JP2013227596A - 成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空チャンバー2と、真空チャンバー2の底部より蒸着材料13を供給する支持ロッド8を備えたハース7と、蒸着材料13を昇華させるプラズマを発生させるガン3と、ガン3に電力を供給する電源6と、を具備する成膜装置1とする。ハース7の内部には磁石9を設けて、ハース7と支持ロッド8とを電気的に接続して、ハース7および支持ロッド8が共に電源6と接続する。また、真空チャンバー2とガン3との間に第1のコイル4を配置して、真空チャンバー2外の底部に第2のコイル5を配置することもできる。
【選択図】図1
Description
2 真空チャンバー
3 HCD(ホロカソード)ガン
4 コイル(第1のコイル)
5 空芯コイル(第2のコイル)
6 外部電源
7 ハース
8 支持ロッド
9 永久磁石
13 蒸着材料
Claims (3)
- 真空チャンバーと、
前記真空チャンバーの底部より蒸着材料を供給する支持ロッドを備えたハースと、
前記蒸着材料を昇華させるプラズマを発生させるガンと、
前記ガンに電力を供給する電源と、
を具備する成膜装置であって、
前記ハースの内部には磁石が設けられており、
前記ハースと前記支持ロッドとは電気的に接続されており、
前記ハースおよび前記支持ロッドが共に前記電源と接続されている
ことを特徴とする成膜装置。 - 前記真空チャンバーと前記ガンとの間に第1のコイルが配置されており、前記真空チャンバー外の底部に第2のコイルが配置されていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 請求項1または請求項2に記載の成膜装置を用いる成膜方法であって、前記蒸着材料を前記ハース内に装填させた後、前記ハースおよび前記支持ロッドを前記蒸着材料に接触させた状態で前記ガンから発生するプラズマを前記蒸着材料に照射させて成膜することを特徴とする成膜方法。
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