JP5884984B2 - 成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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し、真空チャンバーとガンとの間に第1のコイルが、真空チャンバー外の底部に第2のコイルがそれぞれ配置されており、かつハースの内部には磁石が設けられている成膜装置であって、ハースおよび支持ロッドが共に導線を介して電源と接続されており、かつハースと支持ロッドとを前記導線とは異なる導線を介して接続することでハースと支持ロッドとの間でプラズマによる電流が通電可能にされている成膜装置とした。
2 真空チャンバー
3 HCD(ホロカソード)ガン
4 コイル(第1のコイル)
5 空芯コイル(第2のコイル)
6 外部電源
7 ハース
8 支持ロッド
9 永久磁石
13 蒸着材料
Claims (2)
- 真空チャンバーと、
前記真空チャンバーの底部より蒸着材料を供給する支持ロッドを備えたハースと、
前記蒸着材料を昇華させるプラズマを発生させるガンと、
前記ガンに電力を供給する電源と、
を具備し、
前記真空チャンバーと前記ガンとの間に第1のコイルが、前記真空チャンバー外の底部に第2のコイルがそれぞれ配置されており、かつ前記ハースの内部には磁石が設けられている成膜装置であって、
前記ハースおよび前記支持ロッドが共に導線を介して前記電源と接続されており、かつ前記ハースと前記支持ロッドとを前記導線とは異なる導線を介して接続することで前記ハースと前記支持ロッドとの間で前記プラズマによる電流が通電可能にされていることを特徴とする成膜装置。 - 請求項1に記載の成膜装置を用いる成膜方法であって、前記蒸着材料を前記ハース内に装填させた後、前記ハースおよび前記支持ロッドを前記蒸着材料に接触させた状態で前記ガンから発生するプラズマを前記蒸着材料に照射させて成膜することを特徴とする成膜方法。
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JP2013227596A JP2013227596A (ja) | 2013-11-07 |
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