JP2013227612A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の成膜装置は、密閉容器中に設けられた放電を起こさせるための一対の電極が対向して設けられており、前記一対の電極の一方に成膜材料としての粉体を戴置できるように構成されていることを特徴とする。また、本発明の成膜方法は、粉体を一対の電極間に挟んだ状態で放電を起こし、凝集した粉体の解砕を行うと同時に気中に舞い上がらせ、気体の流れに戴せて成膜装置に供給することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
2・・・密閉容器
3・・・円板
4・・・電極
5・・・電源
6・・・放電
8・・・粉体
9・・・舞い上がった粉体
10・・・気体供給管
11・・・排出管
20・・・成膜部
21・・・プラズマガン
25・・・基板
Claims (6)
- 成膜材料として粉体を使用する成膜装置であって、
一対の電極(3、4)、気体を供給するための供給管(10)及び供給された前記気体を排出するための排出管(11)が設けられた密閉容器(2)と、前記一対の電極間に放電を生じさせるための電源(5)とを有する粉体供給部(1)、及び
基板(25)を載置するための基板ホルダー(26)とプラズマ発生装置(21)とを有する成膜室(27)と、前記プラズマ発生装置(21)に高周波を供給する高周波供給装置(22)とを含む成膜部(20)からなり、
前記一対の電極(3、4)は対向して設けられており、かつ、前記一対の電極のうちの一方の電極(3)は前記一対の電極(3、4)間に粉体を載置できるように構成されていることを特徴とする、成膜装置。 - 前記一方の電極が回転可能に構成されている、請求項1に記載の成膜装置。
- 前記一方の電極が円板状である、請求項1または2に記載の成膜装置。
- 一対の電極、気体供給管及び排出管を有する密閉容器とプラズマ発生装置とからなる成膜装置を使用して、成膜材料として粉体を用いて基板上に膜を形成する成膜方法であって、
前記一対の電極間に前記粉体を載置し、
前記一対の電極間に放電を生じさせて前記粉体を解砕し、
解砕された前記粉体と前記気体供給管から供給される気体とを、前記排出管を通じて前記プラズマ発生装置に搬送し、
前記プラズマ装置によりプラズマを発生させて前記基板上に膜を形成する、
ことを特徴とする成膜方法。 - 前記一方の電極が回転可能に構成されている、請求項3に記載の成膜方法。
- 前記一方の電極が円板状である、請求項4または5に記載の成膜方法。
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