JP2009263773A - 両面蒸着フィルムの製造方法および両面蒸着フィルム - Google Patents
両面蒸着フィルムの製造方法および両面蒸着フィルム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 一方の表面に導電性を有する蒸着膜aが形成された高分子フィルムを、表面に絶縁性の高分子材料が貼り付けられた冷却ロール上に、前記高分子フィルムの蒸着膜aが形成された表面と冷却ロール上の高分子材料とが接触するように連続的に供給し、蒸着膜aと冷却ロールとの間に電圧を印加して前記高分子フィルムを冷却ロールに密着させた状態で、高分子フィルムの他方の面に蒸着膜bを形成せしめて、高分子フィルムの両面にそれぞれ蒸着膜aと蒸着膜bとが形成された両面蒸着フィルムを連続的に巻き取る。
【選択図】 図2
Description
図1〜3に示す巻取式真空蒸着装置を用いて、以下に示す手順により両面蒸着フィルムを作製した。
実施例1と同様に蒸着を行うと共に、さらに、裏面(両面)蒸着する際に、電子ビーム照射器12bから5〜20Wの電力で得た電子を冷却ロールに巻き付けたPAフィルム照射し続けたところ、蒸着速度100m/分でサーマルダメージの無い良好な両面蒸着フィルムが得られた。またこのとき得られた酸化アルミ膜は厚みが110nm、全光線透過率は70%、表面抵抗は106Ω/□であった。直径100μm以上の貫通しているピンホール数を計測したところ、1,000mm×10,000m相当の範囲内に9個存在した。
HCr鍍金処理した平滑な冷却ロール4を片面蒸着、両面蒸着共に使用した以外は、実施例1と同様に実施したところ、最初の片面蒸着時の蒸着速度は200m/分でサーマルダメージの無い良好な片面蒸着フィルムが得られた。このとき得られた酸化アルミ膜は厚みが110nm、全光線透過率は70%、表面抵抗は106Ω/□であった。
PAフィルムを巻き付けた冷却ロール4(絶縁冷却ロール24)を片面蒸着、裏面(両面)蒸着共に使用した以外は、実施例1と同様に実施した。片面蒸着時の蒸着速度を100m/分として得た片面蒸着フィルムの酸化アルミ膜は厚みが110nm、全光線透過率は70%、表面抵抗は106Ω/□であったが、直径100μm以上の貫通しているピンホール数を計測したところ、1,000mm×10,000m相当の範囲内に18個と増大していた。
2:高分子フィルム
4:冷却ロール
5:蒸発源
6:絶縁性の高分子材料
8:蒸着膜a
9:巻取りロール
10: 真空チャンバ
11: 仕切板
12a: 荷電粒子照射器(電子ビーム照射器)
12b: 荷電粒子照射器(電子ビーム照射器)
13 : ガイドロール
13a: ガイドロール
13b: ガイドロール
18:蒸着膜b
22:(蒸着膜a8、高分子フィルム2からなる)片面蒸着フィルム
24:(絶縁性の高分子材料6と冷却ロール4からなる)絶縁冷却ロール
27: 直流バイアス電源
28:(蒸着膜a8、高分子フィルム2、蒸着膜b18からなる)両面蒸着フィルム
29:巻取りロール
31:巻出しロール
J1:被蒸発物(アルミ蒸着の場合はアルミ蒸気)
J2:被蒸発物(アルミ蒸着の場合はアルミ蒸気)
Claims (4)
- 一方の表面に導電性を有する蒸着膜aが形成された高分子フィルムを、表面に絶縁性の高分子材料が貼り付けられた冷却ロール上に、前記高分子フィルムの蒸着膜aが形成された表面と冷却ロール上の高分子材料とが接触するように連続的に供給し、蒸着膜aと冷却ロールとの間に電圧を印加して前記高分子フィルムを冷却ロールに密着させた状態で、高分子フィルムの他方の面に蒸着膜bを形成せしめて、高分子フィルムの両面にそれぞれ蒸着膜aと蒸着膜bとが形成された両面蒸着フィルムを連続的に巻き取る両面蒸着フィルムの製造方法。
- 絶縁性の高分子材料に荷電粒子を照射することにより、冷却ロール上に絶縁性の高分子材料を貼り付ける、請求項1に記載の両面蒸着フィルムの製造方法。
- 蒸着膜bの形成中にも、絶縁性の高分子材料に荷電粒子を照射する、請求項2に記載の両面蒸着フィルムの製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の両面蒸着フィルムの製造方法により製造された両面蒸着フィルム。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103227013A (zh) * | 2012-01-25 | 2013-07-31 | 日东电工株式会社 | 导电性薄膜卷的制造方法 |
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EP3686315A1 (de) * | 2019-01-28 | 2020-07-29 | FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum beschichten eines bandförmigen substrates |
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2009
- 2009-03-18 JP JP2009065680A patent/JP2009263773A/ja active Pending
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