CN113874763B - 图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体 - Google Patents

图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体 Download PDF

Info

Publication number
CN113874763B
CN113874763B CN202080038495.0A CN202080038495A CN113874763B CN 113874763 B CN113874763 B CN 113874763B CN 202080038495 A CN202080038495 A CN 202080038495A CN 113874763 B CN113874763 B CN 113874763B
Authority
CN
China
Prior art keywords
polarizing plate
layer
liquid crystal
laminate
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202080038495.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113874763A (zh
Inventor
柴野博史
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Publication of CN113874763A publication Critical patent/CN113874763A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113874763B publication Critical patent/CN113874763B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/50—OLEDs integrated with light modulating elements, e.g. with electrochromic elements, photochromic elements or liquid crystal elements

Abstract

提供：应对进一步的薄型化、且能抑制偏振片的划痕、劣化等的图像显示装置的制造方法。一实施方式中，图像显示装置的制造方法包括如下工序：以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的至少单面层叠偏振片转印用层叠体LP1。

Description

图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体
技术领域
本发明涉及图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体。
背景技术
例如，液晶显示装置中，在液晶单元的可视侧和光源侧的两面贴合有偏光板，有机EL显示装置中，在有机EL单元的可视侧贴合有圆偏光板。以往，这些偏光板是在偏振片上贴合偏振片保护薄膜而得到的，作为偏振片保护薄膜，逐渐使用有三乙酸纤维素(TAC)、丙烯酸类树脂、环状聚烯烃(COP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等40～100μm的刚直的薄膜。进而，通常，如果为液晶显示装置，则在偏光板与图像显示元件之间层叠有光学补偿薄膜，如果为有机EL显示装置，则在偏光板与图像显示元件之间层叠有λ/4相位差薄膜。
随着近年来的图像显示装置的薄型化的潮流，提出了如下方法：将粘合层设置于仅在偏振片的单面具有偏振片保护薄膜的偏光板的偏振片面，使偏振片与图像显示元件直接贴合(例如专利文献1)。然而，在偏振片的操作性的方面、防止与其他物品的接触所导致的偏振片表面的划痕等的方面、防止水分、洗涤剂、环境中的有害气体成分等所导致的偏振片表面的劣化的方面等，偏振片保护薄膜本身必不可少，偏振片保护薄膜本身就具有几十μm的厚度，因此，未充分应对薄型的图像显示装置。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2010-277018号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明是以上述现有技术的课题为背景而作出的。即，本发明的目的之一在于，提供：应对进一步的薄型化、且能抑制偏振片的划痕、劣化等的图像显示装置的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明人为了实现上述目的而进行了深入研究，结果至此完成了本发明。即，本发明包含以下的方案。
项1.
一种图像显示装置的制造方法，其包括如下工序：以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的至少单面层叠偏振片转印用层叠体LP1。
项2.
一种图像显示装置的制造方法，其包括如下工序：
工序(A)，以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的一个面层叠偏振片转印用层叠体LP1；和，
工序(B)，以在脱模性薄膜上层叠有偏振片的偏振片转印用层叠体LP2的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的另一个面层叠偏振片转印用层叠体LP2。
项3.
根据项1或2所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP1在偏振片的与涂层相反侧具有相位差层。
项4.
根据项2或3所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP2在偏振片的与脱模性薄膜相反侧具有相位差层。
项5.
根据项2～4中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP2在脱模性薄膜与偏振片之间具有涂层。
项6.
根据项1～5中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，涂层包含硬涂层、降反射层、和抗静电层中的任意者。
项7.
根据项1～6中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为液晶显示元件。
项8.
根据项1、3、和6中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为有机EL显示元件。
项9.
一种偏振片转印用层叠体，其在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片。
项10.
根据项9所述的偏振片转印用层叠体，其中，在偏振片的与涂层相反侧还具有相位差层。
发明的效果
根据本发明，可以制造：能应对进一步的薄型化、能抑制偏振片的划痕、劣化等的图像显示装置。
具体实施方式
本发明的一实施方式中，图像显示装置的制造方法优选包括如下工序：以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的至少单面层叠偏振片转印用层叠体LP1。
另外，本发明的一实施方式中，图像显示装置的制造方法优选包括如下工序：
工序(A)，以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的一个面层叠偏振片转印用层叠体LP1；和，
工序(B)，以在脱模性薄膜上层叠有偏振片的偏振片转印用层叠体LP2的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的另一个面层叠偏振片转印用层叠体LP2。
(偏振片转印用层叠体LP1)
LP1优选在脱模性薄膜上依次具有涂层和偏振片。
(脱模性薄膜)
作为LP1的脱模性薄膜，可以适宜使用广泛用作脱模性薄膜者。脱模性薄膜由单层或多层构成，至少包含基材薄膜。基材薄膜优选为树脂薄膜。作为树脂薄膜的树脂，没有特别限定，只要为聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯乙烯、三乙酸纤维素、聚丙烯、环状聚烯烃等成为树脂薄膜者就可以无限制地使用。其中，从机械强度、耐热性、供给稳定性等方面出发，优选聚酯，进一步优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。另外，基材薄膜可以为未拉伸薄膜也可以为拉伸薄膜。为拉伸薄膜的情况下，可以为单轴拉伸薄膜也可以为双轴拉伸薄膜。其中，优选双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。
基材薄膜本身具有脱模性的情况下，可以将基材薄膜直接作为脱模性薄膜使用。另外，为了调节基材薄膜的脱模性，可以进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等表面处理。
脱模性薄膜可以在基材薄膜上具有脱模层。作为脱模层，可以举出有机硅系、氨基树脂系、醇酸树脂系、长链丙烯酸类树脂系等，可以根据所需的剥离力而适宜选择其组成和种类。
脱模性薄膜在基材薄膜与脱模层之间可以具有易粘接层。作为易粘接层，可以使用聚酯系、丙烯酸类、聚氨酯系等各基材薄膜中以往使用者，可以根据使用的基材薄膜和/或脱模层而选择。
(涂层)
LP1的涂层由单层或多层构成，只要构成层(多层的情况下，为各层)由涂覆形成就可以为任意种类。涂层优选设置于脱模性薄膜的脱模面。涂层的厚度的上限优选50μm、更优选30μm、进一步优选20μm。涂层的厚度的下限没有特别限定，优选0.1μm、更优选0.5μm、进一步优选1μm。涂层由多层构成的情况下，优选多层的厚度的总计满足上述。通过减小涂层的厚度，从而可以使图像显示装置更进一步薄型。
涂层可以由树脂构成。作为树脂，可以举出聚酯树脂、丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、环氧树脂、聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯等，但不特别限定于这些。树脂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
前述树脂可以经交联。作为交联剂，可以举出异氰酸酯化合物、环氧树脂、三聚氰胺树脂、噁唑啉化合物、碳二亚胺化合物等。交联剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
涂层可以是使丙烯酸类单体和/或低聚物固化(热固化、光固化)而得到的。
作为涂层，例如可以举出降反射层、硬涂层、抗静电层等。涂层不同于降反射功能、硬涂功能、抗静电功能、或在这些功能基础上，可以具有偏振片的保护功能。作为偏振片的保护功能，例如可以举出：保护偏振片免受组装至图像显示装置为止的划痕和损伤的功能、保护偏振片免受使用图像显示装置时的与其他构件、外部的接触所产生的划痕和损伤的功能、保护偏振片免受暴露于使用图像显示装置的环境中的有害物(水、洗涤剂、醇类等液体、SOx、NOx等有害气体等)的功能。
(降反射层)
降反射层只要可以减小与空气的界面处的反射率就可以为任意种类。通过降反射层来抑制来自外部光的反射，可以可视图像。
降反射层的反射率的上限优选5％、更优选4％、进一步优选3％、特别优选2％、最优选1.5％。通过使反射率为上述以下，从而显示画面变得可见。反射率的下限无特别限定，优选0.01％、进一步优选0.1％。反射率通过以下的方法测定：
用HCP高透明粘合剂转印片9483PL，将偏振片转印用层叠体贴合于黑色的亚克力板。所贴合的面为偏振片转印用层叠体的与脱模性薄膜相反侧的面(偏振片面、或在偏振片上层叠其他层的情况下，为其他层的表面)和黑色的亚克力板的表面。贴合后，使用剥离了脱模性薄膜的样品，使用分光光度计(株式会社岛津制作所制、UV-3150)，测定波长550nm下的5度反射率。需要说明的是，5度反射率是将入射角相对于样品的偏振片的透光轴方向设为5度时的反射率。
作为降反射层，可以举出低反射层、防反射层、防眩层等各种种类的层。
(低反射层)
低反射层只要为可以减小与空气的折射率差的层就没有特别限制，例如可以举出低折射率层。低反射层的情况下，反射率的上限优选5％、更优选4％、进一步优选3％。反射率的下限优选0.8％、更优选1％。
(防反射层)
防反射层只要为可以使可视侧界面处的反射光与图像显示元件侧界面处的反射光干涉而防止反射的层就没有特别限制。作为防反射层，例如可以举出厚度为可见光的波长(400～700mn)/(低折射率层的折射率×4)左右的低折射率层。
防反射层可以为低折射率层与高折射率层的组合，这种组合中，低折射率层优选配置于可视侧(或脱模性薄膜侧)。防反射层可以具有2层以上的低折射率层和/或高折射率层。这种防反射层通过多重干涉可以进一步提高防反射效果。
防反射层的情况下，反射率的上限优选2％、更优选1.5％、进一步优选1.2％、特别优选1％。反射率的下限优选0.01％、更优选0.1％。
(低折射率层)
低折射率层的折射率优选1.45以下、更优选1.42以下。另外，低折射率层的折射率优选1.20以上、更优选1.25以上。需要说明的是，低折射率层的折射率是波长589nm的条件下测得的值。
低折射率层的厚度无限定，通常可以从30nm～1μm左右的范围内适宜设定。另外，使低折射率层的可视侧界面的反射与低折射率层的图像显示元件侧界面的反射抵消，如果为进一步降低反射率的目的，则低折射率层的厚度优选70～120nm、更优选75～110nm。
作为低折射率层，优选可以举出：(1)含有粘结剂树脂和低折射率颗粒的树脂组合物所形成的层、(2)作为低折射率树脂的氟系树脂所形成的层、(3)含有二氧化硅或氟化镁的氟系树脂组合物所形成的层、(4)二氧化硅、氟化镁等低折射率物质的薄膜等。
作为(1)的树脂组合物中含有的粘结剂树脂，可以没有特别限制地使用聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚碳酸酯、丙烯酸类等。其中，优选丙烯酸类，优选通过光照射而使光聚合性化合物聚合(交联)而得到者。
作为光聚合性化合物，可以举出光聚合性单体、光聚合性低聚物、光聚合性聚合物，可以将它们适宜调整而使用。作为光聚合性化合物，优选光聚合性单体与光聚合性低聚物或光聚合性聚合物的组合。
(光聚合性单体)
光聚合性单体优选分子量低于1000的单体。另外，作为光聚合性单体，优选具有2个(即，2官能)以上光聚合性官能团的多官能单体。
作为多官能单体，例如可以举出：三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基)丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、双酚二(甲基)丙烯酸酯、二甘油四(甲基)丙烯酸酯、金刚烷基二(甲基)丙烯酸酯、异冰片基二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、将它们用PO、EO等改性而成者。
其中，从得到硬度高的层的观点出发，优选季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。光聚合性单体可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
(光聚合性低聚物)
光聚合性低聚物优选重均分子量为1000以上且低于10000者。本说明书中，“重均分子量”是溶解于THF等溶剂、通过基于以往公知的凝胶渗透色谱(GPC)法的聚苯乙烯换算而得到的值。作为光聚合性低聚物，优选2官能以上的多官能低聚物。作为多官能低聚物，可以举出聚酯(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。光聚合性低聚物可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
(光聚合性聚合物)
光聚合性聚合物优选重均分子量为10000以上，从涂覆适合性和得到的层的外观的方面出发，更优选10000以上且80000以下、进一步优选10000以上且40000以下。作为光聚合性聚合物，优选2官能以上的多官能聚合物。作为多官能聚合物，可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。光聚合性聚合物可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
作为(1)的树脂组合物中所含的低折射率颗粒，可以举出二氧化硅颗粒(例如中空二氧化硅颗粒)、氟化镁颗粒等，其中，优选中空二氧化硅颗粒。这种中空二氧化硅颗粒例如可以通过日本特开2005-099778号公报的实施例中记载的制造方法而制作。
低折射率颗粒的一次颗粒的平均粒径优选5～200nm、更优选5～100nm、进一步优选10～80nm。
低折射率颗粒更优选用硅烷偶联剂经表面处理而成者，其中，优选用具有(甲基)丙烯酰基的硅烷偶联剂经表面处理而成者。低折射率颗粒可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
(1)的树脂组合物中，上述成分之外，还可以包含聚合引发剂、交联剂的催化剂、阻聚剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、流平剂、表面活性剂等。
低折射率层(或(1)的树脂组合物)中的低折射率颗粒的含量相对于粘结剂树脂100质量份，优选10～250质量份、更优选50～200质量份、进一步优选100～180质量份。
作为(2)的氟系树脂，可以使用至少在分子中包含氟原子的聚合性化合物或其聚合物。作为聚合性化合物，没有特别限定，例如优选具有光聚合性官能团、热固化极性基团等固化反应性基团的化合物，也可以为同时兼具这些多个固化反应性基团的化合物。
作为具有光聚合性官能团的化合物，例如可以广泛使用具有烯属不饱和键的含氟单体。
出于改善耐指纹性的目的，还优选在低折射率层中适宜添加公知的聚硅氧烷系或氟系的防污剂。作为聚硅氧烷系防污剂的优选例，例如可以举出：具有丙烯酰基的聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚改性二甲基硅氧烷、具有丙烯酰基的聚酯改性二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚酯改性聚二甲基硅氧烷、芳烷基改性聚甲基烷基硅氧烷等。氟系防污剂优选具有有利于低折射率层的形成或与低折射率层的相溶性的取代基。该取代基可以为1个或多个，多个取代基可以彼此相同也可以不同。作为优选的取代基的例子，可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、芳基、肉桂酰基、环氧基、氧杂环丁烷基、羟基、聚氧亚烷基、羧基、氨基等。
(高折射率层)
高折射率层的折射率优选设为1.55～1.85，更优选设为1.56～1.70。需要说明的是，高折射率层的折射率是在波长589nm的条件下测得的值。
高折射率层的厚度优选30～200nm、更优选50～180nm。高折射率层可以为多层，但优选2层以下，更优选单层。高折射率层由多层构成的情况下，优选多层的厚度的总计为上述范围内。
将高折射率层设为2层的情况下，优选进一步提高低折射率层侧的高折射率层的折射率，具体而言，低折射率层侧的高折射率层的折射率优选1.60～1.85，另一侧的高折射率层的折射率优选1.55～1.70。
高折射率层优选由包含高折射率颗粒和树脂的树脂组合物形成。作为高折射率颗粒，优选五氧化锑颗粒(1.79)、氧化锌颗粒(1.90)、氧化钛颗粒(2.3～2.7)、氧化铈颗粒(1.95)、锡掺杂氧化铟颗粒(1.95～2.00)、锑掺杂氧化锡颗粒(1.75～1.85)、氧化钇颗粒(1.87)、氧化锆颗粒(2.10)等。需要说明的是，上述括号内表示各颗粒的材料的折射率。其中，氧化钛颗粒和/或氧化锆颗粒是适合的。
高折射率颗粒可以仅使用1种，也可以并用2种以上。为了防止聚集，也特别优选将第1高折射率颗粒与表面电荷量少于其的第2高折射率颗粒组合。另外，从分散性的方面出发，还优选高折射率颗粒经表面处理。
高折射率颗粒的一次颗粒的优选平均粒径与低折射率颗粒同样。
高折射率颗粒的含量相对于树脂100质量份，优选30～400质量份、更优选50～200质量份、进一步优选80～150质量份。
作为高折射率层中使用的树脂，可以举出除氟系树脂之外与低折射率层中列举的树脂相同者。
高折射率层和低折射率层例如可以如下形成：将包含光聚合性化合物的树脂组合物涂布于脱模性薄膜并干燥，然后，对涂膜状的树脂组合物照射紫外线等光，使光聚合性化合物进行聚合(交联)，从而可以形成。需要说明的是，在脱模性薄膜上设置高折射率层和低折射率层的情况下，优选使脱模性薄膜侧成为低折射率层。
高折射率层和低折射率层(或构成它们的树脂组合物(涂料))中，根据需要可以添加热塑性树脂、热固性树脂、溶剂、聚合引发剂、分散剂、表面活性剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、增稠剂、防着色剂、着色剂(颜料、染料)、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、增粘剂、阻聚剂、抗氧化剂、表面改性剂、易滑剂等。
(防眩层)
防眩层只要为能通过表面的凹凸而发生漫反射的层就没有特别限制。通过防眩层，可以防止外部光在表面反射时的光源的形状的反射眩光(映り込み)，或减小眩光。
在防眩层的表面，优选存在防眩性表面的倾斜角度(表面角度)为0.05°以上的区域50％以上、更优选55％以上、进一步优选60％以上。另外，表面角度为0.05°以上的区域的比例的上限优选95％、更优选90％。表面角度如果处于上述范围，则可以减小防眩性表面本身的干涉所产生的虹斑。
防眩层的表面的均方根斜率(RΔq)优选0.004以下。
防眩层的表面的峰度(Rku)优选5以下、更优选4以下、进一步优选3以下。Rku优选2以上。
防眩层的表面的偏度(RSk)优选-1.0～1.0、更优选-0.5～0.5、进一步优选-0.3～0.3。
防眩层的表面的凹凸的平均倾斜角(θa)优选0.01～1.5°、更优选0.04～1.2°、进一步优选0.1～0.5°。
防眩层的表面的凹凸的算术平均粗糙度(Ra)优选0.02～0.25μm、更优选0.02～0.15μm、进一步优选0.02～0.12μm。
防眩层的表面的凹凸的十点平均粗糙度(Rzjis)优选0.15～2.00μm、更优选0.20～1.20μm、进一步优选0.30～0.80μm。
RΔq、Rku、RSk、θa、Ra、和Rzjis的值如果为下限以上，则可以更有效地抑制外部光的反射眩光。RΔq、Rku、RSk、θa、Ra、和Rzjis的值如果为上限以下，则亮度和对比度优异。
防眩性表面的凹凸的平均间隔(RSm)优选50～600μm、更优选100～400μm、进一步优选120～300μm、特别优选150～280μm。RSm的值如果为下限以上，则容易控制聚集。RSm的值如果为上限以下，则可以重现图像的细度。
RΔq、Rku、RSk、θa、Ra、Rzjis、和RSm可以依据JIS B0601-1994或JIS B0601-2001、由用接触型粗糙度计测得的粗糙度曲线算出。
作为在防眩层的表面(脱模性薄膜侧的面)设置凹凸的方法，例如可以举出：在脱模性薄膜的脱模面设置对应的凹凸，具体而言，可以举出如下方法：方法(1)，在脱模性薄膜的基材薄膜设置凹凸；方法(2)通过涂覆(或涂布)在基材薄膜设置具有凹凸的层；等。需要说明的是，本说明书中，涂覆不仅可以为使涂料涂覆固化的湿法，还包含蒸镀、溅射、CVD等干法。
作为(1)的方法，可以举出喷砂处理；化学蚀刻；使脱模性薄膜与具有凹凸结构的模具接触；在脱模性薄膜中添加颗粒等方法。
作为(2)的方法，可以举出如下方法：在基材薄膜设置含有颗粒等填料、且层厚度薄于填料的粒径的层；将凹凸转印用涂料(固化性组合物、优选光固化性组合物)涂覆于基材薄膜后，与具有凹凸的模具接触使其固化；将凹凸转印用涂料(固化性组合物、优选光固化性组合物)涂覆于具有凹凸的模具后，与基材薄膜重叠使其固化等方法。
防眩层的厚度的下限优选0.1μm、更优选0.5μm。防眩层的厚度的上限优选100μm、更优选50μm、进一步优选20μm。
防眩层的折射率优选1.20～1.80、更优选1.40～1.70。降低防眩层本身的折射率而提高低反射效果的情况下，防眩层的折射率优选1.20～1.45、更优选1.25～1.40。组合低折射率层与防眩层的情况下，特别是在脱模性薄膜上依次层叠低折射率层和防眩层的情况下，防眩层的折射率优选1.50～1.80、更优选1.55～1.70。需要说明的是，防眩层的折射率是在波长589nm的条件下测得的值。
(硬涂层)
硬涂(HC)层可以适宜使用广泛用作硬涂层者。硬涂层的铅笔硬度优选H以上、更优选2H以上。硬涂层例如可以通过涂布含有热固性树脂或辐射线固化性树脂的组合物(硬涂层用涂料)使其固化而设置。
作为热固性树脂，可以举出丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、酚醛树脂、脲三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、有机硅树脂等。热固性树脂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。组合物中，在这些固化性树脂中，根据需要添加固化剂。
辐射线固化性树脂优选具有辐射线固化性官能团的化合物，作为辐射线固化性官能团，可以举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯属不饱和键基、环氧基、氧杂环丁烷基等。其中，优选具有烯属不饱和键基的化合物，更优选具有2个以上烯属不饱和键基的化合物，其中，进一步优选具有2个以上烯属不饱和键基的多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物。作为多官能性(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以为单体，也可以为低聚物，还可以为聚合物。
作为辐射线固化性树脂的具体例，可以举出作为低折射率层中的粘结剂树脂示例者。辐射线固化性树脂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
为了实现作为硬涂的硬度，在具有辐射线固化性官能团的化合物中，2官能以上的单体优选50质量％以上、更优选70质量％以上。进一步，具有辐射线固化性官能团的化合物中，3官能以上的单体优选50质量％以上、更优选70质量％以上。
硬涂层的厚度优选0.1～100μm的范围、更优选0.8～20μm的范围。
硬涂层的折射率更优选1.45～1.70、进一步优选1.50～1.60。需要说明的是，硬涂层的折射率是在波长589nm的条件下测得的值。
作为调整硬涂层的折射率的方法，可以举出调整树脂的折射率的方法、添加颗粒时调整颗粒的折射率的方法等。作为颗粒的具体例，可以举出作为防眩层的颗粒示例者。
硬涂层可以作为单独的层，优选的方式是与降反射层等组合。组合硬涂层与降反射层的情况下，优选在脱模性薄膜上依次层叠降反射层和硬涂层。需要说明的是，本说明书中，将硬涂层和降反射层一并视为1个构件，将该构件有时称为降反射层。
(抗静电层)
抗静电层只要为包含抗静电剂的层就没有特别限制。作为抗静电剂，可以举出季铵盐等阳离子性抗静电剂；聚苯胺、聚噻吩等导电性高分子；针状金属填料；锡掺杂氧化铟细粒、锑掺杂氧化锡细粒等导电性高折射率细粒。抗静电剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
抗静电层除抗静电剂之外，优选还包含粘结剂树脂。作为粘结剂树脂，使用聚酯、聚氨酯、聚酰胺、丙烯酸等。粘结剂树脂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
需要说明的是，在硬涂层中添加抗静电剂，硬涂层可以作为抗静电层发挥功能。作为在硬涂层中添加的抗静电剂，可以使用前述示例的成分、例如季铵盐等阳离子性抗静电剂、锡掺杂氧化铟(ITO)等细粒、导电性高分子等。
抗静电剂的含量相对于抗静电层(硬涂层具有抗静电功能时为硬涂层)的全部固体成分的总计质量，优选1～30质量％。
(偏振片)
作为偏振片(也被称为偏光板、偏光膜、偏光层等)，例如可以使用：在经单轴拉伸的聚乙烯醇(PVA)上吸附有碘或有机系的二色性色素者(PVA偏振片)、涂覆包含液晶化合物和二色性色素的组合物并取向而成者(液晶偏振片)、线栅偏振片等。
作为在涂层上设置偏振片的方法的例子，在PVA偏振片的情况下，可以举出(a)和(b)的方法。
方法(a)，单独贴合PVA偏振片。
方法(b)，将脱模性基材上的PVA偏振片转印。
作为(a)的方法，可以举出用粘接剂或粘合剂单独贴合PVA偏振片的方法，优选用粘接剂或粘合剂使PVA偏振片贴合在脱模性薄膜上的涂层的方法。作为该类型的偏振片的厚度，优选5～50μm、进一步优选10～30μm、特别优选12～25μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。
(b)的方法中，作为脱模性基材，可以举出作为脱模性薄膜列举者等，优选PET或聚丙烯等未拉伸或单轴拉伸的薄膜。作为在脱模性基材上层叠PVA偏振片的方法，可以举出如下方法：在脱模性基材上涂覆PVA，与脱模性基材一起进行拉伸，使碘或有机系的二色性色素吸附于PVA后，用硼化合物使取向固定化。需要说明的是，本说明书中，将脱模性基材与PVA偏振片的层叠体有时称为“PVA偏振片转印用层叠体”。
进而，作为转印方法，可以举出如下方法：用粘接剂或粘合剂使PVA偏振片转印用层叠体的偏振片面(未层叠脱模性基材的面)与脱模性薄膜与涂层的层叠体的涂层面贴合，根据需要将脱模性基材剥离。作为该类型的偏振片的厚度，优选1～10μm、进一步优选2～8μm、特别优选3～6μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。
作为贴合时的粘接剂，优选使用聚乙烯醇系粘接剂、丙烯酸类、环氧等的紫外线固化型粘接剂、环氧、异氰酸酯(氨基甲酸酯)等的热固化型粘接剂。另外，粘接剂可以为热熔粘接剂。作为粘合剂，可以举出丙烯酸类、氨基甲酸酯系、橡胶系等。另外，作为粘合剂，还优选使用丙烯酸类的无基材的光学用透明粘合剂片。
作为在涂层上设置偏振片的方法的例子，液晶偏振片的情况下，可以举出(c)和(d)的方法。
方法(c)，涂覆液晶偏振片用涂料。
方法(d)，将脱模性基材上的液晶偏振片转印。
作为(c)的方法，可以举出如下方法：在涂层上涂覆含有液晶化合物的液晶偏振片用涂料，使液晶化合物取向和固定。作为使液晶化合物取向和固定的方法，可以举出如下方法：对涂层进行刷磨处理，在其上涂覆液晶偏振片用涂料，加热并取向后，在紫外线下进行固化并固定的方法；涂覆液晶偏振片用涂料后，照射偏振光的紫外线，边使液晶化合物取向边进行固定的方法等。另外，在涂覆液晶偏振片用涂料前在涂层上设置取向控制层、即、在涂层上隔着取向控制层层叠液晶偏振片也是优选方法。
作为(d)的方法，可以举出如下方法：依据上述方法(c)，在脱模性基材上层叠液晶偏振片，用粘接剂或粘合剂使涂层贴合在该液晶偏振片面，根据需要将脱模性基材剥离。贴合时的粘接剂和粘合剂可以举出前述者。脱模性基材可以使用作为PVA偏振片转印用层叠体的脱模性基材列举者、金属带等。需要说明的是，本说明书中，将脱模性基材与液晶偏振片的层叠体有时称为“液晶偏振片转印用层叠体”。
作为液晶偏振片的厚度，优选0.1～7μm、进一步优选0.3～5μm、特别优选0.5～3μm。粘接剂或粘合剂的厚度优选1～10μm、进一步优选2～5μm。
进而，关于取向控制层和液晶偏振片，详细地进行说明。
(取向控制层)
液晶偏振片用涂料可以直接涂覆于涂层或脱模性基材，但也优选预先设置取向控制层，涂覆在该取向控制层上的方法。需要说明的是，本说明书中，将取向控制层和液晶偏振片一并视为1个构件，将该构件有时称为液晶偏振片。为了跟作为通称的液晶偏振片明确区分，与取向控制层组合的液晶偏振片有时称为液晶偏光层。
作为取向控制层，只要可以使液晶化合物形成期望的取向状态就可以为任意取向控制层。可以举出表面经刷磨处理的刷磨处理取向控制层、和通过偏振光的光照射而使分子取向产生取向功能的光取向控制层作为取向控制层的适合的例子。
(刷磨处理取向控制层)
刷磨处理取向控制层的材料通常使用聚合物。作为聚合物，优选使用聚乙烯醇和其衍生物、聚酰亚胺和其衍生物、丙烯酸类树脂、聚硅氧烷衍生物等。聚合物可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
刷磨处理取向控制层的形成方法优选包括如下工序：将包含上述聚合物和溶剂的刷磨处理取向控制层用涂料涂布于涂层或脱模性基材的脱模面上得到涂膜，对得到的涂膜的表面进行刷磨处理。刷磨处理取向控制层用涂料可以包含交联剂。
作为刷磨处理取向控制层用涂料的溶剂，只要使聚合物材料溶解就可以无限制地使用。作为具体例，可以举出水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、溶纤剂等醇；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-丁内酯等酯系溶剂；丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮等酮系溶剂；甲苯或二甲苯等芳香族烃溶剂；四氢呋喃或二甲氧基乙烷等醚系溶剂等。溶剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
刷磨处理取向控制层用涂料中的聚合物的浓度可以根据聚合物的种类、想要制造的取向控制层的厚度而适宜调节，以固体成分浓度表示，优选设为0.2～20质量％，特别优选0.3～10质量％的范围。
作为涂布的方法，可以采用凹版涂覆法、模涂法、棒涂法和涂抹法等涂布法、柔性法等印刷法等公知的方法。
涂布后，优选进行干燥(例如加热干燥)。干燥温度还取决于脱模性薄膜的原材料，PET的情况下，优选30℃～170℃、更优选50～150℃、进一步优选70～130℃。干燥温度如果处于这种范围，则无需采取较长地干燥时间，生产率优异，无转印用取向薄膜的热伸长和热收缩，可以实现符合设计的光学功能，平面性也优异。干燥时间例如为0.5～30分钟，更优选1～20分钟，进一步更优选2～10分钟。
刷磨处理取向控制层的厚度优选0.01～10μm、进一步优选0.05～5μm、特别优选0.1μm～1μm。
刷磨处理通常可以通过对表面用纸或布沿恒定方向摩擦而实施。刷磨处理优选使用尼龙、聚酯、丙烯酸类等纤维的起毛布的刷磨辊的方法。对于刷磨方向，设置相对于长尺寸状的薄膜的长度方向沿倾斜的规定方向取向的取向控制层的情况下，优选设为符合该方向的角度。角度的调整可以以刷磨辊与薄膜的角度调整、薄膜的输送速度与辊的转速的调整等而符合。
(光取向控制层)
光取向控制层优选为如下得到的取向膜：将包含具有光反应性基团的聚合物和/或单体、以及包含溶剂的光取向控制层用涂料涂布于涂层或脱模性基材，照射偏振光、优选偏振紫外线，从而赋予取向限制力的取向膜。光反应性基团优选为通过光照射而产生液晶取向能力的基团，具体而言，优选为通过照射光而产生的分子的取向诱发或异构化反应、二聚化反应、光交联反应、或者光分解反应那样的、产生成为液晶取向能力的起源的光反应的基团。该光反应性基团中，在取向性优异、保持近晶型液晶状态的方面，优选引起二聚化反应或光交联反应的基团。作为能产生以上的反应的光反应性基团，优选不饱和键、特别优选双键，特别优选具有选自由C＝C键、C＝N键、N＝N键、C＝O键组成的组中的至少一种的基团。
作为具有C＝C键的光反应性基团，例如可以举出乙烯基、多烯基、茋基、芪唑基、偶氮茋鎓基、查耳酮基、肉桂酰基等。作为具有C＝N键的光反应性基团，可以举出具有芳香族席夫碱和芳香族腙等结构的基团。作为具有N＝N键的光反应性基团，可以举出以偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲瓒基、氧化偶氮苯为基本结构者等。作为具有C＝O键的光反应性基团，可以举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基、马来酰亚胺基等。这些基团任选具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基、卤代烷基等取代基。取代基的数量没有特别限制，例如为1、2、3、或4个。
其中，优选能引起光二聚化反应的光反应性基团，肉桂酰基和查耳酮基容易得到光取向所需的偏振光照射量较少、且热稳定性和经时稳定性优异的光取向控制层故优选。进而，作为具有光反应性基团的聚合物，特别优选该聚合物侧链的末端部成为桂皮酸结构的具有肉桂酰基者。作为主链的结构，可以举出聚酰亚胺、聚酰胺、(甲基)丙烯酸类、聚酯等。
作为具体的取向控制层，例如可以举出：日本特开2006-285197号公报、日本特开2007-76839号公报、日本特开2007-138138号公报、日本特开2007-94071号公报、日本特开2007-121721号公报、日本特开2007-140465号公报、日本特开2007-156439号公报、日本特开2007-133184号公报、日本特开2009-109831号公报、日本特开2002-229039号公报、日本特开2002-265541号公报、日本特开2002-317013号公报、日本特表2003-520878号公报、日本特表2004-529220号公报、日本特开2013-33248号公报、日本特开2015-7702号公报、日本特开2015-129210号公报中记载的取向控制层。
作为光取向控制层用涂料的溶剂，只要使具有光反应性基团的聚合物和单体溶解就可以无限制地使用。作为具体例，可以示例刷磨处理取向控制层的形成方法中列举者。还优选在光取向控制层用涂料中添加光聚合引发剂、阻聚剂、各种稳定剂。另外，光取向控制层用涂料中，也可以加入除具有光反应性基团的聚合物和单体以外的聚合物、不具有能跟具有光反应性基团的单体共聚的光反应性基团的单体。
光取向控制层用涂料的聚合物或单体的浓度、涂布方法、干燥条件也可以示例刷磨处理取向控制层的形成方法中列举者。厚度也与刷磨处理取向控制层的优选厚度同样。
偏振光优选从取向前的光取向控制层面的方向照射。
偏振光的波长优选具有光反应性基团的聚合物或单体的光反应性基团能吸收光能的波长区域。具体而言，优选波长250～400nm的范围的紫外线。作为偏振光的光源，可以举出氙灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、KrF、ArF等紫外光激光等，优选高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯。
偏振光例如通过使来自前述光源的光透过偏振片而得到。通过调整偏振片的偏振角，可以调整偏振光的方向。偏振片可以举出偏振光滤光器、Gran Thomson、Glan Taylor等偏振光棱镜、线栅类型的偏振片。偏振光优选实质上为平行光。
通过调整照射的偏振光的角度，从而可以任意调整光取向控制层的取向限制力的方向。
照射强度由于聚合引发剂、树脂(单体)的种类、量而不同，例如以365nm基准计、优选10～10000mJ/cm2、进一步优选20～5000mJ/cm2。
(液晶偏振片)
液晶偏振片具有作为使仅单向的光通过的偏振片的功能，优选包含二色性色素。
<二色性色素>
二色性色素优选为具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的有机色素。
二色性色素优选在300～700nm的范围内具有吸收极大波长(λMAX)者。这种二色性色素例如可以举出吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中，优选偶氮色素。偶氮色素可以举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、茋偶氮色素等。优选双偶氮色素和/或三偶氮色素。二色性色素可以为单独，也可以组合2种以上，为了调整色调(无彩色)，优选组合2种以上。特别优选组合3种以上。特别优选组合3种以上的偶氮化合物。
作为优选的偶氮化合物，可以举出日本特开2007-126628号公报、日本特开2010-168570号公报、日本特开2013-101328号公报、日本特开2013-210624号公报中记载的色素。
二色性色素为导入至丙烯酸类等聚合物的侧链中的二色性色素聚合物也是优选方式。作为二色性色素聚合物，可以示例日本特开2016-4055号公报中列举的聚合物、日本特开2014-206682号公报的[化学式6]～[化学式12]的化合物聚合而成的聚合物。
对于液晶偏振片中的二色性色素的含量，从使二色性色素的取向良好的观点出发，在液晶偏振片中，优选0.1～30质量％、更优选0.5～20质量％、进一步优选1.0～15质量％、特别优选2.0～10质量％。
为了改善膜强度、偏光度、膜均质性，液晶偏振片中优选还包含聚合性液晶化合物。需要说明的是，聚合性液晶化合物也包含聚合后的膜。
<聚合性液晶化合物>
聚合性液晶化合物优选为具有聚合性基团、且示出液晶性的化合物。聚合性基团是指，参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。此处，光聚合性基团是指，由后述的光聚合引发剂产生的活性自由基、由于酸等而能进行聚合反应的基团。作为聚合性基团，可以举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。示出液晶性的化合物可以为热致液晶也可以为溶致液晶。另外，热致液晶可以为向列液晶也可以为近晶型液晶。
在可以得到更高的偏光特性的方面，聚合性液晶化合物优选近晶型液晶化合物，更优选高阶近晶型液晶化合物。聚合性液晶化合物形成的液晶相如果为高阶近晶型相，则可以制造取向秩序度更高的液晶偏振片。
作为具体的优选的聚合性液晶化合物，例如可以举出日本特开2002-308832号公报、日本特开2007-16207号公报、日本特开2015-163596号公报、日本特表2007-510946号公报、日本特开2013-114131号公报、WO2005/045485号公报、Lub etal.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)等中记载的化合物。
对于液晶偏振片中的聚合性液晶化合物的含有比例，从提高聚合性液晶化合物的取向性的观点出发，在液晶偏振片中，优选70～99.5质量％、更优选75～99质量％、进一步优选80～97质量％、特别优选83～95质量％。
液晶偏振片可以通过涂覆液晶偏振片用涂料而设置。液晶偏振片用涂料可以包含：添加剂、例如溶剂、聚合引发剂、敏化剂、阻聚剂、流平剂、聚合性非液晶化合物、交联剂等。添加剂可以仅使用1种，也可以组合2种以上而使用。
作为溶剂，优选使用作为取向控制层用涂料的溶剂列举者。
聚合引发剂只要使聚合性液晶化合物进行聚合就无限定，优选通过光而产生活性自由基的光聚合引发剂。作为聚合引发剂，例如可以举出苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、酰基氧化膦化合物、三嗪化合物、碘鎓盐、锍盐等。
作为敏化剂，优选光敏化剂，例如可以举出氧杂蒽酮化合物、蒽化合物、吩噻嗪、红荧烯等。
作为阻聚剂，可以举出氢醌类、儿茶酚类、苯硫酚类。
作为聚合性非液晶化合物，优选与聚合性液晶化合物共聚者，例如聚合性液晶化合物具有(甲基)丙烯酰氧基的情况下，可以举出(甲基)丙烯酸酯类。(甲基)丙烯酸酯类可以为单官能也可以为多官能。通过使用多官能的(甲基)丙烯酸酯类，从而可以改善偏振片的强度。使用聚合性非液晶化合物的情况下，为了抑制偏光度的降低，在液晶偏振片中，其含量优选设为1～15质量％，进一步优选设为2～10质量％、特别优选设为3～7质量％。
作为交联剂，可以举出能跟聚合性液晶化合物、聚合性非液晶化合物的官能团反应的化合物，可以举出异氰酸酯化合物、三聚氰胺、环氧树脂、噁唑啉化合物等。
将液晶偏振片用涂料涂覆于涂层上、脱模性基材上、或取向控制层上后，根据需要进行干燥、加热、固化，从而可以制作液晶偏振片。
作为涂覆方法，可以采用凹版涂覆法、模涂法、棒涂法和涂抹法等涂布法、柔性法等印刷法等公知的方法。
干燥优选在干燥机(热风干燥机、红外线干燥机等)中、以30～170℃的温度进行。干燥温度更优选50～150℃、进一步优选70～130℃，干燥时间优选0.5～30分钟、更优选1～20分钟、进一步更优选2～10分钟。
为了使液晶偏振片中的二色性色素和聚合性液晶化合物更牢固地取向，可以进行加热。加热温度优选设为聚合性液晶化合物形成液晶相的温度范围。
液晶偏振片用涂料中包含聚合性液晶化合物的情况下，优选进行固化。作为固化方法，可以举出加热和光照射，优选光照射。可以以通过固化使二色性色素取向的状态进行固定。固化优选以使聚合性液晶化合物形成液晶相的状态进行，也可以在示出液晶相的温度下进行光照射而固化。光照射时的光可以举出可见光、紫外光和激光。在操作容易的方面，优选紫外光。
照射强度根据聚合引发剂、树脂(单体)的种类、量而不同，例如以365nm基准计、优选100～10000mJ/cm2、进一步优选200～5000mJ/cm2。
对于液晶偏振片，通过将液晶偏振片用涂料涂布于取向控制层上，从而色素沿取向层的取向方向取向而具有规定方向的偏振透光轴，但在未设置取向控制层的情况下，也可以通过照射偏振光使得液晶偏振片用涂料固化，从而使液晶偏振片取向。
作为设置偏振片的方法，可以为任意方法，但特别优选(b)、(c)、(d)的方法。
(相位差层)
LP1中，在偏振片的与涂层相反侧具有相位差层也是优选方式。作为相位差层，在液晶显示装置的情况下，可以举出在偏振片与图像显示元件之间为了光学补偿而设置者作为代表性的例子，在有机EL显示装置、微LED显示装置等的情况下，可以举出为了防反射而设置者(λ/4相位差层、λ/2相位差层等)作为代表性的例子。
相位差层优选为通过涂覆相位差用涂料而设置的层，更优选为通过涂覆含有液晶化合物或高分子化合物的涂料而设置的层。相位差层根据目的可以适宜选择正或负的A板、正或负的C板、O板等。作为C板，优选使盘状液晶化合物水平取向而成者(日本特开2008-40309号公报)、在棒状液晶化合物中添加手性试剂并扭曲形成螺旋结构取向者、高分子化合物层，特别优选使盘状液晶化合物水平取向而成者。作为A板，可以举出使棒状液晶化合物水平取向而成者，取向方向(慢轴方向)优选与偏振片的透光轴平行。
作为高分子化合物，可以举出重复单元中具有至少1种芳香族环的聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酯、聚醚酮、聚芳基醚酮、聚酯酰亚胺等聚合物。
作为液晶化合物，在可以固定取向状态的方面，优选具有双键等聚合性基团的聚合性液晶化合物。另外，作为液晶化合物，可以使用棒状液晶化合物、盘状液晶化合物等。
作为棒状液晶化合物的例子，可以举出：日本特开2002-030042号公报、日本特开2004-204190号公报、日本特开2005-263789号公报、日本特开2007-119415号公报、日本特开2007-186430号公报、和日本特开平11-513360号公报中记载的具有聚合性基团的棒状液晶化合物。
作为具体的棒状液晶化合物，可以举出：
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH＝CH2
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-NPh-OCO-Ph1-O-(CH2)n-OCO-CH＝CH2
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph2-OCH3
CH2＝CHCOO-(CH2)m-O-Ph1-COO-Ph1-Ph1-CH2CH(CH3)C2H5
(式中，
m和n为2～6的整数，
Ph1和Ph2为1,4-亚苯基(Ph2任选在2位被甲基取代)，
NPh为2,6-亚萘基)。
这些棒状液晶化合物由BASF株式会社制以LC242等有市售，可以利用它们。
这些棒状液晶化合物可以以任意比率组合多种而使用。
作为盘状液晶化合物，可以举出苯衍生物、三聚茚衍生物、环己烷衍生物、氮杂冠系、苯基乙炔系大环化合物等。盘状液晶化合物在日本特开2001-155866号公报中也记载有各种，可以适合使用它们。
其中，作为盘状液晶化合物，优选使用下述通式(1)所示的具有三亚苯基环的化合物。
式中，R1～R6各自独立地为氢、卤素、烷基、或-O-X所示的基团(此处，X为烷基、酰基、烷氧基苄基、环氧改性烷氧基苄基、丙烯酰氧基改性烷氧基苄基、丙烯酰氧基改性烷基)。R1～R6优选为下述通式(2)所示的丙烯酰氧基改性烷氧基苄基(m为4～10的整数)。
用作液晶显示装置的光学补偿的情况下，相位差的程度可以根据液晶单元的类型、液晶单元中使用的液晶化合物的性质而适宜设定。例如，TN类型的情况下，优选使用：用盘状液晶沿厚度方向逐渐改变倾斜角的倾斜取向。VA类型或IPS类型的情况下，优选使用用棒状液晶化合物或盘状液晶化合物的C板层或A板层。另外，λ/4相位差层和λ/2相位差层的情况下，优选用棒状化合物形成A板层。这些相位差层可以以单层使用，也可以组合多个相位差层而使用。
形成相位差层的方法可以为将相位差层用涂料涂覆于偏振片上的方法，也可以为将脱模性基材上的相位差层(相位差层转印用层叠体)转印至偏振片的方法。另外，也可以将脱模性基材上的偏振片(例如PVA偏振片、液晶偏振片)和相位差层(偏振片和相位差层转印用层叠体)转印至涂层。相位差层转印用层叠体、以及偏振片和相位差层转印用层叠体的脱模性基材可以使用PVA偏振片转印用层叠体的脱模性基材中列举者等。
相位差层用涂料可以包含：溶剂、聚合引发剂、敏化剂、阻聚剂、流平剂、聚合性非液晶化合物、交联剂等。它们可以使用取向控制层或液晶偏振片中说明者。
作为使相位差层的液晶化合物取向的方法，可以采用与上述液层偏振片的取向同样的方法。即，可以举出如下方法：将相位差层用涂料直接涂覆于偏振片或脱模性基材并照射偏振紫外线的方法；对偏振片或脱模性基材进行刷磨处理的方法；在偏振片与相位差层之间设置取向控制层的方法；等。它们的条件也可以作为取向控制层或液晶偏振片中说明的条件优选的条件使用。
可以设置多个相位差层。该情况下，可以使用在1个脱模性基材上具有多个相位差层的层叠体，将多个相位差层转印至偏振片。另外，也可以使用多个在1个脱模性基材上具有1个相位差层的层叠体，将相位差层一个一个地转印至偏振片。可以组合涂覆方法与转印方法。
相位差层可以根据图像显示元件的类型而适宜选择。以下，对代表性的液晶单元中使用的相位差层进行说明。
(TN类型液晶单元用的相位差层)
TN类型液晶单元中，作为相位差层，优选由盘状液晶化合物形成的层，特别优选为边使盘状液晶化合物的盘状结构单元的圆盘面沿相位差层的厚度方向缓慢地改变倾斜角边取向的层。
盘状液晶化合物的盘状结构单元的圆盘面与相位差层的平面所呈的角度的下限优选5度、更优选10度。该角度的上限优选85度、更优选80度。
盘状液晶化合物的盘状结构单元的圆盘面与相位差层的平面所呈的角度的最小值与最大值的差的下限优选10度、更优选15度。该差的上限优选60度、更优选55度。
相位差层的平面方向上的盘状液晶化合物的取向方向优选以在盘状液晶化合物的盘状结构的圆盘面立起的状态下与偏振片的吸光轴成为平行的方向的方式进行调整。
相位差层的厚度方向的延迟量Rth(((nx+ny)/2-nz)×d)的下限优选20nm、更优选50nm、进一步优选100nm。Rth的上限优选400nm、更优选380nm、进一步优选350nm。
相位差层优选不具有特定的光轴、沿自法线方向倾斜的方向具有延迟量的绝对值的最小值。延迟量的绝对值成为最小的方向与法线方向的角度的下限优选5度、更优选10度。该角度的上限优选50度、更优选40度。
通过使相位差层的特性为上述，可以有效地防止斜着观察图像显示装置时的漏光和色调的变化，扩大视场角。
通常，TN类型的液晶单元中使用的偏振片优选吸光轴相对于液晶单元的边成为45度。如果形成将偏振片转印用层叠体卷取的状态的卷状物，则在对液晶单元的贴合的便利性的方面，优选使偏振片的吸光轴的方向相对于卷取为卷状的偏振片转印用层叠体的长度方向(例如薄膜流动方向或卷的卷取方向)成为45度。该情况下，相位差层优选根据偏振片的吸光轴方向层叠于卷状的偏振片转印用层叠体。
这种吸光轴成为倾斜的卷状的偏振片转印用层叠体中，从制造的容易性出发，偏振片优选为液晶偏振片。
对于偏振片转印用层叠体，使偏振片的吸光轴相对于长度方向成为平行或垂直的方向，或使卷状的偏振片转印用层叠体相对于长度方向以倾斜切出，使用其可以转印至液晶单元。
在液晶单元的可视侧和光源侧设置相位差层的情况下，可视侧相位差层和光源侧相位差层只要整体能进行光学补偿就没有特别限制，可视侧与光源侧的相位差层可以不同。例如，使可视侧相位差层为盘状液晶的倾斜取向层的情况下，不设置光源侧相位差层、或使光源侧相位差层为A板层或C板层、它们的复合层也是优选方式。另外，使可视侧相位差层与光源侧相位差层为相同的相位差层也是优选方式。
(VA类型液晶单元用的相位差层)
VA类型液晶单元中，相位差层的折射率椭圆体优选为具有厚度的圆盘状(例如豆沙面包状)～椭圆板状(例如汉堡包状)。
相位差层的面内延迟量(Re)优选0～200nm，厚度方向的延迟量(Rth)优选70～400nm，优选满足Re<Rth。
Re的下限更优选10nm、进一步优选20nm。Re的上限更优选100nm、进一步优选70nm。
Rth的下限更优选100nm、进一步优选120nm。Rth的上限更优选350nm、进一步优选300nm、特别优选250nm。
Rth-Re的下限优选20nm、更优选40nm、进一步优选50nm。上限优选300nm、更优选250nm、进一步优选200nm。
通过使Re、Rth和差(Rth-Re)为上述的范围，从而可以有效地减小由于角度而产生漏光、或产生灰度等级性的降低、色调的偏差的情况。
相位差层优选由盘状液晶化合物或棒状液晶化合物形成的相位差层。另外，作为相位差层的适合例，具体而言，可以举出：仅C板层(例如负的C板层)、仅A板层(例如正的A板层)、C板层与A板层的组合、A板层的正交组合等。
在液晶单元的可视侧和光源侧设置相位差层的情况下，可视侧相位差层和光源侧相位差层只要整体能进行光学补偿就没有特别限制，可视侧与光源侧的相位差层可以不同。例如，以A板层和C板层的组合进行光学补偿的情况下，使可视侧相位差层为A板层和C板层的组合、不设置光源侧相位差层、或使可视侧相位差层为A板、使光源侧相位差层为C板层、或使可视侧相位差层为C板、使光源侧相位差层为A板层也是优选方式。另外，使可视侧相位差层与光源侧相位差层为相同的相位差层也是优选方式。
偏振片(复合偏振片的情况下，例如为吸收型偏振片)的吸光轴优选相对于液晶单元的边成为平行或垂直。偏振片(例如薄膜卷)的吸光轴优选相对于长度方向(例如薄膜流动方向或卷的卷取方向)成为平行或垂直。
(IPS类型液晶单元用的相位差层)
IPS类型液晶单元的情况下，优选不设置相位差层，但也可以设置相位差层。IPS类型液晶单元中，液晶单元的液晶化合物的影响少，但从倾斜方向观察显示器的情况下，光源侧偏振片的吸光轴与可视侧偏振片的吸光轴自90度偏离而产生漏光，因此，使用相位差层的情况下，优选修改该角度的偏离。
相位差层的Re优选以绝对值计、从0～360nm的范围内根据设计思想而适宜选择，另外，相位差层的Rth优选以绝对值计、从0～360nm的范围内根据设计思想而适宜选择。相位差层优选使多个的折射率椭圆体(例如汉堡包状者)沿水平方向排列而成的、正的C板与正的A板的组合。各板中，优选nx>nz≥ny或nz>nx>ny。
还优选组合多个相位差层而沿垂直方向层叠。相位差层优选至少具有正的C板层。正的C板层的Re优选-10～10nm、进一步优选-5～5nm。正的C板层的Rth优选-220～-50nm、进一步优选-200～-60nm。正的C板层优选使棒状液晶化合物垂直取向而成者。
正的C板层优选与正的A板层组合。正的A板层的Re优选50～230nm、进一步优选80～220nm。正的A板层的Rth优选30～150nm、进一步优选60～130nm。正的A板层的nz((nx-nz)/(nx-ny))优选0.8～1.2、进一步优选0.9～1.1。正的A板层优选使棒状液晶化合物水平取向而成者，取向方向(慢轴方向)优选与偏振片的透光轴平行。
正的C板层与正的A板层的层叠顺序无限定，优选使正的C板层为液晶单元侧。另外，优选使用正的C板层与正的A板层的组合作为液晶单元的可视侧的相位差层，在液晶单元的光源侧不设置相位差层，但也可以另行设置相位差层。另外，也可以在光源侧和可视侧的任一侧使用正的C板层，在另一侧使用正的A板层。此时，可以适宜调整光学特性。
IPS类型液晶单元用的情况下，也与VA类型液晶单元用同样地，优选以偏振片(例如薄膜卷)的吸光轴相对于长度方向(例如薄膜流动方向或卷的卷取方向)成为平行或垂直的方式进行取向。
需要说明的是，上述各类型的液晶单元用的相位差层的说明中角度(45度、平行、垂直)优选包含5度、更优选3度、进一步优选2度的误差。
(有机EL显示装置)
对于有机EL显示装置，出于防反射的目的，优选在有机EL单元的可视侧具有圆偏光板。圆偏光板中的相位差层优选为λ/4相位差层。以下，对λ/4相位差层详细地进行说明。
(λ/4相位差层)
对于λ/4相位差层，将通过偏振片的直线偏振光转换为圆偏振光、使有机EL单元内的布线、玻璃基板等所反射的圆偏振光转换为与所入射的直线偏振光偏差90度的直线偏振光。λ/4相位差层可以为单层的λ/4相位差层，也可以为λ/4相位差层与λ/2相位差层的复合λ/4相位差层。在λ/4相位差层上可以设置C板层等。本说明书中，将单层的相位差层与复合λ/4相位差层有时一并称为λ/4相位差层。
λ/4相位差层的面内延迟量优选100～180nm、进一步优选120～150nm。λ/2相位差层的面内延迟量优选200～360nm、进一步优选240～300nm。
(λ/4相位差层的慢轴的角度)
单层的λ/4相位差层的情况下，λ/4相位差层的取向轴(慢轴)与偏振片的透光轴所呈的角度优选35～55度、更优选40度～50度、进一步优选42～48度。
组合λ/4相位差层与λ/2相位差层的复合λ/4相位差层的情况下，各相位差层的取向轴(慢轴)优选以两层中成为λ/4的相位差的角度配置。具体而言，λ/2相位差层的取向轴(慢轴)与偏振片的透光轴所呈的角度(θ)优选5～20度、更优选7度～17度。λ/2相位差层的取向轴(慢轴)与λ/4相位差层的取向轴(慢轴)所呈的角度优选2θ+45度±10度的范围、更优选2θ+45度±5度的范围、进一步优选2θ+45度±3度的范围。
作为λ/4相位差层的例子，可以将日本特开2008-149577号公报、日本特开2002-303722号公报、WO2006/100830号公报、日本特开2015-64418号公报、日本特开2018-10086号公报等作为参考。
进而，为了减小斜着观察时的着色的变化等，在λ/4相位差层上设置C板层也是优选方式。作为C板层，可以根据λ/4相位差层和λ/2相位差层的特性而选择正或负的C板层。
复合λ/4相位差层中，作为λ/4相位差层与λ/2相位差层的层叠方法，例如可以举出如下方法：
·通过转印在偏振片上设置λ/2相位差层，通过转印在其上设置λ/4相位差层的方法
·通过转印在偏振片上设置λ/2相位差层，通过涂覆在其上设置λ/4相位差层的方法
·通过涂覆在偏振片上设置λ/2相位差层，通过转印在其上设置λ/4相位差层的方法
·通过涂覆在偏振片上设置λ/2相位差层和λ/4相位差层的方法
·在脱模性基材上依次设置λ/4相位差层和λ/2相位差层，将它们转印至偏振片上的方法。
作为在λ/4相位差层上层叠C板层的方法，可以采用如下各种方法：通过转印在偏振片上的λ/4相位差层上设置C板层的方法；在脱模性基材上设置C板层，进一步在其上设置单层的λ/4相位差层或复合λ/4相位差层(λ/2相位差层和λ/4相位差层)，将它们转印至偏振片的方法等。
作为测定相位差层的延迟量的方法，例如可以举出如下方法：用自动双折射计(KOBRA系列、王子计测机器株式会社等)，使相位差层的表面相对于法线方向自0度的位置沿面内的光学轴方向每隔10度倾斜直至50度并测定，在附带的软件中输入膜厚和平均折射率na而算出。
另外，作为另一方法，例如，从法线方向用前述自动双折射计等测定延迟量(R0＝Re)，进一步使相位差层的表面自法线方向沿面内的光学轴方向倾斜40度测定延迟量(R40)，由这些延迟量的值、相位差层的厚度d、和相位差层的平均折射率na，根据下述数学式(2)、(3)、和(4)求出nx、ny和nz，将它们代入数学式(1)，可以算出Rth。
Rth＝[(nx+ny)/2-nz]×d (1)
R0＝(nx-ny)×d (2)
R40＝(nx-ny')×d/cos(φ) (3)
(nx+ny+nz)/3＝na (4)
需要说明的是，
φ＝sin-1〔sin(40°)/na〕
ny’＝ny×nz/〔ny2×sin2(φ)+nz2×cos2(φ)〕1/2
平均折射率na例如可以使用以以下的方法求出的值。
·去除相位差层用涂料的溶剂后，在非晶状态下照射紫外线而得到薄膜切片，使用该得到的薄膜切片，用阿贝折射率计测得的值
·由类似的组合物形成的相位差层的值或它们的平均的数值
·以在面内具有光学轴的方式进行取向测定Re，由膜厚算出nx和ny，nz是设为与nx(负的A板)或ny(正的A板)相同的值时计算的值
相位差层的延迟量测定用样品例如可以举出：在玻璃薄膜上在相同的条件下设有相位差层者；在脱模性基材上在相同的条件下设置相位差层、将其转印至玻璃板而成者。
(层间保护层)
LP1在任意的2个层之间(例如偏振片与相位差层之间、相位差层的未层叠偏振片的面、多个相位差层之间、粘接剂或粘合剂与偏振片或相位差层之间)可以具有层间保护层。层间保护层可以防止各层的成分或使用溶剂迁移至相邻的其他层、引起偏光度的降低或相位差的变化。层间保护层可以与相位差层和/或偏振片一起设置于脱模性基材上并转印至对象物。
作为层间保护层，例如可以举出透明树脂层等。作为透明树脂，可以举出聚乙烯醇、乙烯乙烯醇共聚物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚苯乙烯、丙烯酸类树脂、环氧树脂等，但不特别限定于这些。透明树脂可以利用交联剂而交联形成交联结构。另外，可以使硬涂那样的丙烯酸类等固化性(例如光固化性)组合物固化(例如光固化)。另外，可以在取向薄膜上设置层间保护层后，对层间保护层进行刷磨处理，在其上可以设置液晶化合物取向层(液晶偏振片、相位差层等)而不设置取向控制层。
优选在偏振片上直接设置相位差层或隔着层间保护层设置相位差层。需要说明的是，在偏振片上直接设置相位差层时，不仅包含偏振片与相位差层接触的情况，还包含用粘接剂或粘合剂将偏振片与相位差层贴合的情况。贴合时的粘接剂或粘合剂可以举出前述物质。
(偏振片转印用层叠体LP2)
LP2优选在脱模性薄膜上具有偏振片。另外，LP2优选在偏振片的与脱模性薄膜相反侧具有相位差层，优选在脱模性薄膜与偏振片之间具有涂层。
LP2中使用的脱模性薄膜与LP1中说明者同样。LP2中使用的脱模性薄膜与LP1中使用的脱模性薄膜可以相同，也可以不同。
LP2中使用的涂层与LP1中说明者同样。LP2中使用的涂层与LP1中使用的涂层可以相同，也可以不同。
LP2中使用的偏振片与LP1中说明者同样。LP2中使用的偏振片与LP1中使用的偏振片可以相同，也可以不同。
需要说明的是，当LP2在脱模性薄膜与偏振片之间不具有涂层的情况下，可以将在LP1中描述的设置偏振片和取向控制层的方法的说明中的“涂层”替换称为“脱模性薄膜”，将“脱模性薄膜与涂层的层叠体的涂层面”替换称为“脱模性薄膜的脱模面”。
LP2中使用的相位差层与LP1中说明者同样。LP2中使用的相位差层与LP1中使用的相位差层可以相同，也可以不同。
LP1和LP2中，为了保护层叠图像显示元件的一侧的面(偏振片面或相位差层面等)，在其面上可以贴合掩蔽薄膜。作为掩蔽薄膜，优选使用在聚乙烯、聚丙烯、聚酯等的基材上设有丙烯酸类、橡胶系、聚烯烃系等的粘合层的薄膜。可以使转印偏振片或相位差层等时使用的脱模性基材残留代替掩蔽薄膜。
掩蔽薄膜和脱模性基材优选在即将贴合于图像显示元件前、或在即将设置粘合剂层或粘接剂层前被剥离。
另外，LP1和LP2在偏振片面或相位差层面等上可以设置用于贴合图像显示元件的粘接剂层或粘合剂层，进一步可以在这些粘接剂层或粘合剂层上层叠分隔件。分隔件可以使用PVA偏振片转印用层叠体的脱模性基材中列举者等。
LP1和LP2优选除制造工序用薄膜以外不具有自立性薄膜作为构成层。此处自立性薄膜形成薄膜独立地制造。作为自立性薄膜，例如可以举出偏振片保护薄膜。制造工序用薄膜是指，可用于制造偏振片转印用层叠体但在图像显示装置中最终被去除的构件，例如可以举出脱模性薄膜、脱模性基材、掩蔽薄膜、分隔件等。
构成LP1和LP2的各层优选通过涂覆而设置，或通过转印而设置。由此，可以实现进一步的薄型化和轻量化。
(图像显示元件和图像显示装置)
通常，液晶显示装置等中具有电极的玻璃板等上封固有液晶化合物的状态者被称为液晶单元，有机EL显示装置等中具有电极的玻璃板等上封固有有机发光体的状态者被称为有机EL单元。本发明中，将如此设置偏光板前的状态者作为图像显示元件。
另外，通常，将在图像显示元件上设有偏光板、如果输入信号则可以显示图像的状态者、在其上层叠有触摸面板等构件的状态者称为图像显示面板，进而，将控制用于显示图像的信号的同时、将图像显示面板装入壳体等者有时称为图像显示装置。本发明的图像显示装置优选包含图像显示面板、即、如果输入信号则可以显示图像的状态者。
(液晶显示装置)
液晶显示装置优选在液晶单元的两侧设置偏振片。优选液晶显示面板的至少单面的偏振片为前述偏振片，优选两面的偏振片为前述偏振片。在液晶单元中设置偏振片的顺序可以以可视侧为前，也可以以光源侧为前，还可以为同时。
(LP1的贴合)
液晶显示装置优选在液晶单元的可视侧具有LP1。作为在液晶单元的可视侧贴合LP1的方法，可以举出如下方法：使液晶单元的可视侧面、跟LP1的与脱模性薄膜相反侧的面(偏振片面、或在偏振片上层叠其他层时为其他层的表面)用粘接剂或粘合剂贴合。作为粘接剂或粘合剂，优选使用使LP1的各层贴合的粘接剂或粘合剂。粘接剂或粘合剂可以预先设置于LP1，也可以在即将贴合前涂覆于LP1或液晶单元。
贴合时使用粘接剂的情况下，优选根据粘接剂的种类进行加热或照射辐射线使粘接剂固化。
贴合时，LP1可以使用切成所需的长度的单片物。另外，LP1为薄膜卷的情况下，可以边卷出LP1，边在即将贴合于液晶单元前切成所需长度或边贴合边切成所需长度。例如，LP1为在相位差层上层叠有无基材的光学用透明粘合剂片的薄膜卷的情况下，可以边卷出LP1，边剥离光学用透明粘合剂片的脱模层，从端部贴合于液晶单元，或可以切成所需长度后贴合于整面，或贴合于整面后切成所需长度。切割可以使用刀具、激光等。
液晶显示装置为固置型的VA类型或IPA类型的情况下，优选以偏振片的吸光轴成为水平方向的方式使LP1贴合。
贴合LP1后，可以将脱模性薄膜剥离。脱模性薄膜的剥离可以在刚刚贴合后进行，在下一工序或其以后，为了防止输送中的划痕，可以在即将组装成最终形态前或组装成最终形态后剥离。另外，图像显示装置转让至最终的消费者后，最终消费者可以剥离。
(LP2的贴合)
液晶显示装置优选在液晶单元的光源侧具有LP2。贴合LP2的方法与贴合LP1的方法可以相同，也可以不同。但液晶显示装置为固置型的VA类型或IPA类型的情况下，LP2优选以偏振片的吸光轴成为垂直方向的方式贴合。
LP2的层构成与LP1相同的情况下，可以使用LP1的偏振片转印用层叠体作为LP2。但通常液晶显示装置中，以可视侧的偏振片的吸光轴方向与光源侧的偏振片的吸光轴方向正交的方式进行设置，因此，LP1和LP2中，优选根据液晶显示元件的大小而改变宽度和长度。
LP2的脱模性薄膜与LP1同样地可以被剥离，但优选在组装成最终形态前被剥离。
液晶显示装置优选在光源侧偏振片与光源单元之间具有反射型偏光板。作为反射型偏光板，例如可以举出由3M公司销售的亮度改善薄膜DBEF系列。反射型偏光板可以在剥离脱模性薄膜后、用粘接剂或粘合剂贴合于偏振片面或涂布面。
(有机EL显示装置)
有机EL显示装置优选在有机EL单元的可视侧具有LP1。
贴合LP1后，可以将脱模性薄膜剥离。脱模性薄膜的剥离可以在刚刚贴合后进行，也可以在组装成最终形态为止的中途阶段、或组装成最终形态后剥离。另外，图像显示装置转让至最终的消费者后，最终消费者可以剥离。
有机EL显示装置可以为可折叠型(折叠型)或可卷曲型(卷取型)。本发明的有机EL显示装置能实现薄型化，折叠性、卷取性良好。
实施例
以下，参照实施例，对本发明更具体地进行说明。本发明不限定于下述实施例，也可以在能符合本发明的主旨的范围内适宜加以变更而实施。这些均包含于本发明的保护范围。
实施例的层叠体中的相位差层的延迟量测定如以下所述。
(相位差层的延迟量测定)
在厚度50μm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100)的非易粘接层面上，在与后述的实施例相同的条件下，设置取向控制层和相位差层，将其转印至玻璃板(35mm×35mm)，作为测定用样品。转印时使用紫外线固化型粘接剂。
对于样品，用自动双折射计(KOBRA-WR、王子计测机器株式会社)，将使用波长设为590nm时，测定从垂直方向测得的延迟量值(Re)，进而，使用了相位差层用涂料B的相位差层的情况下，将薄膜面内的慢轴作为倾斜轴(旋转轴)，使用了相位差层用涂料A和C的相位差层的情况下，将薄膜面内的任意方向作为倾斜轴，相对于薄膜法线方向自0度每隔10度倾斜至50度，同样地测定延迟量值，由该值、厚度和平均折射率求出Rth。
厚度如下求出：将薄膜包埋于环氧树脂，切出截面切片，用偏光显微镜观察，从而求出。
使用了相位差层用涂料B和C的相位差层的情况下，平均折射率使用1.60，使用了相位差层用涂料A的相位差层的情况下，平均折射率使用1.66。
关于实施例的层叠体中的各层，在以下进行说明。
(脱模性薄膜)
脱模性薄膜使用厚度50μm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100)，将非易粘接层面作为脱模面。需要说明的是，对非脱模面预先进行电晕处理，调整剥离力。
/>
/>
(偏振片)
(1)PVA偏振片转印用层叠体
作为热塑性树脂基材，将特性粘度0.62dl/d的聚对苯二甲酸乙二醇酯在挤出机中熔融/混炼后，以片状挤出至冷却辊上，制作厚度100μm的未拉伸薄膜。在该未拉伸薄膜的单面涂布聚合度2400、皂化度99.9摩尔％的聚乙烯醇的水溶液并干燥，形成PVA层。
将得到的层叠体以120℃、在圆周速度不同的辊之间沿长度方向拉伸至2倍并卷取。接着，对得到的层叠体在4％的硼酸水溶液中处理30秒后，在碘(0.2％)与碘化钾(1％)的混合水溶液中浸渍60秒并染色，然后，在碘化钾(3％)与硼酸(3％)的混合水溶液中处理30秒。
进而，将该层叠体在72℃的硼酸(4％)与碘化钾(5％)混合水溶液中沿长度方向进行单轴拉伸，然后，用4％碘化钾水溶液进行清洗，用气刀去除水溶液后，在80℃的烘箱中干燥，分切两端部并卷取，得到宽度50cm、长度1000m的PVA偏振片转印用层叠体。总计的拉伸倍率为6.5倍，PVA偏振片的厚度为5μm。需要说明的是，厚度如下：将PVA偏振片转印用层叠体包埋于环氧树脂后切出切片，在光学显微镜下进行观察并读取。该PVA偏振片在表1中记作PVA(转印)。
(2)液晶偏振片
依据日本特表2007-510946号公报的[0134]段落的记载和Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)，合成下述化合物(d)和(e)。
依据日本特开昭63-301850号公报的实施例1，合成下述色素(f)。
依据日本特公平5-49710号公报的实施例2，合成下述色素(g)。
依据日本特公昭63-1357号公报的通式(1)的化合物的制造方法，合成下述色素(h)。
将(d)75质量份、(e)25质量份、(f)2.5质量份、(g)2.5质量份、(h)2.5质量份、IRGACURE(商标)369E(BASF株式会社制)6质量份、和邻二甲苯250质量份混合并溶解，制作液晶偏振片用涂料。涂覆该涂料而得到的液晶偏振片在表1中记作液晶涂覆。
(实施例1)
在宽50cm的脱模性薄膜的电晕处理面涂布低折射率层用涂料，在烘箱中、以90℃进行干燥，使溶剂蒸发后，照射紫外线，形成厚度0.5μm的低折射率层。进一步在低折射率层上涂布硬涂层用涂料，在烘箱中、以90℃进行干燥，使溶剂蒸发后，照射紫外线，形成厚度3μm的硬涂层。然后，在硬涂层面涂布丙烯酸类的紫外线固化型粘接剂，与PVA偏振片转印用层叠体的偏振片面(PVA面)重叠，从脱模性薄膜面照射紫外线，使粘接剂固化，得到偏振片转印用层叠体(LPPVA0)。作为长度1000m的薄膜卷卷取。
(实施例2)
将实施例1中得到的偏振片转印用层叠体(LPPVA0)切成长度70cm，将热塑性树脂基材剥离，在其面上涂布取向控制层用涂料，以100℃进行干燥，设置厚度0.5μm的取向控制层。进一步对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。刷磨方向沿薄膜的流动方向进行。然后，在实施了刷磨处理的面上涂布相位差层用涂料A后，以125℃加热3分钟，使溶剂蒸发，且使盘状液晶性化合物取向。然后，在80℃的环境下照射紫外线30秒，得到偏振片转印用层叠体(LPPVA1)。
(实施例3)
与实施例2同样地设置取向控制层，对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。刷磨方向沿与薄膜的流动方向正交方向进行。然后，涂布相位差层用涂料B后，以110℃加热3分钟，使溶剂蒸发，且使棒状液晶性化合物取向。进而，在110℃的环境下照射紫外线30秒，得到偏振片转印用层叠体(LPPVA2)。
(实施例4)
使对取向控制层的刷磨方向相对于薄膜的流动方向为45度，除此之外，与实施例3同样地得到偏振片转印用层叠体(LPPVA3)。
(实施例5)
(相位差层转印用层叠体的制作)
作为脱模性基材，使用宽度50cm和厚度38μm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100)。在脱模性基材的非易粘接层面涂布取向控制层用涂料，以100℃进行干燥，设置厚度0.5μm的取向控制层。进一步对取向控制层用卷绕有尼龙制的起毛布的刷磨辊进行处理。刷磨如下进行：调整使薄膜倾斜地挂于刷磨辊、刷磨辊的方向与薄膜的行进速度、刷磨辊的转速，刷磨方向相对于薄膜的流动方向成为45度的方式进行。然后，涂布相位差层用涂料B后，以110℃加热3分钟，使溶剂蒸发，且使棒状液晶性化合物取向。进一步在110℃的环境下照射紫外线30秒，得到长度200m的相位差层转印用层叠体。
将实施例1中得到的偏振片转印用层叠体(LPPVA0)、和上述相位差层转印用层叠体卷出，用UV固化型粘接剂使LPPVA0的偏振片面与相位差层转印用层叠体的相位差层面贴合后卷取，得到长度200m的偏振片转印用层叠体(LPPVA4)。
(实施例6)
在脱模性薄膜的电晕处理面涂布低折射率层用涂料，在烘箱中、以90℃进行干燥，使溶剂蒸发后，照射紫外线，形成厚度86nm的低折射率层。进一步在低折射率层上涂布高折射率层用涂料，在烘箱中、以90℃进行干燥，使溶剂蒸发后，照射紫外线，形成厚度130nm的高折射率层。需要说明的是，厚度用椭偏仪(株式会社堀场制作所制、自动薄膜计测装置Smart SE)而测定。然后，与实施例1同样地设置硬涂层和偏振片，得到偏振片转印用层叠体。进而，与实施例4同样地设置相位差层，得到偏振片转印用层叠体(LPPVA5)。
(实施例7)
在宽50cm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4300)的单面涂覆凹凸转印用涂料，以160℃加热固化3分钟，设置涂覆量1.0g/m2的固化膜。固化膜在表面具有源自颗粒的凹凸结构(Ra0.7μm)。
使具有该得到的固化膜的薄膜为脱模性薄膜，除此之外，与实施例1同样地在固化膜面上设置低折射率层、硬涂层和偏振片，得到偏振片转印用层叠体(LPPVA6)。
(实施例8)
在实施例3中得到的偏振片转印用层叠体(LPPVA2)的相位差层上涂布层间保护涂层用涂料并干燥后，照射紫外线，设置干燥膜厚0.5μm的层间保护涂层。然后，将相位差层用涂料C涂布并干燥后，以38℃照射紫外线80秒，得到液晶化合物经垂直取向的相位差层。
(实施例9)
将实施例1中制作的层叠有低折射层和硬涂层的薄膜切成长度70cm，对硬涂层面沿长边方向进行刷磨处理，在该刷磨处理面涂布液晶偏光膜用涂料。进而，以110℃干燥3分钟，形成厚度2μm的膜，然后照射紫外线，得到偏振片转印用层叠体(LPLC0)。
(实施例10)
使用实施例9中得到的偏振片转印用层叠体(LPLC0)代替偏振片转印用层叠体(LPPVA0)，和使取向控制层的刷磨方向相对于薄膜的流动方向为45度，除此之外，与实施例3同样地得到偏振片转印用层叠体(LPLC1)。
(实施例11)
与实施例10同样地设置取向控制层，在进行了刷磨处理的取向控制层上涂布液晶相位差层用涂布液D，以120℃干燥后进一步加热3分钟，进行液晶的熟化，使盘状化合物取向。然后，照射紫外线，使涂布层固化，制作厚度1.8μm的相位差层，从而得到偏振片转印用层叠体(LPLC2)。
(实施例12)
使用实施例6中制作的层叠有低折射率层、高折射率层和硬涂层的薄膜代替实施例1中制作的层叠有低折射率层和硬涂层的薄膜，除此之外，与实施例10同样地得到偏振片转印用层叠体(LPLC3)。
将实施例1～12的层构成示于表1。
[表1]
(液晶显示装置中的评价)
将偏振片转印用层叠体切成液晶显示元件的大小，用光学用粘合剂贴合，之后将偏振片转印用层叠体的脱模性薄膜剥离，代替将市售的各类型(IPS、VA、TN)的液晶显示元件的可视侧偏光板和光源侧偏光板剥离。使原来的液晶显示装置的偏光板的吸光轴与偏振片转印用层叠体的吸光轴成为相同的方向进行贴合。需要说明的是，LPPVA4在即将与液晶单元贴合前剥离相位差层转印用层叠体的脱模性基材。
(图像显示性)
使液晶显示装置中显示风景画，从正面观察图像的显示状态，结果全部显示与原来的显示装置等同的画质的图像。
(视场角特性)
使图像朝向上下、左右、右上、右下方向，从正面沿各方向移动并观察。IPS和VA类型的液晶单元中，可视侧、光源侧这两者使用LPPVA0的情况、与TN类型的液晶单元中可视侧、光源侧这两者使用LPPVA0的情况相比，将有视场角的改善效果的情况记作○、未改变的情况记作×。
(反射眩光)
对于液晶显示装置，从倾斜方向(从法线方向倾斜约45度室内的荧光灯映射的状态下)观察荧光灯的反射眩光状态。使厚度50μm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100)的非易粘接层面为上方放置在液晶显示装置上，与该聚酯薄膜面的反射眩光相比，反射眩光均少。
(划伤性)
对液晶显示画面用钢丝棉往复摩擦50次后，观察偏振片的剥离，但未观察到偏振片的剥离，划伤性也优异。
将液晶显示装置中的评价结果归纳示于表2。
[表2]
(有机EL显示装置中的评价)
将偏振片转印用层叠体切成液晶显示元件的大小，用光学用粘合剂贴合，之后将偏振片转印用层叠体的脱模性薄膜剥离，代替将市售的有机EL显示装置的圆偏光板剥离。使原来的显示装置的圆偏光板的吸光轴与偏振片转印用层叠体的吸光轴成为相同的方向进行贴合。
(防反射性)
在室内从背后使荧光灯出现，观察画面，确认防反射效果，结果全部确认到与原来的有机EL显示装置等同的防反射效果。
(反射眩光)
对于有机EL显示装置，从倾斜方向(从法线方向倾斜约45度室内的荧光灯映射的状态下)观察荧光灯的反射眩光状态。使厚度50μm的聚酯薄膜(东洋纺株式会社制Cosmoshine(TM)A4100)的非易粘接层面为上方，放置在有机EL显示装置上，与该聚酯薄膜面的反射眩光相比，反射眩光均少。
(划伤性)
对有机EL显示画面用钢丝棉往复摩擦50次后，观察偏振片的剥离，但未观察到偏振片的剥离，划伤性也优异。
将有机EL显示装置中的评价结果归纳示于表3。
[表3]
/>

Claims (17)

1.一种图像显示装置的制造方法，其包括如下工序：以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的至少单面层叠偏振片转印用层叠体LP1，
所述涂层包含硬涂层、降反射层、和抗静电层中的任意者，
所述涂层涂布于脱模性薄膜的脱模面而设置，
所述偏振片通过下述（a）~（d）中的任意方法来设置：
（a）用粘接剂或粘合剂使PVA偏振片单独贴合在脱模性薄膜上的涂层的方法；
（b）用粘接剂或粘合剂使脱模性基材上的PVA偏振片与脱模性薄膜和涂层的层叠体的涂层面贴合后，将脱模性基材剥离而转印PVA偏振片的方法；
（c）在脱模性基材上的涂层上涂覆含有液晶化合物的液晶偏振片用涂料，使液晶化合物取向和固定的方法；
（d）使用粘接剂或粘合剂在脱模性基材上的液晶偏振片面贴合脱模性薄膜与涂层的层叠体的涂层面后，将脱模性基材剥离而转印液晶偏振片的方法，
所述偏振片转印用层叠体LP1不具有自立性的偏振片保护薄膜。
2.一种图像显示装置的制造方法，其包括如下工序：
工序（A），以在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片的偏振片转印用层叠体LP1的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的一个面层叠偏振片转印用层叠体LP1；和，
工序（B），以在脱模性薄膜上层叠有偏振片的偏振片转印用层叠体LP2的偏振片配置于图像显示元件侧的方式，在图像显示元件的另一个面层叠偏振片转印用层叠体LP2，
所述涂层涂布于脱模性薄膜的脱模面而设置，
所述偏振片转印用层叠体LP1的偏振片通过下述（a）~（d）中的任意方法来设置：
（a）用粘接剂或粘合剂使PVA偏振片单独贴合在脱模性薄膜上的涂层的方法；
（b）用粘接剂或粘合剂使脱模性基材上的PVA偏振片与脱模性薄膜和涂层的层叠体的涂层面贴合后，将脱模性基材剥离而转印PVA偏振片的方法；
（c）在脱模性基材上的涂层上涂覆含有液晶化合物的液晶偏振片用涂料，使液晶化合物取向和固定的方法；
（d）用粘接剂或粘合剂在脱模性基材上的液晶偏振片面贴合脱模性薄膜与涂层的层叠体的涂层面后，将脱模性基材剥离而转印液晶偏振片的方法，
所述偏振片转印用层叠体LP1和LP2不具有自立性的偏振片保护薄膜。
3.根据权利要求1所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP1在偏振片的与涂层相反侧具有相位差层，
形成所述相位差层的方法为以下的任意方法：
（e）将相位差层用涂料涂覆于偏振片上的方法；
（f）将脱模性基材上的相位差层转印至偏振片的方法；
（g）将脱模性基材上的偏振片和相位差层转印至涂层。
4.根据权利要求2所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP1在偏振片的与涂层相反侧具有相位差层，
形成所述相位差层的方法为以下的任意方法：
（e）将相位差层用涂料涂覆于偏振片上的方法；
（f）将脱模性基材上的相位差层转印至偏振片的方法；
（g）将脱模性基材上的偏振片和相位差层转印至涂层。
5.根据权利要求2所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP2在偏振片的与脱模性薄膜相反侧具有相位差层，
形成所述相位差层的方法为以下的任意方法：
（e）将相位差层用涂料涂覆于偏振片上的方法；
（f）将脱模性基材上的相位差层转印至偏振片的方法；
（g）将脱模性基材上的偏振片和相位差层转印至涂层。
6.根据权利要求4所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP2在偏振片的与脱模性薄膜相反侧具有相位差层，
形成所述相位差层的方法为以下的任意方法：
（e）将相位差层用涂料涂覆于偏振片上的方法；
（f）将脱模性基材上的相位差层转印至偏振片的方法；
（g）将脱模性基材上的偏振片和相位差层转印至涂层。
7.根据权利要求2、4~6中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，偏振片转印用层叠体LP2在脱模性薄膜与偏振片之间具有涂层。
8.根据权利要求1所述的图像显示装置的制造方法，其特征在于，构成偏振片转印用层叠体LP1的各层通过涂覆而设置，或通过转印而设置。
9.根据权利要求2所述的图像显示装置的制造方法，其特征在于，构成偏振片转印用层叠体LP1和偏振片转印用层叠体LP2的各层通过涂覆而设置，或通过转印而设置。
10.根据权利要求1~6中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为液晶显示元件。
11.根据权利要求7所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为液晶显示元件。
12.根据权利要求8或9所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为液晶显示元件。
13.根据权利要求1、3~4中任一项所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为有机EL显示元件。
14.根据权利要求8或9所述的图像显示装置的制造方法，其中，图像显示元件为有机EL显示元件。
15.一种偏振片转印用层叠体，其在脱模性薄膜上依次层叠有涂层和偏振片，
所述涂层包含硬涂层、降反射层、和抗静电层中的任意者，
所述涂层涂布于脱模性薄膜的脱模面而设置，
所述偏振片通过下述（a）~（d）中的任意方法来设置：
（a）用粘接剂或粘合剂使PVA偏振片单独贴合在脱模性薄膜上的涂层的方法；
（b）用粘接剂或粘合剂使脱模性基材上的PVA偏振片与脱模性薄膜和涂层的层叠体的涂层面贴合后，将脱模性基材剥离而转印PVA偏振片的方法；
（c）在脱模性基材上的涂层上涂覆含有液晶化合物的液晶偏振片用涂料，使液晶化合物取向和固定的方法；
（d）使用粘接剂或粘合剂在脱模性基材上的液晶偏振片面贴合脱模性薄膜与涂层的层叠体的涂层面后，将脱模性基材剥离而转印液晶偏振片的方法，
所述偏振片转印用层叠体不具有自立性的偏振片保护薄膜。
16.根据权利要求15所述的偏振片转印用层叠体，其中，在偏振片的与涂层相反侧还具有相位差层，
形成所述相位差层的方法为以下的任意方法：
（e）将相位差层用涂料涂覆于偏振片上的方法；
（f）将脱模性基材上的相位差层转印至偏振片的方法；
（g）将脱模性基材上的偏振片和相位差层转印至涂层。
17.根据权利要求15或16所述的偏振片转印用层叠体，其特征在于，构成偏振片转印用层叠体的各层通过涂覆而设置，或通过转印而设置。
CN202080038495.0A 2019-05-28 2020-05-27 图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体 Active CN113874763B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019099663 2019-05-28
JP2019-099663 2019-05-28
PCT/JP2020/020959 WO2020241704A1 (ja) 2019-05-28 2020-05-27 画像表示装置の製造方法及び偏光子転写用積層体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113874763A CN113874763A (zh) 2021-12-31
CN113874763B true CN113874763B (zh) 2024-05-03

Family

ID=73553788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202080038495.0A Active CN113874763B (zh) 2019-05-28 2020-05-27 图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2020241704A1 (zh)
KR (1) KR20220012288A (zh)
CN (1) CN113874763B (zh)
WO (1) WO2020241704A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115236001A (zh) * 2022-07-26 2022-10-25 豪威半导体（上海）有限责任公司 图像传感器及其制作方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012027260A (ja) * 2010-07-23 2012-02-09 Dainippon Printing Co Ltd 偏光シート積層体
JP2016118776A (ja) * 2014-12-22 2016-06-30 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付偏光板及びそれを含む積層体
JP6470829B1 (ja) * 2017-12-04 2019-02-13 住友化学株式会社 光学積層体及びその製造方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010277018A (ja) 2009-06-01 2010-12-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 耐久性に優れた偏光板およびその製造方法、それを用いた画像表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012027260A (ja) * 2010-07-23 2012-02-09 Dainippon Printing Co Ltd 偏光シート積層体
JP2016118776A (ja) * 2014-12-22 2016-06-30 住友化学株式会社 プロテクトフィルム付偏光板及びそれを含む積層体
JP6470829B1 (ja) * 2017-12-04 2019-02-13 住友化学株式会社 光学積層体及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2020241704A1 (ja) 2020-12-03
KR20220012288A (ko) 2022-02-03
CN113874763A (zh) 2021-12-31
JPWO2020241704A1 (zh) 2020-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6097619B2 (ja) 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置
JP5871615B2 (ja) 立体表示装置
JP2018022060A (ja) 長尺偏光フィルム及び液晶表示装置、エレクトレットルミネッセンス表示装置
JPWO2018164126A1 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示装置、位相差フィルム、円偏光板
JP5723077B1 (ja) 位相差板、楕円偏光板およびそれを用いた表示装置
CN113614592B (zh) 防反射用圆偏光板和使用其的图像显示装置
EP1582893A1 (en) Broad-band-cholesteric liquid-crystal film, process for producing the same, circularly polarizing plate, linearly polarizing element, illuminator, and liquid-crystal display
WO2018146995A1 (ja) 加飾フィルム
JP6724297B2 (ja) 光学積層体の製造方法、円偏光板の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
WO2019182121A1 (ja) エレクトロルミネッセンス表示装置
JP7469469B2 (ja) 光学要素、画像表示装置、仮想現実表示装置、電子ファインダー、偏光子の製造方法
JP4201259B2 (ja) 被膜シートの製造方法
JP6160237B2 (ja) 画像表示装置に用いられる偏光板、画像表示装置、および画像表示装置における明所コントラストの改善方法
CN116323180A (zh) 层叠光学膜及图像显示装置
JP2023081987A (ja) 偏光板の製造方法
JP2007140127A (ja) 偏光子、その製造方法、光学フィルムおよび画像表示装置
CN113874763B (zh) 图像显示装置的制造方法和偏振片转印用层叠体
WO2020149343A1 (ja) 積層体および画像表示装置
JP2006039164A (ja) 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、液晶パネル及び液晶表示装置
JP2005308988A (ja) 円偏光型反射偏光板、光学素子、集光バックライトシステムおよび液晶表示装置
JP5740892B2 (ja) 位相差フィルム、偏光子付き位相差フィルム、積層型パターン位相差板、および液晶表示装置
KR20170030886A (ko) 광학 필름 및 이를 포함하는 표시 장치
CN113874765B (zh) 圆偏振元件转印用层叠体和使用其的光学物品的制造方法
US20050266175A1 (en) Retardation coating
JP2014167659A (ja) 立体画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant