させて視野角依存性が非対称である光学補償フィルムを作製する場合、液晶性化合物のダイレクターの平均傾斜角は５〜８５°であることが好ましく、１０〜８０°であることがより好ましく、１５〜７５°であることが更に好ましい。

前記光学フィルムは、液晶性化合物を含有する光学異方性層を含むが、該光学異方性層は一層のみからなっていてもよいし、二層以上の光学異方性層の積層体であってもよい。

前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、後述する重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。
本発明において、光学異方性層が液晶性化合物を固形分濃度で８０質量％以上含有する組成物より形成されていることが好ましく、８５質量％以上含有する組成物より形成されていることが好ましく、固形分濃度で９３質量％以上含有する組成物より形成されていることが更に好ましい。含有量をこの範囲にすることで本発明における低屈折率層と組み合わせた時に接着性の改良効果が大きくて好ましい。

［ディスコティック液晶性化合物］
本発明では、前記光学フィルムが有する光学異方性層の形成に、ディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

本発明において好ましく用いることのできるディスコティック液晶性化合物の具体例としては、特開２００９−９７００２号公報［００３８］〜［００６９］記載の化合物が挙げられる。また、トリフェニレン化合物で、波長分散の小さいディスコティック液晶性化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられる。

［棒状液晶性化合物］
本発明では、棒状液晶性化合物を用いてもよい。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。

［垂直配向促進剤］
前記光学異方性層を形成する際に、液晶性化合物の分子を均一に垂直配向させるためには、配向膜界面側及び空気界面側において液晶性化合物を垂直に配向制御可能な配向制御剤を用いるのが好ましい。この目的のために、配向膜に、排除体積効果、静電気的効果又は表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を、液晶性化合物とともに含有する組成物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。また、空気界面側の配向制御に関しては液晶性化合物の配向時に空気界面に偏在し、その排除体積効果、静電気的効果、又は表面エネルギー効果によって液晶性化合物を垂直に配向させる作用を及ぼす化合物を、液晶性化合物とともに含有する組成物を用いて光学異方性層を形成するのが好ましい。このような配向膜界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（配向膜界面側垂直配向剤）としては、ピリジニウム誘導体が好適に用いられる。空気界面側で液晶性化合物の分子を垂直に配向させるのを促進する化合物（空気界面側垂直配向剤）としては、該化合物が空気界面側に偏在するのを促進する、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含む化合物が好適に用いられる。また、これらの化合物を配合することによって、例えば、液晶性組成物を塗布液として調製した場合に、該塗布液の塗布性が改善され、ムラ、ハジキの発生が抑制される。以下に垂直配向剤に関して詳細に説明する。

［配向膜界面側垂直配向剤］
本発明に使用可能な配向膜界面側垂直配向剤としては、ピリジニウム誘導体（ピリジニウム塩）が好適に用いられ、化合物の具体例としては、特開２００６−１１３５００号公報明細書中［００５８］〜［００６１］に記載の化合物が挙げられる。

前記光学異方性層形成用の組成物中における前記ピリジニウム誘導体の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、前記組成物（塗布液として調製した場合は溶媒を除いた液晶性組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましい。

［空気界面側垂直配向剤］
本発明における空気界面側垂直配向剤としては、下記フッ素系ポリマー（式（ＩＩ）を部分構造として含む）又は一般式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物が好適に用いられる。

まずフッ素系ポリマー（式（ＩＩ）を部分構造として含む）について説明する。本発明の空気界面側垂直配向剤としては、フッ素系ポリマーが、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位と下記式（ＩＩ）で表される繰り返し単位とを含む共重合体であることが好ましい。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、
Ｌは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し、
（連結基群）
［単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ^４−（Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ_２−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ_５）−（Ｒ_５はアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基］
Ｑはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）若しくはその塩、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）若しくはその塩、又はホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２｝若しくはその塩を表す。

本発明に使用可能なフッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）、ホスホノキシ基｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを含有することを特徴とする。ポリマーの種類としては、「改訂 高分子合成の化学」（大津隆行著、発行：株式会社化学同人、１９６８）１〜４ページに記載があり、例えば、ポリオレフィン類、ポリエステル類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリスルホン類、ポリカーボナート類、ポリエーテル類、ポリアセタール類、ポリケトン類、ポリフェニレンオキシド類、ポリフェニレンスルフィド類、ポリアリレート類、ＰＴＦＥ類、ポリビニリデンフロライド類、セルロース誘導体などが挙げられる。前記フッ素系ポリマーは、ポリオレフィン類であることが好ましい。

前記フッ素系ポリマーは、フルオロ脂肪族基を側鎖に有するポリマーである。前記フルオロ脂肪族基は、炭素数１〜１２であるのが好ましく、６〜１０であるのがより好ましい。脂肪族基は、鎖状であっても環状であってもよく、鎖状である場合は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、直鎖状の炭素数６〜１０のフルオロ脂肪族基が好ましい。フッ素原子による置換の程度については特に制限はないが、脂肪族基中の５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましい。フルオロ脂肪族基は、エステル結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、エーテル結合、チオエーテル結合、芳香族環などを介してポリマー主鎖と結合した側鎖に含まれる。

フッ素系ポリマーとして本発明に好ましく用いられるフルオロ脂肪族基含有共重合体の具体例として、特開２００６−１１３５００公報の段落［０１１０］〜［０１１４］に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はそれら具体例によってなんら制限されるものではない。

本発明に用いる前記フッ素系ポリマーの質量平均分子量は１，０００，０００以下であるのが好ましく、５００，０００以下であるのがより好ましく、１００，０００以下であるのが更に好ましい。質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定可能である。

なお、本発明のフッ素系ポリマーは、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。

組成物中における前記フッ素系ポリマーの含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、光学異方性層の形成に用いる場合は、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜３質量％であるのが更に好ましい。前記フッ素系ポリマーの添加量が０．００５質量％未満では効果が不十分であり、また８質量％より多くなると、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり、光学フィルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼす。

下記一般式（ＩＩＩ）で表される含フッ素化合物。
一般式（ＩＩＩ）
（Ｒ^０）_ｍ−Ｌ^０−（Ｗ）_ｎ
式中、Ｒ^０はアルキル基、末端にＣＦ_３基を有するアルキル基、又は末端にＣＦ_２Ｈ基を有するアルキル基を表し、ｍは１以上の整数を表す。複数個のＲ^０は同一でも異なっていてもよいが、少なくとも一つは末端にＣＦ_３基又はＣＦ_２Ｈ基を有するアルキル基を表す。Ｌ^０は（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｗはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）若しくはその塩、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）若しくはその塩、又はホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２｝若しくはその塩を表し、ｎは１以上の整数を表す。

本発明に使用可能な一般式（ＩＩＩ）にて表される含フッ素化合物の具体例として、特開２００６−１１３５００公報の段落［０１３６］〜［０１４０］に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はそれら具体例によってなんら制限されるものではない。

なお、本発明の含フッ素化合物は、ディスコティック液晶性化合物の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。

組成物中における前記含フッ素化合物の含有量の好ましい範囲は、その用途によって異なるが、光学異方性層の形成に用いる場合は、組成物（塗布液である場合は溶媒を除いた組成物）中、０．００５〜８質量％であるのが好ましく、０．０１〜５質量％であるのがより好ましく、０．０５〜３質量％であるのが更に好ましい。

［重合開始剤］
配向（好ましくは垂直配向）させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定する。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基（Ｐ）の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることが更に好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ^２であることが更に好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下や０．１％以下の低酸素濃度化で光照射を実施してもよい。液晶性化合物を含有する光学異方性の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることが更に好ましく、１〜５μｍであることが最も好ましい。

［光学異方性層の他の添加剤］
上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの素材は液晶性化合物と相溶性を有し、配向を阻害しないことが好ましい。

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落番号［００６９］〜［０１２６］記載の化合物が挙げられる。

液晶性化合物とともに使用するポリマーは、塗布液を増粘できることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃が更に好ましい。

［塗布溶剤］
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

［塗布方法］
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

［配向膜］
本発明では、配向膜の表面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させるのが好ましい。配向膜は液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有するため、本発明の好ましい態様を実現する上で利用するのが好ましい。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを別の透明支持体上に転写して本発明の光学フィルム用光学基材を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。更に、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。

ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが更に好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％が更に好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は１００〜５０００であることが好ましい。

前記配向膜において、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％が更に好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることが更に好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤及び添加剤を含む溶液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることが更に好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。

配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５が好ましい。

配向膜は、透明支持体上に設けられることが好ましい。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。

前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。

配向膜のラビング処理面に前記組成物を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させることで、前記光学異方性層を形成することができる。

［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルムであることが好ましい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

光学フィルムの液晶性化合物を含有する光学異方性層側が接着剤又は他の基材を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましく、更に好ましくは、光学フィルムの光学異方性層が接着剤を介して直接偏光膜に接着している構成である。光学異方性層と偏光膜の間の接着性を改良するために、光学異方性層の表面は表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理、溶剤洗浄）を実施することが好ましい。また、光学異方性層の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
また、偏光板を構成するもう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、λ／４膜などに期待される光学性能に加え、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。

また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。

［画像表示装置］
本発明の光学フィルム及び偏光板は、有機ＥＬ、タッチパネル、３Ｄ表示装置、３Ｄ表示装置観察用メガネなどの用途で画像表示装置の表面に用いることができる。中でも３Ｄ表示装置に用いられることが好ましく、時分割２眼立体視の透過型液晶表示装置に用いられることが特に好ましい。
視認側から、本発明の光学フィルムと、偏光膜と、液晶セルとをこの順に有する液晶表示装置であって、低屈折率層が視認側に、前記光学異方性層が前記偏光膜側になるように前記光学フィルムが配置された液晶表示装置であることが好ましい。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

［実施例１］
（光学フィルム１０１の作製）
《液晶性化合物を含む光学異方性層の形成》
（アルカリ鹸化処理）
透明支持体として、ＴＤ８０ＵＬ（富士フィルム（株）製、厚み８０μｍ）を用い、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

（アルカリ溶液組成）
────────────────────────────────────
アルカリ溶液組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────
（配向膜の形成）
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製）０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

上記式中、繰り返し単位比８６．３：１２：１．７はモル比である。
質量平均分子量（Ｍｗ）は１００００である。
（ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は反時計回りに４５°の方向とした。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ａ）を上記作製した配向膜上に＃３．６のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶性化合物の配向を固定化し厚さ１．６μｍの光学異方性層を形成し、ロール形態に巻き取ることで、光学異方性層付き透明支持体１を得た。
作製した光学異方性層付き透明支持体１は、５５０ｎｍにおけるＲｅが１２５ｎｍ、Ｎｚ値は０．９であった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。

光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物 ９１質量部
下記アクリレートモノマー ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン ２５２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

ディスコティック液晶性化合物

アクリレートモノマー：
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）

上記式中、繰り返し単位比９８：２は質量比である。
＜反射防止層の形成＞
（ハードコート層用組成物の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用組成物（固形分濃度５８質量％）とした。
溶剤
酢酸メチル ３６．２質量部
メチルエチルケトン ３６．２質量部
（ａ）モノマー：ＰＥＴＡ ７７．０質量部
（ｂ）モノマー：ウレタンアクリレートモノマー ２０．０質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３．０質量部
レベリング剤（ＳＰ−１３） ０．０２質量部

それぞれ使用した化合物を以下に示す。

上記式中、繰り返し単位比６０：４０は質量比である。
ＰＥＴＡ：新中村化学工業（株）製、下記構造の化合物。質量平均分子量は３２５で、１分子中の官能基の数は３．５（平均値）。

ウレタンアクリレートモノマー：下記構造の化合物。質量平均分子量は５９６で、１分子中の官能基の数は４。

＜低屈折率層用組成物の調製＞
（エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体Ａ（メタアクリル変性フッ素重合体）の合成）
まず、水酸基含有含フッ素重合体の合成を行った。内容積２．０リットルの電磁攪拌機付きステンレス製オートクレーブを窒素ガスで十分置換した後、酢酸エチル４００ｇ、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）５３．２ｇ、エチルビニルエーテル３６．１ｇ、ヒドロキシエチルビニルエーテル４４．０ｇ、過酸化ラウロイル１．００ｇ、下記式（７）で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサン（ＶＰＳ１００１（商品名）、和光純薬工業（株）製）６．０ｇ及びノニオン性反応性乳化剤（ＮＥ−３０（商品名）、旭電化工業（株）製）２０．０ｇを仕込み、ドライアイス−メタノールで−５０℃まで冷却した後、再度窒素ガスで系内の酸素を除去した。

上記式中、ｙは１０〜５００、ｚは１〜５０である。
次いでヘキサフルオロプロピレン１２０．０ｇを仕込み、昇温を開始した。オートクレーブ内の温度が６０℃に達した時点での圧力は５．３×１０^５Ｐａを示した。その後、７０℃で２０時間攪拌下に反応を継続し、圧力が１．７×１０^５Ｐａに低下した時点でオートクレーブを水冷し、反応を停止させた。室温に達した後、未反応モノマーを放出してオートクレーブを開放し、固形分濃度２６．４質量％のポリマー溶液を得た。得られたポリマー溶液をメタノールに投入しポリマーを析出させた後、メタノールにて洗浄し、５０℃にて真空乾燥を行い２２０ｇの水酸基含有含フッ素重合体を得た。これを水酸基含有含フッ素重合体とする。使用した単量体と溶剤を表１に示す。

得られた水酸基含有含フッ素重合体に付き、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量を測定した。また、^１Ｈ−ＮＭＲ、^１３Ｃ−ＮＭＲの両ＮＭＲ分析結果及び元素分析結果から、水酸基含有含フッ素重合体を構成する各単量体成分の割合を決定した。結果を表２に示す。

なお、ＶＰＳ１００１は、数平均分子量が約６０，０００、ポリシロキサン部分の分子量が約１０，０００の、前記式（７）で表されるアゾ基含有ポリジメチルシロキサンである。

続いて、得られた水酸基含有含フッ素重合体を用いてエチレン性不飽和基含有フッ素重合体Ａを合成した。電磁攪拌機、ガラス製冷却管及び温度計を備えた容量１リットルのセパラブルフラスコに、水酸基含有含フッ素重合体を５０．０ｇ、重合禁止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチルメチルフェノール０．０１ｇ及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）３７０ｇを仕込み、２０℃で水酸基含有含フッ素重合体がＭＩＢＫに溶解して、溶液が透明、均一になるまで攪拌を行った。
次いで、この系に、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを１５．１ｇ添加し、溶液が均一になるまで攪拌した後、ジブチルチンジラウレート０．１ｇを添加して反応を開始し、系の温度を５５〜６５℃に保持し５時間攪拌を継続することにより、エチレン性不飽和基を有する含フッ素重合体ＡのＭＩＢＫ溶液を得た。
この溶液をアルミ皿に２ｇ秤量後、１５０℃のホットプレート上で５分間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、１５．２質量％であった。使用した化合物、溶剤及び固形分含量を表３に示す。

中空シリカ分散液の調製
（分散液Ｒ−１の調製）
特開２００２−７９６１６号公報の調製例４から調製時の条件を変更して、内部に空洞を有するシリカ微粒子を作製した。最終ステップで水分散液状態からメタノールに溶媒置換し、２０質量％シリカ分散液とし、平均粒径４５ｎｍ、シェル厚み約７ｎｍ、シリカ粒子の屈折率１．３０の粒子が得られた。これを分散液（Ａ−１）とする。

分散液（Ａ−１）の５００質量部に対してアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０質量部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水を９質量部加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加した。総液量がほぼ一定になるようにＭＥＫを添加しながら減圧蒸留により溶媒を置換した。最終的に固形分が２０質量％になるように調節して分散液Ｒ−１を調製した。

（分散液Ｒ−５の調製）
分散液Ｒ−１から粒子径を変える以外は同様にし、平均粒径２５ｎｍ、屈折率１．４１の中空シリカ分散液Ｒ−５を得た。

（分散液Ｒ−６の調製）
分散液Ｒ−１から粒子径を変える以外は同様にし、平均粒径６０ｎｍ、屈折率１．２５の中空シリカ分散液Ｒ−６を得た。

上記表４に示すように各素材を混合し、ＭＥＫ／ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）が８／２（質量比）の溶剤を固形分濃度が５質量％になるまで添加し、攪拌機をつけたガラス製セパラブルフラスコに仕込み、室温にて１時間攪拌後、孔径０．５μｍのポリプロピレン製デプスフィルターでろ過し、低屈折率層用塗布液ＬＬ−１〜ＬＬ１６を得た。

以下、実施例で用いた、素材について説明する。
Ｒ−２：ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ（日産化学工業（株）製、コロイダルシリカ、平均粒径約８５ｎｍ）
Ｒ−３：シリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬの平均粒径違い、平均粒径１５０ｎｍ）
Ｒ−４：シリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬの平均粒径違い、平均粒径５０ｎｍ）
Ｒ−７：シリカゾル（ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬの平均粒径違い、平均粒径９８ｎｍ）
無機微粒子の平均粒径は、光学フィルムの断面を透過型電子顕微鏡で観察及び撮影し、低屈折率層内の粒子４００個の粒径分布を求め、その粒子数がピークとなる粒径より求めた。
防汚剤Ａ：Ｒａｄ２６００（ＥＶＯＮＩＫ社製、数平均分子量：１６，０００であり、下記式（１７）で表される構造単位と、下記式（１８）で表される構造単位を含んでなり、下記式（１８）で表される構造単位を６個有する。）

防汚剤Ｂ：Ｒａｄ２５００（ＥＶＯＮＩＫ社製、数平均分子量：１，５００であり、上記式（１７）で表される構造単位と、上記式（１８）で表される構造単位を含んでなり、上記式（１８）で表される構造単位を２個有する。）

ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製

Ｂ−１：アクリル変性パーフルオロプロピレンオキシド：下記化合物においてＲｂ＝Ｈの化合物

Ｂ−２：特開２００６−２８４７６１に記載の下記化合物Ｍ−１

Ｂ−３：本文記載の化合物ＭＡ１３
Ｂ−４：特開２００６−２８４０９に記載の下記化合物Ｘ−２２

Ｉｒｇ．１２７：ＩＲＧＡＣＵＲＥ １２７：前記式（１６）で示される化合物、チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製

防汚剤Ｃ：サイラプレーンＦＭ−０７２５（下記式（２４）で示されるシリコーン化合物、チッソ社製、数平均分子量：１０，０００）

［式（２４）中、ｇは、化合物の数平均分子量が１０，０００となる整数である。］
防汚剤Ｄ：Ｘ−２２−１６４Ｃ（反応性シリコーンオイル、信越化学工業製）

［ハードコート層、低屈折率層の塗設］
特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、液晶化合物を塗布し、ロール形態に巻き取った、光学異方性層付き透明支持体１を巻き出して、光学異方性層を塗布した側とは反対側の面に、ハードコート層用塗布液を、１３ｃｃ／ｍ^２の流量で塗布し、２５℃で１５秒間、６０℃で３０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの「高圧水銀ランプ」｛Ｄｒ． ｈｏｎｌｅ ＡＧ社製｝を用いて、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚１０μｍのハードコート層を作成した。
その後、ハードコート層の上に、低屈折率層用組成物ＬＬ−１を、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、低屈折率層の乾燥膜厚を９０ｎｍになるようにウエット塗布し、２５℃で１５秒間、６０℃で３０秒間乾燥の後、更に窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの「高圧水銀ランプ」｛Ｄｒ． ｈｏｎｌｅ ＡＧ社製｝を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させ、低屈折率層側を外側にして１６８φの巻き芯に２５０Ｎのテンションで１０００ｍロール形態で巻き取り、光学フィルム１０１を作成した。各層の塗布はクラス１００のクリーンルーム内で実施した。光学フィルム１０１の正面レターデーションは、１２５ｎｍであった。

上記作製した光学フィルム１０１から低屈折率層用組成物をＬＬ−１からＬＬ−２〜１６に変えた以外は同様の方法で光学フィルム１０２〜１１６を作製した。

上記作製した光学フィルム１０１から低屈折率層用組成物をＬＬ−１からＬＬ−２、ＬＬ−４に変え、透明支持体を、ＴＤ６０ＵＬ（富士フィルム（株）製、厚み６０μｍ）、ＴＤ４０ＵＬ（富士フィルム（株）製、厚み４０μｍ）とした以外は同様の方法で光学フィルム１１７〜１２０を作製した。

上記作製した光学フィルム１０４から光学異方性層を形成しなかった以外は同様の方法で光学フィルム１２１を作製した。

上記作製した光学フィルム１０１から低屈折率層の膜厚が４５ｎｍ、７０ｎｍ、１１０ｎｍ、１３０ｎｍになるように低屈折率層用組成物の塗布量を調製した以外は同様の方法で光学フィルム１２２〜１２５を作製した。

上記作製した光学フィルム１０１から低屈折率層形成しなかった以外は同様の方法で光学フィルム１２６を作製した。

＜光学フィルムの評価＞

（１）接着跡の評価
ロール状の光学フィルムを２３℃６０％の環境下で２週間静置し、ロール状光学フィルムの外周約２ｍ部分をロールより垂らし、フィルムの形状変化（＝接着跡）を反射光下目視観察した。
Ａ：接着跡なし
Ｂ：接着跡はあるが、形状変化は緩やか
Ｃ：形状変化が一目で確認できるくらい接着跡がある
Ｄ：接着跡が著しく、ロール形態より巻きほぐす途中変形が更に著しくなるか、フィルムが裂ける

（２）転写
ロール状の光学フィルムを２３℃６０％の環境下で２週間静置した後巻きほぐし、巻き芯部分約１ｍを反射光下目視観察し、転写による色味変化や白味の有無を目視観察した。
Ａ：転写なし
Ｂ：暗室環境下にて、蛍光灯の反射光を用いて光学フィルム表面を観察し、わずかに転写が見える程度
Ｃ：転写発生

（３）耐擦傷性
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール（株）製、Ｎｏ．００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ^２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料（光学異方性層側）の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
Ａ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
Ｂ：非常に注意深く見てわずかに弱い傷が見える。
Ｃ：中程度の傷が見える、もしくは一目見ただけで分かる傷がある。

（４）ヘイズ測定
光学フィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。

（５）反射率測定
透明支持体に光学異方性層を積層せず、反射防止層のみを積層し、分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）の積分球に装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、積分球反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。

（６−１）ＡＭＦによる算術平均面粗さＲａ
反射防止層が形成されている側（ハードコート層ないし低屈折率層側）の表面について、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメンツ（株）製）を用いて１０μｍ角の視野にて２５６×２５６の測定点で５視野測定し、得られた画像から各々測定した値の平均値として算出した。
（６−２）ＪＩＳ Ｂ０６０１に基づく算術平均面粗さＲａ
試料表面（ハードコート層ないし低屈折率層側）の中心線平均粗さ（Ｒａ）をＪＩＳ−Ｂ０６０１−２００１に準じて、小坂研究所（株）製、サーフコーダー ＭＯＤＥＬ ＳＥ−３Ｆを用いて測定した。測定条件は、評価長さ１．２５ｍｍ、カットオフ０．２５ｍｍで行った。

（７）白濁
試料の裏側（光学異方性層側）に油性黒インキを塗り、裏面の光反射を防止したＡ４サイズのサンプルを作製した。このサンプルを周囲が全て黒色の部屋で光を全て遮断し、太陽光源下で目視観察する事により以下の基準で評価した。
Ａ：注意深く見ても膜表面が白味がかっていることがわからない。
Ｂ：注意深く見ると膜表面がやや白味がかっているのがわかるが気にならない。
Ｃ：膜表面が白味を帯びており気になる。
Ｄ：一目見ただけで膜表面が白濁しているのがわかり非常に気になる。
上記の各項目での評価結果を表５に示す。

表５に示した結果から明らかなように、低屈折率層における平均粒径の最も大きい粒子（粒子Ｂ）の固形分中の含有量が１．５〜１５質量％を外れるか、全く含有させない光学フィルム１０３、１０４はいずれも接着跡が生じることが分かる。また、１５質量％を超える光学フィルム１０５は接着跡は良化するものの耐擦傷性、塗膜の白濁が悪化しヘイズも劣ることがわかる。無機微粒子Ｂの平均粒径が１３０ｎｍを超えるフィルム１０６は耐擦傷性、塗膜の白濁が悪化しヘイズも劣ることがわかる。無機微粒子Ｂの平均粒径が６５ｎｍ以下のフィルム１０７は接着跡が生じることが分かる。
また、無機微粒子の平均粒径が３０ｎｍ未満の光学フィルム１１０は、屈折率が１．４５を超え、反射率も高いことがわかる。光学フィルム１１１は、屈折率が１．４５を超え低屈折率層の屈折率を満たさず、反射率も高いことがわかる。無機微粒子Ｂを含有しない光学フィルム１１９、１２０についても接着跡が生じることが分かる。また、透明支持体のハードコート層を有する面とは反対側の面に光学異方性層を有しない光学フィルム１２１は、接着跡の発生がなく、耐擦傷性等についても良好であるが、透明支持体のハードコート層を有する面とは反対側の面に光学異方性層を有しない以上、立体型画像表示装置の薄膜化に好適な薄膜型偏光板を形成することができないといえる。また、低屈折率層の膜厚が５０ｎｍ未満の光学フィルム１２２は転写が発生し、耐擦傷性にも劣ることがわかる。また、低屈折率層の膜厚が１２０ｎｍを超える光学フィルム１２５、及び本願の低屈折率層を設けない光学フィルム１２６は接着跡が生じることがわかる。
一方、低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．４５で、膜厚が５０〜１２０ｎｍで、無機微粒子Ａの平均粒径が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下であり、低屈折率層における平均粒径の最も大きい粒子（無機微粒子Ｂ）の固形分に対する含有量が１．５〜１５質量％であり、Ｒａが０．０３０μｍ以下である光学フィルム１０１、１０２、１０８、１０９、１１２〜１１８、１２３、１２４は、接着跡及び転写がなく、耐擦傷性に優れ、ヘイズ、塗膜の白濁も少ないことがわかる。とりわけ特定の含フッ素モノマーを特定サイズの無機微粒子に併用した光学フィルム１１４〜１１６は上記性能全てに対して非常に優れていることがわかる。

［偏光板及び画像表示装置の作製］
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を接着剤として、アルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 波長５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）を用意し、鹸化した面が偏光膜側となるようにして偏光膜を貼り合わせた。さらに、偏光膜側に粘着剤を介して、光学フィルムの光学異方性層側と貼り合わせ、偏光板を作製した。このとき、光学フィルムの遅相軸と偏光子の透過軸のなす角度が４５度になるようにした。
また、同様にして、用意したＶＡ位相差フィルム付き偏光板の偏光膜側に、粘着剤を介して光学フィルムの代わりにＴＤ８０ＵＬ（富士フィルム（株）製）を貼りあわせた。
（実装）
ＴＶ：ＳＡＭＳＵＮＧ社製ＵＮ４６Ｃ７０００（３Ｄ−ＴＶ）の視認側の偏光板をはがし、上記作製した偏光板のＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを粘着剤を介して貼合し、立体表示装置を作製した。
ＬＣシャッターメガネ：ＳＡＭＳＵＮＧ社製 ＳＳＧ−２１００ＡＢ（ＬＣシャッターメガネ）の目と反対側（パネル側）の偏光板をはがし、そこに上記作製した光学フィルムの支持体側を粘着剤を介して貼合し、ＬＣシャッターメガネを作製した。ここでメガネに貼合した光学フィルムの遅相軸は、ＴＶに貼合した偏光板に含まれる光学フィルムの遅相軸と直交するようにした。
（表示装置の評価）
蛍光灯のある部屋で、パネル面の照度がおよそ２００ｌｕｘとなる環境下で、上記作製したＬＣシャッターメガネをかけ、３Ｄ映像を鑑賞した。本発明の光学フィルムを含む３Ｄ−ＴＶは、顔を傾けて見たときや斜め方向から見たときのクロストーク（二重像）がほとんどなく、表示色味の変化もほとんどなかった。また、画面が低反射で、黒が白茶けずにコントラストの高い立体感に優れる印象が得られた。それに対して汎用のＴＡＣフィルム（ＴＤ８０ＵＬ）を用いた３Ｄ−ＴＶは、本発明の光学フィルムを含む場合に比べて、クロストークや表示色味変化が大きく、わずかに顔を傾けるだけで、クロストークが顕著に見られた。また、黒が白茶けており立体感に劣るものとなった。

＜異なる光学異方性層を有する光学フィルム２０１の作製＞
上記作製した光学フィルム１０１において、光学異方性層塗布液（Ａ）を塗布する代わりに、下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層塗布液（Ｂ）を上記作製した配向膜上に＃２．７のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶性化合物の配向を固定化し厚さ１μｍの光学異方性層を形成し、ロール形態に巻き取り、光学異方性層付き透明支持体を作製した。その後、実施例１と同様の方法で、ハードコート層、低屈折率層を積層し、光学フィルム２０１を作製した。光学フィルム２０１の正面レターデーションは、１４５ｎｍであった。

光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物 １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 １質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２） ０．４質量部
メチルエチルケトン ２５２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

上記式中、ａ／ｂ／ｃ＝５／５５／４０は質量比である。
＜異なる光学異方性層を有する光学フィルム３０１の作製＞
上記作製した光学フィルム２０１において、光学異方性層塗布液（Ｂ）を塗布する代わりに、下記の組成の光学異方性層塗布液（Ｃ）を上記作製した配向膜上に＃３．０のワイヤーバーで連続的に塗布した。
フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶性化合物の配向を固定化し厚さ１．１μｍの光学異方性層を形成し、ロール形態に巻き取り、光学異方性層付き透明支持体を作製した。その後、実施例１と同様の方法で、光学異方性層を形成し、その後、ハードコート層、低屈折率層を積層し、光学フィルム３０１を作製した。光学フィルム３０１の正面レターデーションは、１３５ｎｍであった。
なお、光学異方性層塗布液（Ｃ）で使用した材料のうち、アクリレートモノマー以外の材料は前記光学異方性層塗布液（Ｂ）で使用したものと同じものであり、アクリレートモノマーは光学異方性塗布液（Ａ）で使用したものと同じものである。

光学異方性層塗布液（Ｃ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
前記のディスコティック液晶化合物 ９７質量部
アクリレートモノマー ３質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
前記のピリジニウム塩 １質量部
前記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２） ０．４質量部
メチルエチルケトン ２５２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

＜異なる光学異方性層を有する光学フィルム４０１の作製＞
上記作製した作製した光学フィルム２０１において、光学異方性層塗布液（Ｂ）を塗布する代わりに、下記の組成の光学異方性層塗布液（Ｄ）を上記作製した配向膜上に＃３．３のワイヤーバーで連続的に塗布した。
フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶性化合物の配向を固定化し厚さ１．２μｍの光学異方性層を形成し、ロール形態に巻き取り、光学異方性層付き透明支持体を作製した。その後、実施例１と同様の方法で、ハードコート層、低屈折率層を積層し、光学フィルム４０１を作製した。光学フィルム４０１の正面レターデーションは、１２５ｎｍであった。
なお、光学異方性塗布液（Ｄ）で使用した材料は、前記光学異方性層塗布液（Ｃ）で使用したものと同じものである。

光学異方性層塗布液（Ｄ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
前記のディスコティック液晶化合物 ９１質量部
アクリレートモノマー ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
前記のピリジニウム塩 １質量部
前記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２） ０．４質量部
メチルエチルケトン ２５２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

上記で作成した光学フィルム２０１、３０１、４０１を上記実施例と同様に評価した。評価結果を表５に示す。
上記実施例とほぼ同様の結果が得られた。更に、重合性化合物中アクリレートモノマーを９７％以上用いたものは接着性が更に優れていた。

さらに、光学フィルム２０１，３０１、４０１を上記実施例と同様に偏光板を作製し、３Ｄ−ＴＶに貼合し、上記作製したＬＣシャッターメガネをかけ、３Ｄ映像を鑑賞した。本発明の光学フィルムを含む３Ｄ−ＴＶは、顔を傾けて見たときや斜め方向から見たときのクロストーク（二重像）がほとんどなく、表示色味の変化もほとんどなかった。

＜ハードコート層用組成物（Ｂ）の調製＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用組成物（Ｂ）（固形分濃度５８質量％）とした。
炭酸ジメチル ２９．０質量部
メチルエチルケトン ４３．４質量部
（ａ）モノマー：Ａ−４００ ９．０質量部
（ｂ）モノマー：Ａ−ＴＭＭＴ ７８．０質量部
上記化合物 ＩＰ−９ １０．０質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
３．０質量部
前記レベリング剤（ＳＰ−１３） ０．０２質量部

それぞれ使用した化合物を以下に示す。

Ａ−４００：新中村化学工業（株）製。１分子中の官能基の数は２。

Ａ−ＴＭＭＴ：新中村化学工業（株）ＮＫエステル。質量平均分子量は３０４で、１分子中の官能基の数は４。

＜異なるハードコート層を有する光学フィルムの作製＞
実施例１で作製した光学フィルム１０１〜１２６において、光学異方性層を形成した後、ハードコート層用組成物（Ａ）を塗布する代わりに、上記の組成のハードコート層用組成物（Ｂ）を塗布した以外は、光学フィルム１０１〜１２６と同様の方法で、ハードコート層を形成した。その後、実施例１と同様の方法で、低屈折率層を積層し、光学フィルム５０１〜５２６を作製した。光学フィルム５０１〜５２６の正面レターデーションは、いずれも光学フィルム１０１〜１２６と同等であった。

次にパターンを形成した光学異方性層を含む本発明の態様を、光ラジカル硬化系光配向膜を有し、パターンを形成した光学異方性層を例に説明する。

［ハードコート層、低屈折率層の塗設］
透明支持体としてフジタックＴＤ６０（富士フイルム（株）製、幅１３４０ｍｍ、厚さ６０μｍ）をロール形態から巻き出して、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、上記のハードコート層用塗布液を、１３ｃｃ／ｍ^２の流量で塗布し、２５℃で１５秒間、６０℃で３０秒間乾燥の後、更に窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの「高圧水銀ランプ」｛Ｄｒ． ｈｏｎｌｅ ＡＧ社製｝を用いて、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚１０μｍのハードコート層を作成した。
その後、ハードコート層の上に、低屈折率層用組成物ＬＬ−１５を、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、低屈折率層の乾燥膜厚を９０ｎｍになるようにウエット塗布し、２５℃で１５秒間、６０℃で３０秒間乾燥の後、更に窒素パージにより、酸素濃度１００ｐｐｍの雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの「高圧水銀ランプ」｛Ｄｒ． ｈｏｎｌｅ ＡＧ社製｝を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射し、低屈折率層を形成させ、低屈折率層側を外側にして１６８φの巻き芯に２５０Ｎのテンションで１０００ｍロール形態で巻き取った。

ＵＳ２０１２／００７６９５４ Ａ１の［０１９３］を参考に５−ノルボルネン−２−メチル−（４−メトキシシンナメート）の重合反応を行って、下記化学式で表されるシンナメート基を有するポリノルボルネン（重量平均分子量、Ｍｗ＝１５０，０００）を得た。

（ポリノルボルネン含有配向膜組成物の組成）
上記化学式で表されるシンナメート基を有するポリノルボルネン ２０．０ｇ
ペンタエリスリトールトリアクリレート １０．０ｇ
イルガキュア９０７ ５．０ｇ
シクロヘキサノン ９８０．０ｇ

上記ポリノルボルネン含有配向膜組成物を用いて特表２０１２−５１７０２４号公報（ＷＯ２０１０／０９０４２９号公報）の実施例を参考し、上記で作製したフィルムのハードコート層積層していない面に、乾燥厚さが１０００Å（オングストローム）であるポリノルボルネン含有配向膜を形成した。

その後、ポリノルボルネン含有配向膜の上部に、光透過領域の幅が５００μｍの光透過領域及び光遮断領域パターンが上下及び左右に互い違いに交互に配置されたパターンマスク（１００ｍｍｘ１００ｍｍ）を位置させた。

その後、前記パターンマスクの上部に各々異なる偏光を透過させる２つの領域を有するＵＶ偏光板をフィルム進行方向に対して並列に位置させた。その後、透明支持体を３ｍ／分の速度でフィルム進行方向に移動させながら、前記ＵＶ偏光板の上部から強さが３００ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を３０秒間連続的に照射し、ポリノルボルネン含有配向膜の所定領域によって高分子が異なる方向に配向された第１配向領域と第２配向領域が透明支持体の長さ方向に沿って交互に配置された配向膜を得た。

前記配向膜上に、液晶化合物としてＢＡＳＦ社のＬＣ２４２^ＴＭを約１μｍの乾燥厚さとなるように塗布し、強さが３００ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を１０秒間照射し、液晶化合物を硬化させて位相差層を形成し、液晶化合物の光軸が第１配向領域と第２配向領域毎に異なるように配向した光学フィルム６０１を得た。

（光学フィルム６０１の評価）
光学フィルム６０１を光学フィルム１１５と同様に評価したところ、反射率１．５４％、接着跡Ａ、転写Ａ、耐擦傷性Ａ、ヘイズ０．２０％、塗膜の白濁Ａで、本発明の光学フィルムの光学異方性層がパターン状であっても、一定の位相差を持った異方性層であった時と同様の効果が得られることが分かった。

Claims (17)

1. 透明支持体の一方の面の最表面に硬化性樹脂組成物からなる光学異方性層を有し、もう一方の面にハードコート層と屈折率が１．２０〜１．４５で平均膜厚が５０〜１２０ｎｍの低屈折率層とを、前記透明支持体、前記ハードコート層及び前記低屈折率層の順で有する光学フィルムであって、
   前記低屈折率層が平均粒径３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の無機微粒子Ａと、平均粒径６５ｎｍより大きく１３０ｎｍ以下の無機微粒子Ｂ、及びバインダーを含有し、
   無機微粒子Ｂの前記低屈折率層の全固形分に対する含有量が１．５〜１５質量％であり、
   低屈折率層を有する側の光学フィルム表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に基づく算術平均粗さＲａが０．０３０μｍ以下であることを特徴とする光学フィルム。
2. 前記無機微粒子Ｂの低屈折率層の全固形分に対する含有量が３．０〜１０質量％であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記無機微粒子Ｂの平均粒径が７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記無機微粒子Ｂがシリカ粒子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 前記無機微粒子Ａが中空シリカ粒子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
6. 前記無機微粒子Ａの平均粒径が４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
7. 前記低屈折率層を有する側の光学フィルム表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）に基づく算術平均面粗さＲａが２〜６ｎｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に光学フィルム。
8. 前記低屈折率層を有する側の光学フィルム表面のＡＦＭに基づく算術平均面粗さＲａが２．５ｎｍ〜４ｎｍであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
9. 前記低屈折率層に含有されるバインダーの少なくとも１種が下記一般式（１）で表される含フッ素多官能モノマーであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
   一般式（１）：
   
   （式中、Ｒｆ_１はエーテル結合を有していてもよい（ｐ＋ｑ）価のペルフルオロ飽和炭化水素基を表す。Ｒｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、１価のフッ化炭化水素基を表す。ｐは３〜１０の整数、ｑは０〜７の整数で、かつ、（ｐ＋ｑ）は３〜１０の整数を表す。ｒは０〜１００の整数、ｓ、ｔはそれぞれ独立に０又は１を表す。Ｒは水素原子、メチル基、又はフッ素原子を表す。（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２）、（ＯＣＦＲｆ_２）の配置順に制限はない。）
10. 前記光学フィルムの５５０ｎｍにおける面内レターデーションが８０〜２００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
11. 前記光学異方性層が液晶性化合物を含有する組成物から形成されたものである請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
12. 前記液晶性化合物がディスコティック液晶性化合物である請求項１１に記載の光学フィルム。
13. 前記光学異方性層が液晶性化合物を固形分濃度で９３質量％以上含有する組成物より形成されたことを特徴とする請求項１１または１２に記載の光学フィルム。
14. 長さ方向を基準に正面レターデーションの遅相軸が時計回り又は反時計回りに５〜８５°であり、長尺ロール状である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
15. 少なくとも１つの保護膜と偏光膜とを有し、前記少なくとも１つの保護膜が請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルムであり、前記光学フィルムの光学異方性層側の表面と前記偏光膜とが貼合された偏光板。
16. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルム、又は請求項１５に記載の偏光板を少なくとも１つ含む画像表示装置。
17. 視認側から、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光膜と、液晶セルとをこの順に有する液晶表示装置であって、低屈折率層が視認側に、前記光学異方性層が前記偏光膜側になるように前記光学フィルムが配置された液晶表示装置。