JP5063457B2 - スパッタ装置 - Google Patents
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Description
磁気ヨーク16は磁気回路を構成するために設置され、例えばSS11、SUS430等の材料が使用される。さらにターゲット15、グラファイトシート17、冷却ジャケット14、一対のリング状磁石12A、12B、磁気ヨーク16よりなる構造体の少なくとも一方にはグランドに接続されたリング状のアノード18が設けられている。そして図示しないDC電源よりリング状磁石12A、12Bに負電位が印加されるようになっている。この場合、最も外側に配置される磁気ヨーク16を利用して給電を行うことができる。また、リング状のアノード16に冷却水等の冷却媒体を循環させる冷却機構を設けるようにしてもよい。磁気ヨーク16また、前記構造体の内側には被成膜体が配置されるスパッタリング用空間19が形成されている。
12A、12B リング状磁石
14 冷却ジャケット
15 スパッタリングターゲット
16 磁気ヨーク
17 グラファイトシート
18 アノード
19 スパッタリング用空間
21(21a〜21d) スパッタリングカソード
22A、22B 電源
23 被成膜体
Claims (6)
- 互いに極性が異なる一対のリング状磁石と、前記一対のリング状磁石の内側に設けられるリング状スパッタリングターゲットと、前記一対のリング状磁石と前記リング状スパッタリングターゲットとの間に設けられる冷却ジャケットと、前記リング状スパッタリングターゲットと前記冷却ジャケットとの間に設けられ、前記リング状スパッタリングターゲットで発生する熱を前記冷却ジャケットに伝達させる熱伝達部材と、前記一対のリング状磁石の外側に設けられるマグネトロン放電用の磁気回路から構成され、全体が円筒形の形状をなし、円筒状の内側にスパッタリング用空間が形成されたスパッタリングカソードと、
前記カソードの少なくとも一方の側面に、断面の形状が前記カソードの断面と同形状の接地されたリング状のアノードを設け、
前記スパッタリング空間の軸方向に糸状又は円筒状の被成膜体を移動させ、あるいは軸方向に固定させた状態で、円筒状の内側のスパッタリング用空間にスパッタリング物質を弾き飛ばし出させて被成膜体の外周に成膜を行うものであることを特徴とするスパッタ装置。 - 前記リング状のアノードが冷却機構を備えていることを特徴とする請求項1に記載のスパッタ装置。
- 前記磁気回路が給電部を兼ねていることを特徴とする請求項1又は2に記載のスパッタ装置。
- 前記スパッタリングターゲットへの給電が直流電源により行われることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載のスパッタ装置。
- 前記熱伝達部材がグラファイトシートであることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のスパッタ装置。
- 互いに極性が異なる一対のリング状磁石と、前記一対のリング状磁石の内側に設けられるリング状スパッタリングターゲットと、前記一対のリング状磁石と前記リング状スパッタリングターゲットとの間に設けられる冷却ジャケットと、前記リング状スパッタリングターゲットと前記冷却ジャケットとの間に設けられ、前記リング状スパッタリングターゲットで発生する熱を前記冷却ジャケットに伝達させる熱伝達部材と、前記一対のリング状磁石の外側に設けられるマグネトロン放電用の磁気回路から構成され、全体が円筒形の形状をなし、円筒状の内側にスパッタリング用空間が形成されたスパッタリングカソードを2台で1組とし、
隣り合う一方のスパッタリングカソードが負電位のとき、他方のスパッタリングカソードが正電位となるように交互に交流電圧を印加し、
前記スパッタリング空間の軸方向に糸状又は円筒状の被成膜体を移動させ、あるいは軸方向に固定させた状態で、円筒状の内側のスパッタリング用空間にスパッタリング物質を弾き飛ばし出させて被成膜体の外周に成膜を行うものであることを特徴とするスパッタ装置。
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