JP2013225569A - プリント配線基板及び画像形成装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持すること。
【解決手段】前方半田付けランド群2の後方且つ後方半田付けランド群4の前方の角部に設けられ、前方半田付けランド群2の並び方向の後方に伸びた形状を有し、半田をためるための側方半田引きランド3と、2つの後方半田付けランド群4の後方の角部に設けられ、プリント配線基板の移動方向の後方に伸びた形状を有し、半田をためるための後方半田引きランド5と、を備え、側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5の少なくとも一つには、半田をはじく円形のレジスト6が設けられる。
【選択図】図1

Description

本発明は、フロー式半田付け法により4方向リードフラットパッケージICを実装するプリント配線基板とそのプリント配線基板を搭載した画像形成装置に関する。
従来から、4方向リードフラットパッケージICの半田付け方法として、フロー式半田付け法が広く採用されている。フロー式半田付け法とは、半田槽に溶かしておいた半田の表層にプリント基板の下面を浸すことによって、半田付けを行う方法である。しかしながら、4方向リードフラットパッケージICをフロー式で半田付けする方法において、プリント配線基板の半田付けランド及びICリードに対してランド間及びリード間に半田ブリッジが発生し、短絡を引き起こす場合がある。特に挟ピッチの4方向リードフラットパッケージにおいて、半田ブリッジが発生しやすい傾向がある。そこで、このような短絡を防止するために、4方向リードフラットパッケージICを半田フロー方向に対して斜めに実装する。またこのように実装すると共に、半田フローの進行方向に対して前方半田付けランド群の後部に各半田付けランドより大きな側方半田引きランドを形成する。更に、半田フローの進行方向に対して後方半田付けランド群の後部に各半田付けランドより大きな後方半田引きランドを形成したプリント配線基板が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
この方法によれば、まず側方半田引きランドによって前方半田付けランド群の半田を引き取ると共に、大きな形状の側方半田引きランドにより引き取った半田を後方半田付けランド群に流す。更に後方半田引きランドによって後方半田付けランド群の半田を引き取り、半田ショートを発生させずに半田付けできるとされている。
特許第2635323号公報
しかしながら、従来技術においては以下のような課題がある。図8は従来技術における半田引きランド上の半田挙動を表す図である。基板1601上にランド1602が銅箔で形成され、フロー槽での半田フローにより半田1603が載せられる。フロー式半田であるから、実際には図8の状態は上下が反転した状況で行われる。半田はレジスト1604にははじかれて付着せず、銅箔で形成されたランド1602に付着する。大きな面積を持つ単一平面の半田引きランドでは、半田の表面張力で引ききれず遊離した半田(図8の破線部A)が発生するため、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力が弱くなり、半田ブリッジが解消されないおそれがある。
本発明はこのような状況のもとでなされたもので、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することを目的とする。
上述のような課題を解決するために、本発明は以下の構成を備える。
(1)半田漕中でプリント配線基板を移動方向に移動させて半田付けする際の前記移動方向の前方に設けられた複数のランドからなる2つの第一ランド群と、前記移動方向の後方に設けられた複数のランドからなる2つの第二ランド群と、を備え、4方向リードフラットパッケージICの4方向の複数のリードを前記2つの第一ランド群及び前記2つの第二ランド群に半田付けすることにより前記4方向リードフラットパッケージICを前記移動方向に対して斜めに実装するプリント配線基板であって、前記第一ランド群の後方且つ前記第二ランド群の前方の角部に設けられ、前記第一ランド群の並び方向の後方に伸びた形状を有し、半田をためるための第一半田引きランドと、前記2つの第二ランド群の後方の角部に設けられ、前記移動方向の後方に伸びた形状を有し、半田をためるための第二半田引きランドと、を備え、前記第一半田引きランド及び前記第二半田引きランドの少なくとも一つには、半田をはじく領域部が設けられたことを特徴とするプリント配線基板。
(2)転写材に画像形成を行う画像形成装置であって、前記(1)に記載のプリント配線基板を搭載したことを特徴とする画像形成装置。
本発明によれば、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。
第1の実施の形態のプリント配線基板のランド形状を示す図 第1の実施の形態の側方半田引きランドの断面構成を示す図、ランド上の余剰半田の流れを示す図 第2の実施の形態のプリント配線基板のランド形状を示す図、側方半田引きランドの断面構成を示す図、ランド上の余剰半田の流れを示す図 第2の実施の形態の側方半田引きランドの他の形状を示す図 第3の実施の形態のプリント配線基板のランド形状を示す図、側方半田引きランドの断面構成を示す図 第4の実施の形態のプリント配線基板のランド形状を示す図、側方半田引きランドの断面構成を示す図 第5の実施の形態の画像形成装置の構成を示す図 従来例の半田引きランド上の半田挙動を示す図
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
〔第1の実施の形態〕
<プリント配線基板のランド形状>
図1は第1の実施の形態におけるプリント配線基板に4方向リードフラットパッケージICを半田付けにより実装するためのランド形状を示す構成図である。基板21(図2参照)上にランド(2〜5)が銅箔で形成され、フロー槽での半田フローにより半田22(図2参照)が載せられる。フロー式半田であるから、実際には図1の状態は上下が反転した状況で行われる。図中の矢印は半田フロー時の半田漕中のプリント配線基板の移動方向であり、プリント配線基板は半田槽を図の右から左に移動する。以降、プリント配線基板の移動方向をフロー方向といい、図1の右側がフロー方向の上流側、図1の左側がフロー方向の下流側となる。
四角形(正方形)の4方向リードフラットパッケージIC(以下、ICパッケージ)1はフロー方向に対してその一辺が45°傾くようにプリント基板に斜めに配置されている。尚、図1にはICパッケージ1本体は不図示であり、ICパッケージ1が実装される場所を破線で示している。ICパッケージ1のフロー方向下流側に相当するフロー方向前方には2つの前方半田付けランド群2(第一ランド群)、フロー方向上流側に相当するフロー方向後方には2つの後方半田付けランド群4(第二ランド群)がある。2つの前方半田付けランド群2及び2つの後方半田付けランド群4には、ICパッケージ1のリード(ピン)が半田付けされる。2つの前方半田付けランド群2の後方延長方向には、それぞれ側方半田引きランド3(第一半田引きランド)が設けられている。また、2つの後方半田付けランド群4の後方角部には後方半田引きランド5(第二半田引きランド)が設けられている。側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5には、それぞれほぼ中央部に円形のレジスト6(領域部)が設けられている。
<側方半田引きランド及び後方半田引きランド>
図2(a)は側方半田引きランド3の断面構成を示す図である。側方半田引きランド3は、前方半田付けランド群2の後方と後方半田付けランド群4の前方とで形成される角部に、前方半田付けランド群2上を流れる半田の流れ方向(図2(b)参照)の上流から下流に向かって延びる方向に形成されている。即ち、側方半田引きランド3は、前方半田付けランド群2の後方延長方向に伸びた形状をしている。側方半田引きランド3は、2つの前方半田付けランド群2及び2つの後方半田付けランド群4で形成されるひし形の領域からはみ出しており、従来例に比べて大きな面積を有している。側方半田引きランド3の半田の流れ方向上流側の形状は、前方半田付けランド群2の後方からの半田を引き取り易いような形状となっている。また、側方半田引きランド3の半田の流れ方向下流側の形状は、引き取った半田が後方半田付けランド群4に移動しないよう凸形状となっている。
銅箔で形成された側方半田引きランド3上のほぼ中央部には、レジスト6が形成されている。側方半田引きランド3の図2(a)の一点鎖線部における断面において、本実施の形態では、例えば、側方半田引きランド3の幅4mmに対してレジスト6の径は1mmである。フロー半田で付着した半田はレジスト6ではじかれるため、この断面部における半田の幅が規制され、断面が水滴状に中央部が盛り上がった形状になる。
後方半田引きランド5は、2つの後方半田付けランド群4の後方に形成される角部に、後方半田付けランド群4上を流れる半田の流れ方向の上流から下流に向かって延びる方向に形成されている。即ち、後方半田引きランド3は、フロー方向の後方延長方向に伸びた形状をしている。後方半田引きランド5は、2つの前方半田付けランド群2及び2つの後方半田付けランド群4で形成されるひし形の領域からはみ出しており、従来例に比べて大きな面積を有している。後方半田引きランド5の半田の流れ方向上流側の形状は、2つの後方半田付けランド群4からの半田を引き取り易いような形状となっている。また、後方半田引きランド5の半田の流れ方向下流側の形状は、引き取った半田が、プリント配線基板上に実装される他の素子のランドやリード等に移動しないよう凸形状となっている。更に後方半田引きランド5は、半田の流れ方向の上流側、下流側に、レジスト66による切れ込みがある。後方半田引きランド5のレジスト6については、側方半田引きランド3と同様の構成である。
尚、プリント配線基板の銅箔以外の領域には、図2(a)の断面図に示すようにレジストの領域があり、これを本実施の形態のレジスト6と区別するためにレジスト66とし、以下の実施の形態でも同様とする。
<半田の流れ>
図2(b)はランド上の余剰半田の流れを示す図である。ランド上の半田の流れは、図の左から右に向かう方向であり、フロー方向とは逆となっている。フロー半田時に、前方半田付けランド群2に生じた余剰半田は、図2(b)の破線矢印で示すように、フロー方向でいえば下流から上流に向かって移動し、側方半田引きランド3に引き取られる。言い換えれば、余剰半田は、前方半田付けランド群2上を、半田の流れ方向上流から下流に向かって移動する。側方半田引きランド3は、余剰半田を引き取るだけの十分な面積を持ちつつ、レジスト6の効果により表面張力が強くなっており、前方半田付けランド群2の後端部の余剰半田を引き取ることで、後端部での半田ブリッジを生じさせない。
同様に、後方半田付けランド群4に生じた余剰半田は、フロー方向でいえば下流から上流に向かって移動し、2つの後方半田付けランド群4の流れが合流して後方半田引きランド5に引き取られる。言い換えれば、余剰半田は、後方半田付けランド群4上を、半田の流れ方向上流から下流に向かって移動する。後方半田引きランド5は、余剰半田を引き取るだけの十分な面積を持ちつつ、レジスト6の効果により表面張力が強くなっており、後方半田付けランド群4の後端部の余剰半田を引き取ることで、後端部での半田ブリッジを生じさせない。
本実施の形態ではレジスト6の形状を円形としたが、半田22をはじくことが目的であるので、四角形やその他の形状でも同様の効果が得られる。また、本実施の形態では、レジスト6を側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5の中央部に設けている。しかし、レジスト6は、側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5の中に設けられていれば場所は限定されず、側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5内の領域が単連結領域となっていなければよい。また、レジスト6の面積は、側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てる面積で、且つ半田22をはじくことが可能な面積であればよい。更に、レジスト6は複数設けてもよく、レジスト6を複数設けたとしても、側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てるようになっていればよい。
以上、本実施の形態によれば、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。
〔第2の実施の形態〕
<プリント配線基板のランド形状>
図3(a)は第2の実施の形態におけるプリント配線基板に4方向リードフラットパッケージICを半田付けにより実装するためのランド形状を示す構成図である。尚、図1と同じ構成には同じ符号を付し、説明は省略する。また、フロー方向やICパッケージ1がフロー方向に対して45°傾けて斜めに配置されていることも第1の実施の形態と同様である。前方半田付けランド群2のフロー方向の後方延長方向に側方半田引きランド43が設けられている。2つの後方半田付けランド群4の後方角部には後方半田引きランド45が設けられている。側方半田引きランド43及び後方半田引きランド45は、それぞれ後方に向かって銅箔面が分岐するようにほぼ中央部に前方半田付けランド群2のフロー方向に沿ってレジスト36による帯(領域部)が形成されている。即ち、側方半田引きランド43は、銅箔部分にレジスト36による切れ込みがあるような形状となっている。
<側方半田引きランド及び後方半田引きランド>
図3(b)は側方半田引きランド43の断面構成を示す図である。第1の実施の形態と同様に、側方半田引きランド43は、前方半田付けランド群2からの余剰半田を引き取れるように十分大きな面積を有している。銅箔で形成された側方半田引きランド43上の中央部にレジスト36による帯が形成されている。側方半田引きランド43の図3(b)の一点鎖線部における断面において、本実施の形態では、例えば、側方半田引きランド43の幅5mmに対してレジスト36による帯の幅は1mmである。フロー半田で付着した半田22はレジスト36による帯ではじかれるため幅が規制され、断面が水滴状に中央部が盛り上がった形状になる。
後方半田引きランド45も、第1の実施の形態と同様に、2つの後方半田引きランド群4からの余剰半田を引き取れるように十分大きな面積を有している。後方半田引きランド45は、第1の実施の形態と同様にフロー方向の上流側と下流側にレジスト36による切れ込みがある。本実施の形態では、フロー方向の上流側のレジスト36による切れ込みの深さが、下流側のレジスト36による切れ込みの深さより深い形状となっている。
<半田の流れ>
図3(c)はランド上の余剰半田の流れを示す図である。フロー半田時に、前方半田付けランド群2に生じた余剰半田はフロー方向でいえば下流から上流に向かって移動し、側方半田引きランド43に引き取られる。言い換えれば、余剰半田は、前方半田付けランド群2上を、半田の流れ方向上流から下流に向かって移動する。側方半田引きランド43は、余剰半田を引き取るだけの十分な面積を持ちつつ、レジスト36による帯の効果により表面張力が強くなっており、前方半田付けランド群2の後端部の余剰半田を引き取ることで、後端部での半田ブリッジを生じさせない。
同様に、後方半田付けランド群4に生じた余剰半田はフロー方向でいえば下流から上流に向かって移動し、2つの後方半田付けランド群4の流れが合流して後方半田引きランド45に引き取られる。言い換えれば、余剰半田は、2つの後方半田付けランド群4上を、半田の流れ方向上流から下流に向かって移動する。後方半田引きランド45は、余剰半田を引き取るだけの十分な面積を持ちつつ、レジスト36による帯の効果により表面張力が強くなっており、後方半田付けランド群4の後端部の余剰半田を引き取ることで、後端部での半田ブリッジを生じさせない。
<側方半田引きランドの他の実施の形態>
図4(a)、図4(b)は側方半田引きランドの他の形状の例である。図4(a)では、側方半田引きランド143には、フロー方向に平行なレジスト46の帯が形成されている。また、図4(b)では、側方半田引きランド153には、半田の流れ方向に平行なレジスト56の帯が形成されており、レジスト56の切れ込みは半田の流れ方向の上流側に形成されている。このように、側方半田引きランドに形成されるレジスト46、56の帯の方向は、余剰半田の流れを妨げない方向に各種方向にすることが可能である。
また、レジスト36、46、56の帯の面積は、側方半田引きランド43、143及び後方半田引きランド45の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てる面積で、且つ半田22をはじくことが可能な面積であればよい。更に、レジスト36、46、56の帯は複数設けてもよく、レジスト36、46、56の帯を複数設けたとしても、側方半田引きランド43、143及び後方半田引きランド45の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てるようになっていればよい。
以上、本実施の形態によれば、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。
〔第3の実施の形態〕
<プリント配線基板のランド形状>
図5(a)は第3の実施の形態におけるプリント配線基板に4方向リードフラットパッケージICを半田付けにより実装するためのランド形状を示す構成図である。尚、図1と同じ構成には同じ符号を付し、説明は省略する。また、フロー方向やICパッケージ1がフロー方向に対して45°傾けて斜めに配置されていることも第1の実施の形態と同様である。前方半田付けランド群2の後方延長方向に側方半田引きランド73が設けられている。2つの後方半田付けランド群4の後方角部には後方半田引きランド75が設けられている。側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75のそれぞれの中央部には、円形の穴が形成されている。即ち、側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75である銅箔に円形の穴が形成されており、以下この穴を銅箔の穴76(領域部)(穴部)という。側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75の銅箔の穴76の部分では、基板21の面(以下、基板面)が露出している。
尚、図5(a)の後方半田引きランド75は、フロー方向の上流側及び下流側に、第1の実施の形態と同様、レジスト66による切れ込みを有している。
<側方半田引きランド及び後方半田引きランド>
図5(b)は側方半田引きランド73の断面構成を示す図である。側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75の形状は、第1の実施の形態の側方半田引きランド3及び後方半田引きランド5と同じ形状である。銅箔で形成された側方半田引きランド73には中央部に銅箔の穴76が形成され、基板面が露出している。側方半田引きランド73の図5(b)の一点鎖線部における断面において、本実施の形態では、例えば、側方半田引きランド73の幅4mmに対して銅箔の穴76の径は1mmである。フロー半田で付着した半田22は銅箔の穴76に露出した基板面ではじかれるため半田の幅が規制され、断面が水滴状に中央部が盛り上がった形状になる。後方半田引きランド75も同様の構成である。
本実施の形態では銅箔の穴76の形状を円形としたが、半田22をはじくことが目的であるので、四角形その他の形状でも同様の効果が得られる。また、本実施の形態では、銅箔の穴76を側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75の中央部に設けている。しかし、銅箔の穴76は、側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75の中に設けられていれば場所は限定されず、側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75内の領域が単連結領域となっていなければよい。また、銅箔の穴76の面積は、側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てる面積で、且つ半田22をはじくことが可能な面積であればよい。更に、銅箔の穴76は複数設けてもよく、銅箔の穴76を複数設けたとしても、側方半田引きランド73及び後方半田引きランド75の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てるようになっていればよい。
以上、本実施の形態によれば、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。
〔第4の実施の形態〕
<プリント配線基板のランド形状>
図6(a)は第4の実施例におけるプリント配線基板に4方向リードフラットパッケージICを半田付けにより実装するためのランド形状を示す構成図である。尚、図1と同じ構成には同じ符号を付し、説明は省略する。また、フロー方向やICパッケージ1がフロー方向に対して45°傾けて斜めに配置されていることも第1の実施の形態と同様である。前方半田付けランド群2の後方延長方向に側方半田引きランド93が設けられている。2つの後方半田付けランド群4の後方角部には後方半田引きランド95が設けられている。側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95のそれぞれの中央部には、帯状の切り欠きが形成されている。即ち、側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95である銅箔に帯状の切り欠きが形成されており、以下この帯状の切り欠きを銅箔の帯状の切り欠き96(領域部)という。尚、図6(a)、図6(b)において、側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95の切り欠き96の後端側が開放されていないのは、ここからの領域がレジスト66となっており、その境界を示すためである。側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95の銅箔の帯状の切り欠き96の部分では、基板面が露出している。
<側方半田引きランド及び後方半田引きランド>
図6(b)は側方半田引きランド93の断面構成を示す図である。側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95の形状は、第2の実施の形態の側方半田引きランド43及び後方半田引きランド45と同じ形状である。銅箔で形成された側方半田引きランド93には中央部に側方半田引きランド93のフロー方向に沿って銅箔の帯状の切り欠き96が形成され、基板面が露出している。側方半田引きランド93の図6(b)の一点鎖線部における断面において、本実施の形態では、例えば、側方半田引きランド93の幅5mmに対して銅箔の切り欠きの幅は1mmである。フロー半田で付着した半田22は銅箔の切り欠き96に露出した基板面ではじかれるため半田の幅が規制され、断面が水滴状に中央部が盛り上がった形状になる。後方半田引きランド95も同様の構成である。
<側方半田引きランドの他の実施の形態>
第2の実施の形態における図4(a)、図4(b)と同様、銅箔の帯状の切り欠きの方向は余剰半田の流れを妨げない方向に各種方向にすることが可能である。
また、銅箔の帯状の切り欠き96の面積は、側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てる面積で、且つ半田22をはじくことが可能な面積であればよい。更に、銅箔の帯状の切り欠き96は複数設けてもよく、銅箔の帯状の切り欠き96を複数設けたとしても、側方半田引きランド93及び後方半田引きランド95の面積が余剰半田を引き取るだけの十分な面積を保てるようになっていればよい。
以上、本実施の形態によれば、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。
〔第5の実施の形態〕
第5の実施の形態では、第1乃至第4の実施の形態で説明した側方半田引きランド及び後方半田引きランドを有するプリント配線基板を搭載した画像形成装置について説明する。
<画像形成装置の構成>
図7に示す画像形成装置(以下、本体と称す)は、本体に対して着脱自在なプロセスカートリッジ29Y,29M,29C,29Kを備えている。これら4個のプロセスカートリッジ29Y,29M,29C,29Kは、同一構造であるが、異なる色、すなわち、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)のトナーによる画像を形成する点で相違している。以下、特定の色について説明する場合を除き、Y,M,C,Kの符号は省略する。プロセスカートリッジ29は、トナー容器23、像担持体である感光ドラム25、帯電ローラ26、現像ローラ27、ドラムクリーニングブレード28、廃トナー容器24を有している。プロセスカートリッジ29の上方には、レーザユニット7YM,7CKが配置されている。レーザユニット7YMは、画像信号に基づく露光を感光ドラム25Y、25Mに対して行う。レーザユニット7CKは、画像信号に基づく露光を感光ドラム25C,25Kに対して行う。本実施の形態では、1つのレーザユニット7から2つの感光ドラム25にレーザ光を照射して静電潜像を形成する構成としたが、レーザユニット7は、少なくとも一以上の感光ドラム25にレーザ光を照射する構成であればよい。感光ドラム25は、帯電ローラ26によって所定の負極性の電位に帯電された後、レーザユニット7によってそれぞれ静電潜像が形成される。この静電潜像は現像ローラ27によって反転現像されて負極性のトナーが付着され、それぞれY、M、C、Kのトナー像が形成される。
中間転写ベルトユニットは、中間転写ベルト8、駆動ローラ9、二次転写対向ローラ10から構成されている。また、各感光ドラム25に対向して、中間転写ベルト8の内側に一次転写ローラ30が配設されており、不図示の電源等の電圧印加手段により転写電圧を印加する構成となっている。各感光ドラム25が矢印方向に回転し、中間転写ベルト8が矢印A方向に回転する。一次転写ローラ30に不図示の電源等の電圧印加手段により正極性の電圧を印加することにより、感光ドラム25Y上に形成されたトナー像から順次、中間転写ベルト8上に転写される。そして、中間転写ベルト8上にて4色のトナー像が重なった状態で、トナー像は二次転写ローラ11まで搬送される。
給搬送装置12は、転写材Pを収納する給紙カセット13内から転写材Pを給紙する給紙ローラ14と、給紙された転写材Pを搬送する搬送ローラ対15とを有している。そして、給搬送装置12から搬送された転写材Pは、レジストローラ対16によって二次転写ローラ11に搬送される。中間転写ベルト8から転写材Pへの転写においては、二次転写ローラ11に不図示の電源等の電圧印加手段により正極性の電圧を印加することにより、搬送された転写材Pに、中間転写ベルト8上の4色のトナー像を転写する。トナー像転写後の転写材Pは、定着装置17に搬送され、定着フィルム18と加圧ローラ19とによって加熱、加圧されて表面にトナー像が定着される。定着された転写材Pは排紙ローラ対20によって排出される。一方、トナー像転写後に、感光ドラム25表面に残ったトナーは、ドラムクリーニングブレード28によって除去され、除去されたトナーは、廃トナー容器24に回収される。また、転写材Pへの転写後に中間転写ベルト8上に残ったトナーは、転写ベルトクリーニングブレード31によって除去され、除去されたトナーは、廃トナー回収容器32へと回収される。
制御基板80は、本体の制御を行うための電気回路が搭載されている。また、制御基板80には、CPU40が搭載されている。CPU40は、転写材Pの搬送にかかる駆動源(不図示)やプロセスカートリッジ29の駆動源(不図示)の制御、画像形成に関する制御、更には故障検知に関する制御など、本体の動作を一括して制御している。電源90は画像形成装置の各部へ電力を供給しており、高圧電源や定着装置17のヒータ用の電源等が含まれる。第1乃至第4の実施の形態で説明したプリント配線基板は、例えば高圧電源や定着装置のヒータ用の電源等の、素子を片面実装するような電源基板に適用される。尚、第1乃至第4の実施の形態で説明したプリント配線基板を、例えば制御基板80に適用してもよい。
尚、本実施の形態で説明した画像形成装置は一例であり、プリント配線基板を搭載しているものであればどのような画像形成装置であってもよい。
以上、本実施の形態によれば、画像形成装置に搭載するプリント配線基板において、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。
〔他の実施の形態〕
・第1乃至第4の実施の形態では、各種の具体例を説明したが、そこで使用した数値や形状は例であって、それに限定されるものではない。例えば、4方向リードフラットパッケージの形状は正方形としたが、長方形の4方向リードフラットパッケージICであってもよい。また例えば、4方向リードフラットパッケージICを、プリント配線基板のフロー方向に対して45°傾けて斜めに実装するとしたが、4方向リードフラットパッケージICをプリント配線基板に実装する際の角度は、この数値に限定されるものではない。
・第1乃至第4の実施の形態では、側方半田引きランドと後方半田引きランドの両方に、レジストや銅箔の穴等を設ける構成を説明した。しかし、側方半田引きランド又は後方半田引きランドのいずれか一方のみにレジストや銅箔の穴等を設ける構成であってもよい。例えば、側方半田引きランドにのみレジストや銅箔の穴等を設けた場合は、前方半田付けランド群の後端部で発生する半田ブリッジを防止することができる。一方、後方半田引きランドにのみレジストや銅箔の穴等を設けた場合は、後方半田付けランド群の後端部で発生する半田ブリッジを防止することができる。
・第5の実施の形態では、第1乃至第4の実施の形態で説明したプリント配線基板を画像形成装置に適用した例を説明したが、第1乃至第4の実施の形態で説明したプリント配線基板は、その他の装置に搭載されるプリント配線基板にも適用可能である。
・第1乃至第4の実施の形態では、上述したように各種の具体例について説明したが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術思想の範囲内であらゆる変形が可能である。
以上、その他の実施の形態においても、半田引きランドとしての面積を確保しつつ表面張力を維持し、半田付けランド群から余分な半田を引き取る力を維持することができる。

Claims (6)

  1. 半田漕中でプリント配線基板を移動方向に移動させて半田付けする際の前記移動方向の前方に設けられた複数のランドからなる2つの第一ランド群と、
    前記移動方向の後方に設けられた複数のランドからなる2つの第二ランド群と、
    を備え、4方向リードフラットパッケージICの4方向の複数のリードを前記2つの第一ランド群及び前記2つの第二ランド群に半田付けすることにより前記4方向リードフラットパッケージICを前記移動方向に対して斜めに実装するプリント配線基板であって、
    前記第一ランド群の後方且つ前記第二ランド群の前方の角部に設けられ、前記第一ランド群の並び方向の後方に伸びた形状を有し、半田をためるための第一半田引きランドと、
    前記2つの第二ランド群の後方の角部に設けられ、前記移動方向の後方に伸びた形状を有し、半田をためるための第二半田引きランドと、
    を備え、
    前記第一半田引きランド及び前記第二半田引きランドの少なくとも一つには、半田をはじく領域部が設けられたことを特徴とするプリント配線基板。
  2. 前記領域部は、前記プリント配線基板のレジストであることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板。
  3. 前記領域部は、前記レジストによる帯状の切れ込みで形成されることを特徴とする請求項2に記載のプリント配線基板。
  4. 前記領域部は、前記プリント配線基板の銅箔に設けた穴部であることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板。
  5. 前記領域部は、前記プリント配線基板の銅箔に設けた帯状の切れ込みであることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線基板。
  6. 転写材に画像形成を行う画像形成装置であって、
    請求項1乃至5のいずれか1項に記載のプリント配線基板を搭載したことを特徴とする画像形成装置。
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