JP6389810B2 - イオン液体材料の製造方法 - Google Patents
イオン液体材料の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6389810B2 JP6389810B2 JP2015142917A JP2015142917A JP6389810B2 JP 6389810 B2 JP6389810 B2 JP 6389810B2 JP 2015142917 A JP2015142917 A JP 2015142917A JP 2015142917 A JP2015142917 A JP 2015142917A JP 6389810 B2 JP6389810 B2 JP 6389810B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ionic liquid
- vapor deposition
- deposition material
- anode electrode
- nanoparticles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Inert Electrodes (AREA)
Description
[イオン液体材料製造装置1]
図1は本発明の第1実施形態に係るイオン液体材料製造装置1の模式図である。
本実施形態に係るイオン液体材料製造装置1は円筒状の真空チャンバ2を備えている。
被蒸着体保持部4には容器(シャーレ)10が着脱自在に取り付けられている。容器10にはイオン液体7が充填されている。このイオン液体7としてはイミダゾリウム系、ピリジニウム系、アンモニウム系、ホスホニウム系、ピロリジニウム系、ピペリジニウム系の液体が用いられる。
小角X線散乱法により、金ナノ粒子の粒径分布を導出した。図2に各イオン液体中に調製された金ナノ粒子のSAXSパターンを、図3にSAXSパターンから導出された粒径分布を示した。それぞれ異なったサイズを有していることがわかる。
これまでの研究から、スパッタ法では調製される金ナノ粒子の大きさが、アニオンのサイズと関係していることが分かっている。したがって、APD法においても調製される金ナノ粒子のサイズはアニオンのサイズによって制御されると考えられる。
イオン液体7は1-ブチル-メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートを使用した。
同軸型真空アーク蒸着源5では、蒸着材料11とアノード電極23との間にアーク放電が生じる。
上記アノード電極23内にH2ガスを導入することにより、ナノ粒子の酸化を抑制することが出来た。また同時にN2ガスもこのガスラインを経由して導入することによりN2ガスがプラズマにより十分励起され、酸化のない十分窒化しているNb、Ta,Ti、Zrなど窒化物や炭窒化物のナノ粒子を形成できる。
アーク電源34は、100V、数Aの容量の直流電圧源32を有し、この直流電圧源からコンデンサユニット33(例えば、5個のコンデンサユニットの場合、1800Μf)に充電している。この充電時間は約1秒かかるので、本システムにおいて1800μFで放電を繰り返す場合の周期は、3Hzで行われる。
ショット数の下限は5,000ショットである。これは5,000ショット以下では1nm以下のナノ粒子となり粒子の存在を測定できないためである。ショット数の上限は無いが、通常30,000ショットである。これはショット数が多くなると粒径が10nm以上となり、粒度分散が10nm±3nmと広がってしまうためである。周波数の下限は特にない。一方、周波数の上限は5Hzである。1秒間あたりの投入パワが多くなり有機溶媒が温度があがり凝集してしまうためである。
放電電圧が100で形成される電界Eと磁界BによるE×BによるF(Force:力)によりプラズマが前方にドリフトしない・
(蒸着エネルギ)= 1/2×(放電電圧)2×(コンデンサ容量)×(蒸着回数)
前記コンデンサ容量は1080μF、前記放電電圧は150V、前記ショット数は10000発以上の範囲である。
まず、真空チャンバ2内を高真空雰囲気にしておく。次いで、アーク電源32により、アノード電極23に対して、蒸着材料11に直流電圧を印加しておく。その状態でトリガ電源31を起動し、トリガ電極13にパルス電圧を印加する。
すると、蒸着材料11の表面とトリガ電極13の表面との間に絶縁碍子14の円筒状部分の厚み分の距離(約1mm)を介して印加することで絶縁碍子14の表面でトリガ放電となる沿面放電が発生する。このトリガ放電によって、蒸着材料11の表面から蒸着材料
11の構成物質が蒸発し、蒸気や、イオンや電子等が発生する。また、蒸着材料11と絶縁碍子14のつなぎ目から電子が発生する。
上記アーク電源32により、放電電圧100Vで電荷を充電しておく。ここで、コンデンサユニット33は、720μFとする。
トリガ電極13にトリガ電源31からのトリガパルスを印加し、カソード電極に取付けられた蒸着材料11とトリガ電極13の間に、ハット型碍子14を介して印加することで、ハット型碍子14の表面で沿面放電が発生し、蒸着材料11とアノード電極23との間でコンデンサユニット33に蓄電された電荷が放電され、カソード電極12に多量の電流が流入し、カソード電極12に取付けられた蒸着材料11が液相から気相に、さらにプラズマが形成される。
5・・・同軸型真空アーク蒸着源
6・・・電源装置
7・・・イオン液体材料
10…容器
11…蒸着材料
12…カソード電極
13…トリガ電極
15…絶縁碍子
18…コントローラ
23…アノード電極
31…トリガ電源
32…直流電圧源
33…コンデンサユニット
Claims (3)
- 円筒状のアノード電極とこのアノード電極の内側に蒸着材料を電気的に接続した円柱状のカソード電極を同軸上に配置したアークプラズマ蒸着源から、前記蒸着材料を原子又は分子としてイオン液体に照射し、イオン液体中に蒸着材料のナノ粒子を単分散化して混入形成させたことを特徴とするイオン液体材料の製造方法であって、
前記イオン液体を収容した容器を1〜100rpmの回転数で回転させながら、前記蒸着材料を前記イオン液体に照射する
イオン液体材料の製造方法。 - 前記蒸着材料は、金、白金又はアルミニウムである
請求項1に記載のイオン液体材料の製造方法。 - 前記アノード電極に印加される電圧は70〜100Vの範囲であり、前記アノード電極と蒸着材料間のアーク放電のためのコンデンサー容量は360〜1800μFの範囲である請求項1または請求項2に記載のイオン液体材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015142917A JP6389810B2 (ja) | 2014-08-01 | 2015-07-17 | イオン液体材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157838 | 2014-08-01 | ||
JP2014157838 | 2014-08-01 | ||
JP2015142917A JP6389810B2 (ja) | 2014-08-01 | 2015-07-17 | イオン液体材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016035100A JP2016035100A (ja) | 2016-03-17 |
JP6389810B2 true JP6389810B2 (ja) | 2018-09-12 |
Family
ID=55523137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015142917A Active JP6389810B2 (ja) | 2014-08-01 | 2015-07-17 | イオン液体材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6389810B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6285065B1 (ja) * | 2016-08-30 | 2018-02-28 | 国立大学法人京都大学 | 金属ナノ粒子製造方法、その製造装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5232988B2 (ja) * | 2006-02-27 | 2013-07-10 | 国立大学法人名古屋大学 | ナノ粒子の製造方法 |
JP4868592B2 (ja) * | 2007-04-24 | 2012-02-01 | 株式会社アルバック | 合金ナノ粒子作製方法、合金薄膜作製方法及び同軸型真空アーク蒸着装置 |
JP2010142699A (ja) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Kumamoto Univ | 同軸型真空アーク蒸着源を用いた排ガス触媒の製造方法 |
-
2015
- 2015-07-17 JP JP2015142917A patent/JP6389810B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016035100A (ja) | 2016-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11967696B2 (en) | Processes for the manufacture of conductive particle films for lithium ion batteries and lithium ion batteries | |
WO2020228225A1 (zh) | 使用金属丝电爆炸法制备碳包覆铜纳米颗粒的方法及装置 | |
US20130323583A1 (en) | Processes for the manufacture of conductive particle films for lithium ion batteries | |
JP5052954B2 (ja) | Cnt成長方法 | |
JPWO2016203585A1 (ja) | 成膜方法及び成膜装置 | |
JP4868592B2 (ja) | 合金ナノ粒子作製方法、合金薄膜作製方法及び同軸型真空アーク蒸着装置 | |
CN103510048A (zh) | 一种多孔结构铜纳米线阵列的制备方法及其薄膜电导率的测试方法 | |
JP6389810B2 (ja) | イオン液体材料の製造方法 | |
Polášek et al. | Effects of oxygen addition in reactive cluster beam deposition of tungsten by magnetron sputtering with gas aggregation | |
JP2009046741A (ja) | 微粒子膜の形成方法 | |
JP6161053B2 (ja) | 蒸着源および微粒子形成装置 | |
JP5191691B2 (ja) | 触媒材料の作製方法 | |
JP4837409B2 (ja) | ナノ粒子製造方法 | |
JP6285065B1 (ja) | 金属ナノ粒子製造方法、その製造装置 | |
TWI570799B (zh) | A hydrogenation treatment method and a hydrogenation treatment apparatus | |
US20090117289A1 (en) | Method and apparatus for deposition of thin film materials for energy storage devices | |
JP5604234B2 (ja) | 微粒子形成装置およびその方法 | |
JP2008231502A (ja) | 粉体攪拌機構、金属微粒子担持粉体の作製方法及び燃料電池用触媒 | |
RU2475298C1 (ru) | Способ получения нанопорошков из различных электропроводящих материалов | |
CN209481775U (zh) | 一种离子束辅助沉积系统 | |
JP2004018899A (ja) | 蒸着源及び成膜装置 | |
Zhukeshov et al. | The pulse vacuum-arc plasma generator for nanoengineering application | |
JP2010142699A (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源を用いた排ガス触媒の製造方法 | |
JP7433816B2 (ja) | ナノ構造体製造方法及びその装置 | |
Takaoka et al. | Surface modification using ionic liquid ion beams |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170922 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180814 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180820 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6389810 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |