JP5604234B2 - 微粒子形成装置およびその方法 - Google Patents
微粒子形成装置およびその方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5604234B2 JP5604234B2 JP2010199896A JP2010199896A JP5604234B2 JP 5604234 B2 JP5604234 B2 JP 5604234B2 JP 2010199896 A JP2010199896 A JP 2010199896A JP 2010199896 A JP2010199896 A JP 2010199896A JP 5604234 B2 JP5604234 B2 JP 5604234B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamp head
- vapor deposition
- fine particle
- container
- forming apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 59
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 27
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 27
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 6
- 239000007773 negative electrode material Substances 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 238000013019 agitation Methods 0.000 claims description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000005543 nano-size silicon particle Substances 0.000 description 8
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 platinum ions Chemical class 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- SDGKUVSVPIIUCF-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpiperidine Chemical compound CC1CCCC(C)N1 SDGKUVSVPIIUCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000283014 Dama Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- JNSGIVNNHKGGRU-JYRVWZFOSA-N diethoxyphosphinothioyl (2z)-2-(2-amino-1,3-thiazol-4-yl)-2-methoxyiminoacetate Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC(=O)C(=N/OC)\C1=CSC(N)=N1 JNSGIVNNHKGGRU-JYRVWZFOSA-N 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000002121 nanofiber Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011802 pulverized particle Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
上記真空アーク蒸着源と前記被蒸着体の間にベーンフィルターなどの液滴やパーティクルを除去する機構を取り付けてもよい。
シリコンターゲットの場合、電気伝導度および熱伝導度が金属ターゲットと比べ悪いため放電の際、シリコンターゲットのアークスポットよりシリコンの液滴あるいはパーティクルが発生しやすいため、これらの混入を嫌う場合には、これらの除去機構の設置が有効である。
上記蒸着材であるシリコンの比抵抗が0.1Ωcm以下になるように不純物をドーピングさせている。
このようなシリコンが蒸着されたカーボン系粉体は、電池の負極材に用いられる。
この状態で真空アーク蒸発源を放電させカーボンシートにプラズマを照射しナノ粒子を形成すれば、カーボンシート上面の電荷はシート上面に沿って金属板に逃げることができ、電荷の蓄積による絶縁破壊によるシートの穴あきを防ぐことが出来る。金属製支持台の場合は、コンデンサへの過電圧印加の場合と同様に、チャージアップによる絶縁破壊で電荷が金属製支持台に逃げるためカーボンシートの穴あきを防ぐことはできない。
出来ない。
好適には、上記担体は、粒径1μm以上〜1mm以下のカーボン粉体である。カーボンの粉体は、任意のカーボン系粉体で構わない、グラファイト系であるバルカン、ケチェンブラック、グラフェン(例えば、3次元グラフェン)、カーボンナノチューブやフラーレン、カーボンコイル、グラファイトナノファイバ等であってもよい。
またあらゆる種類のカーボン系シートへの担持も可能である。また、ゲルマニウム等のその他の半導体等を用いてもよい。
図1は、同軸型真空アーク蒸着5を用いた微粒子形成装置1の模式図である。
図1に示す微粒子形成装置1は、例えば、真空中の円筒容器である攪拌容器73に収納された担持体であるカーボン粉例えばバルカン(被蒸着体7)を攪拌しながら真空アークプラズマ発生装置3を用いて発生させた触媒金属であるナノ粒子(蒸着体:シリコン)のプラズマを上から照射し、アルミナ粉表面に触媒金属を担持させる。
図1に示す真空チャンバ2は、円筒状をしている。
真空チャンバ2内には、攪拌装置3および同軸型真空アーク蒸着源5が収納されている。
攪拌装置3は、被蒸着体7を入れるための攪拌容器73と、被蒸着体7を攪拌するための固定羽根であるスクレーパ75a,75bと、攪拌過程で生じる被蒸着体7のダマ(塊)を潰すスタンプ85とを有する。
被蒸着体7は、例えば、粒径1μm以上〜1mm以下の粉体であるチタニアの粉(TiO225)である。
回転機構72は、固定テーブル71の下方に配置されている。
攪拌容器73の材質は、例えばステンレスであり、内壁(内側側面及び底面73a)はバフ研磨されている。攪拌容器73の上部開口部の径は例えば60〜300mmである。当該上部開口部は楕円形状でもよい。
攪拌容器73の内壁は、ステンレスである。
図2(A)に示すように、攪拌容器73の周囲には、スクレーパ75a,75bが固定されている。
スクレーパ75a,75bは、例えばステンレスで製作されている。また、スクレーパ75a,75bは、直径1mm〜5mm程度の棒材で形成され、外側をテフロンチューブで被覆されている。
また、スクレーパ75bは、攪拌容器73の上部開放部から攪拌容器73内に延び、底面73aの中心軸付近に当接し、当該した箇所から底面73aに接触しながら内周面に向けて延びている。
また、スクレーパ75bの先端と、スクレーパ75aとの間には、隙間76が形成されている。
このように、スクレーパ75a,75bを構成することで、攪拌容器73内の被蒸着体7を中心軸80から内周面に向けて、内周面から中心軸80に向けて、並びに深さ方向に移動でき、効率的に攪拌することができる。
これにより、カーボン粉末上にシリコンを蒸着した場合には、図3のヒストグラムのようなシリコンナノ粒子の粒度分布のヒストグラムを示す。
図4に示すように、攪拌容器73の周囲には、スクレーパ75a,75bの他にスタンプ85が配置されている。
スタンプ85は、スクレーパ75a,75bによる攪拌過程で生じた被蒸着体(粉体状担体)7のダマを粉砕するために、攪拌容器73内の底面73aを叩くスタンプヘッド87と、スタンプヘッドを支持するアーム部89とを有する。
攪拌容器73の上部開口部の縁部90は、傾斜していない第1の縁部90aと、底面73aから離れる向きに滑らかに傾斜する第2の縁部90bと、段差90cとを有する。
段差90bは、例えば3〜20mmである。
これにより、アーム部89は、攪拌容器73が中心軸80を中心に回転する過程で、その中央部付近を縁部90に常に接触させている。
アーム部89は、上述した縁部90の段差90cで底面73aに向けて落下してスタンプヘッド87を底面73aに衝突させ、第1の縁部90aでスタンプヘッド87を底面73aに接触させた状態を所定期間保持する。その後、第2の縁部90bでスタンプヘッド87cと底面73aとを非接触状態にする。この動作は、攪拌容器73が中心軸80を中心に1回転する間に行われ、当該回転中、上述した第1、2、3の動作が繰り返し行われる。
図7に示すように、スタンプヘッド87と攪拌容器73の底面73aとは周期的に接触する。
すなわち、アーム部89が縁部90のスロープを登るにつれ、スタンプヘッド87は底面73a(床面)から徐々に上方に浮き上がる。
なお、攪拌容器73の被蒸着体7の深さ、並びにスタンプヘッド87の上下運動の移動量は、スタンプヘッド87が被蒸着体7の表面から出ないように設定される。
なお、攪拌容器73の回転数は、例えば、20〜100rpmである。
また、攪拌装置3では、スクレーパ75a,75bおよびスタンプ85のアーム部89の直径を非常に細くし、且つ、スタンプヘッド87が被蒸着体7の表面から出ないように設定されるため、同軸型真空アーク蒸着源5からのナノ粒子(蒸着体)が、スクレーパ75a,75bおよびスタンプヘッド87に衝突する量を少なくできる。
同軸型真空アーク蒸着源5は、カソード電極に取付けられたシリコンで成る円柱状の蒸着材料11と、アルミナで成るハット状の絶縁碍子14(以下、ハット型碍子と呼ぶ)と、トリガ電極13とを有する。
カソード電極に取付けられた蒸着材料11と、ハット型碍子14と、トリガ電極13は同心円状に密着させて取り付けられている。
なお、同軸型真空アーク蒸着源5は、図示しない支柱と図示しない真空フランジを介して、真空チャンバ2の壁面に取付けられている。
電源装置6は、トリガ電源31、アーク電源32、コンデンサユニット33を有する。
トリガ電源31は、パルストランスからなり、入力200VのμS単位のパルス電圧を約17倍に変圧して、3.4kV、数μS単位のプラス極性のトリガパルスを出力する。
コンデンサユニット33は、720〜1800μF、耐圧100Vである。コンデンサユニット33は、アーク電源32により、100Vで充電される。
ターボ分子ポンプ51からロータリポンプ53までは、金属製の配管で接続されており、真空チャンバ2内の真空排気を行っている。真空排気を行うことで、真空チャンバ2内は、10−4Pa以下に保たれている。
[同軸型真空アーク蒸着源5の動作例]
アーク電源32により、100Vで電荷を充電しておく。ここで、コンデンサユニット33は、720〜1800μFとする。
トリガ電極13にトリガ電源31からの3.4kVのトリガパルスを印加し、カソード電極に取付けられた蒸着材料11とトリガ電極13の間に、ハット型碍子14を介して印加することで、ハット型碍子14表面で沿面放電が発生し、蒸着材料11とアノード電極23との間でコンデンサユニット33に蓄電された電荷が放電され、カソード電極に多量の電流が流入し、白金で成るカソード電極に取付けられた蒸着材料11が液相から気相、さらにシリコンのプラズマが形成される。
被蒸着体7は、スクレーパ75a,75bに衝突することにより、攪拌容器73の上に現れて白金イオンに曝される。これを次々と継続することによって、攪拌容器73内の全ての被蒸着体7の粒子に均一にシリコンの微粒子を形成するというものである。
3…攪拌装置
5…同軸型真空アーク蒸着源
7…被蒸着体
73…攪拌容器
75a,75b…スクレーパ
85…スタンプ
87…スタンプヘッド
89…アーム部
90…縁部
Claims (3)
- 非導電体に不純物をドーピングした導電体の蒸着材を飛翔する真空アーク蒸着源と、
前記真空アーク蒸着源と対向して配置され、被蒸着体である粉体状担体を収容する容器と、
前記容器内で前記粉体状担体を攪拌する攪拌手段と、
前記攪拌手段とは別に設けられ、前記攪拌手段による攪拌過程で生じた前記粉体状担体の塊を粉砕するために、スタンプヘッドを前記容器の底面に衝突させる第1の動作と、前記スタンプヘッドを前記底面に接触させた状態で保持する第2の動作と、前記スタンプヘッドを前記底面から離す第3の動作とを順に繰り返す粉砕手段と
を有し、
前記容器の上部開放部の円状の縁部は、前記容器の中心軸が延びる方向に傾斜するスロープとなり、所定箇所で段差を有し、
前記粉砕手段は、
前記底面に向けて付勢されながら前記縁部に当接するアーム部を有し、当該アーム部が前記段差で前記底面に向けて落下したときに前記スタンプヘッドを前記底面に接触させ、前記アーム部が前記スロープに沿って所定の位置に達したときに前記スタンプヘッドを前記底面から離し、
前記真空アーク蒸着源と、前記被蒸着体との間に液滴やパーティクルを除去するフィルタが設けられている
微粒子形成装置。 - 前記蒸着材は、シリコンの比抵抗が0.1Ωcm以下になるように前記不純物をドーピングさせたものであり、
被蒸着材は、カーボン系粉体である
請求項1に記載の微粒子形成装置。 - 前記シリコンが蒸着された前記カーボン系粉体は、電池の負極材に用いられる
請求項1に記載の微粒子形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010199896A JP5604234B2 (ja) | 2010-09-07 | 2010-09-07 | 微粒子形成装置およびその方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010199896A JP5604234B2 (ja) | 2010-09-07 | 2010-09-07 | 微粒子形成装置およびその方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014087258A Division JP5923547B2 (ja) | 2014-04-21 | 2014-04-21 | 微粒子形成装置およびその方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012057198A JP2012057198A (ja) | 2012-03-22 |
JP5604234B2 true JP5604234B2 (ja) | 2014-10-08 |
Family
ID=46054646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010199896A Active JP5604234B2 (ja) | 2010-09-07 | 2010-09-07 | 微粒子形成装置およびその方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5604234B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6463080B2 (ja) * | 2014-10-28 | 2019-01-30 | 花王株式会社 | 紫外線吸収剤の製造方法 |
JP7433816B2 (ja) * | 2018-09-10 | 2024-02-20 | アドバンス理工株式会社 | ナノ構造体製造方法及びその装置 |
WO2020054665A1 (ja) * | 2018-09-10 | 2020-03-19 | 国立大学法人東京工業大学 | ナノ構造体、電極、電池及びナノ構造体製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0527482Y2 (ja) * | 1987-07-14 | 1993-07-13 | ||
JPH0444359U (ja) * | 1990-08-14 | 1992-04-15 | ||
JP3787410B2 (ja) * | 1997-05-13 | 2006-06-21 | キヤノン株式会社 | 堆積膜製造方法及び光起電力素子の製造方法 |
JP2001089847A (ja) * | 1999-09-20 | 2001-04-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | シリコンまたはシリコン化合物膜の成膜方法 |
JP4404668B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-01-27 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 微粒子の撹拌方法およびこれを利用した砥粒の表面改質方法 |
DE102005011940A1 (de) * | 2005-03-14 | 2006-09-21 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von beschichteten Kohlenstoffpartikel und deren Verwendung in Anodenmaterialien für Lithium-Ionenbatterien |
JP4927384B2 (ja) * | 2005-11-16 | 2012-05-09 | Jfeケミカル株式会社 | リチウムイオン二次電池用負極材料およびその製造方法、リチウムイオン二次電池用負極ならびにリチウムイオン二次電池 |
JP5039956B2 (ja) * | 2006-09-07 | 2012-10-03 | トヨタ自動車株式会社 | 負極活物質、負極およびリチウム二次電池 |
JP4861257B2 (ja) * | 2007-06-18 | 2012-01-25 | 株式会社アルバック | 同軸型真空アーク蒸着源を用いた微粒子膜の製造方法及び製造装置 |
JP4970191B2 (ja) * | 2007-08-16 | 2012-07-04 | 株式会社アルバック | 微粒子形成方法 |
JP5436198B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-03-05 | アルバック理工株式会社 | 微粒子形成装置およびその方法 |
-
2010
- 2010-09-07 JP JP2010199896A patent/JP5604234B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012057198A (ja) | 2012-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4999167B2 (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源を用いるナノ粒子の担持方法 | |
JP5670584B2 (ja) | リチウム二次電池用シリコン系ナノ複合陰極活物質の製造方法 | |
JP5604234B2 (ja) | 微粒子形成装置およびその方法 | |
JP4861257B2 (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源を用いた微粒子膜の製造方法及び製造装置 | |
JP2008095163A (ja) | ナノ金属粒子及びナノ金属薄膜の形成方法、並びにナノ金属粒子のサイズ制御方法 | |
JP5923547B2 (ja) | 微粒子形成装置およびその方法 | |
JP4837409B2 (ja) | ナノ粒子製造方法 | |
JP5502617B2 (ja) | 燃料電池用電極製造装置およびその方法 | |
JP2009046741A (ja) | 微粒子膜の形成方法 | |
JP5188053B2 (ja) | ナノ粒子作製方法 | |
JP2008231502A (ja) | 粉体攪拌機構、金属微粒子担持粉体の作製方法及び燃料電池用触媒 | |
JP2019049035A (ja) | 微粒子形成装置およびその方法 | |
JP4970191B2 (ja) | 微粒子形成方法 | |
JP5436198B2 (ja) | 微粒子形成装置およびその方法 | |
JP5191691B2 (ja) | 触媒材料の作製方法 | |
JP5017017B2 (ja) | 同軸型真空アーク蒸着源を備えたナノ粒子担持装置およびナノ粒子坦持方法 | |
WO2020071335A1 (ja) | 金属粒子組成物の製造方法および金属粒子組成物 | |
Agawa et al. | Evaluation of the Pt/C Catalyst for Fuel Cells Prepared by a NanoparticleFormation Pulsed Arc Plasma Source | |
JP2010202899A (ja) | 静電トラップを具備するプラズマ発生装置及びプラズマ加工装置 | |
JP5016976B2 (ja) | 微粒子膜の製造方法 | |
CN104310485B (zh) | 一种带有硫化铝外壳的二硫化钨纳米粉末材料及其制备方法 | |
JP7433816B2 (ja) | ナノ構造体製造方法及びその装置 | |
RU2468989C1 (ru) | Способ получения наночастиц | |
JP7496133B2 (ja) | ナノ構造体、電極及び電池 | |
JP2012167140A (ja) | ナノ粒子分散イオンゲル及びナノ粒子分散イオンゲルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130903 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140421 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140804 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140825 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5604234 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |