JP2013193394A - 液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アクチュエータ基板200が配置されている密閉空間内に注入されたエッチングガスによって、アクチュエータ基板200がドライエッチングされ液室の一部が形成される。このドライエッチングされることで形成されていく液室の内壁面には、エッチングガスの六フッ化硫黄とアクチュエータ基板200のシリコンとの化学反応によって副生成物のフッ化珪素酸化物の被膜401が生成される。この被膜401は、均一な膜厚で形成されることがわかっている。そして、保護膜成膜工程で、密閉空間内にフッ化炭素のデポジションガスが注入されると、ドライエッチングによって生成されている被膜401にデポジションガスのフッ化炭素が接触して被膜401と化学反応して保護膜の接液膜402が均一な膜厚で形成される。
【選択図】図6
Description
図3は本実施形態に係るインクジェットヘッドの構成を示す分解斜視図である。図4はインクジェットヘッドにおけるアクチュエータ部の構成を示す部分断面図である。図3に示すように、インクジェットヘッドは、主に、サブフレーム基板100、アクチュエータ基板200及びノズル基板300を接着接合して構成されている。サブフレーム基板100は、シリコン基板から形成され、外部からインクを供給するためのインク供給用開口101とアクチュエータ保護キャビティ102とが形成されている。これら以外にも外部への電気配線の取り回し用開口、あるいはアクチュエータ基板200とのアライメント用マーク等が形成されている。そして、アクチュエータ基板200はシリコン基板から形成され、一方の面には、上部電極膜201a、ピエゾ膜201b、下部電極膜201cのサンドイッチ構成で成膜されているアクチュエータ素子201が形成されている。アクチュエータ素子201上には、絶縁保護膜206及び外部駆動回路へ信号を伝達するメタル配線(不図示)、該メタル配線を保護するためのパッシベーション保護膜(不図示)が成膜される。このように構成されたアクチュエータ素子201の他方の面には、ダイヤフラム状の振動板204を介してインク液室202が形成されている。インク液室202には個々のビットに形成されたインク供給孔203を通じて、外部よりインクがインク液室202内に供給される。
従来ではインク液室202を加工形成した後に所望の接液膜を成膜するものであったが、インク液室202の深さがおよそ50[μm]から100[μm]の間で形成されるため、上述したようにインク液室202の内側壁に均一な膜厚の接液膜を成膜することが困難である課題を抱えていた。そこで、本実施形態では、誘導結合型のボッシュプロセスを用いて、アクチュエータ部における液室の形成とインク接液膜205(図4参照)の成膜とを繰り返しながら行っている。この誘導結合型のボッシュプロセスは、シリコンの深堀りエッチング技術であり、エッチング工程と保護膜成膜工程を繰り返すことで、内壁面に保護膜を成膜しながら行うエッチング手法である。
(態様1)
シリコン基板である液室形成基板に液室を形成するときに液室の内壁面に生成された副生成物のフッ化珪素酸化物に、フッ化炭素物を化学反応させて液室の内壁面に保護膜が成膜されている。これによれば、上記実施形態について説明したように、アクチュエータ基板200が配置されている密閉空間内に注入されたエッチングガスによって、アクチュエータ基板200がドライエッチングされ液室の一部が形成される。このドライエッチングされることで形成されていく液室の内壁面には、エッチングガスの六フッ化硫黄とアクチュエータ基板200のシリコンとの化学反応によって副生成物のフッ化珪素酸化物の被膜401が生成される。この被膜401は、均一な膜厚で生成されることがわかっている。そして、保護膜生成工程で、密閉空間内にフッ化炭素のデポジションガスが注入されると、ドライエッチングによって生成されている被膜401にデポジションガスのフッ化炭素が接触して被膜401と化学反応して保護膜の接液膜402が均一な膜厚で成膜される。内壁面に保護膜を成膜することで、内壁面方向へのエッチングを抑制して細く深くエッチングできるため微細構造の液室のエッチングを行うことができる。また、従来の熱酸化方法とは異なり、加熱していないので、液室形成基板が熱によって変形することもない。これにより、液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドを提供できる。
(態様2)
(態様1)において、保護膜上に遷移金属酸化膜を形成する。これによれば、上記実施形態の変形例について説明したように、接液膜402上に金属酸化膜501を成膜して二層化にすることで、耐接液性がより強固なものとなり優れた長期信頼性が得られる。
(態様3)
密閉空間内にシリコン基板の液室形成基板を配置し、該密閉空間内に六フッ化イオウのエッチングガスを注入してエッチングガスで所定の液室パターンに液室形成基板をエッチングして液室を形成し、エッチングガスと液室形成基板のシリコンとが化学反応することで液室の内壁面に副生成物のフッ化珪素酸化物を生成するエッチング工程と、密閉空間内にフッ化炭素の保護膜成膜ガスを注入し、エッチング工程で形成される液室の内壁面に生成されているフッ化珪素酸化物とフッ化炭素の保護膜成膜ガスとが化学反応して内壁面に保護膜を成膜する保護膜成膜工程とを有する。これによれば、上記実施形態について説明したように、深堀が可能となり液滴吐出ヘッドの液室を形成できることで、従来のスパッタ法や蒸着方法の高価な成膜整備を用いことなく、均一な膜厚の保護膜を液室の内壁面に形成できる。よって、液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドの製造方法を提供できる。
(態様4)
(態様3)において、エッチング工程と保護膜成膜工程とを交互に繰り返す。これによれば、上記実施形態について説明したように、所定の深さの深堀が可能となり、均一な膜厚の保護膜を液室の内壁面に形成できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドの製造方法を提供できる。
(態様5)
(態様3)又は(態様4)において、保護膜上に遷移金属酸化膜を成膜する金属膜成膜工程を有する。これによれば、上記実施形態の変形例について説明したように、接液膜402上に金属酸化膜501を成膜して二層化にすることで、耐接液性がより強固なものとなり優れた長期信頼性が得られる。
(態様6)
(態様1)又は(態様2)の液滴吐出ヘッド、あるいは(態様3)〜(態様5)のいずれかの液滴吐出ヘッドを搭載して該液滴吐出ヘッドで記録液剤を媒体に吐出して画像形成を行う。これによれば、上記実施形態について説明したように、記録液剤に対する耐接液性に優れ、安定した画像形成を行うことができる。
100 サブフレーム基板
101 インク供給用開口
102 アクチュエータ保護キャビティ
200 アクチュエータ基板
201 アクチュエータ素子
201a ピエゾ膜
201b 上部電極膜
201c 下部電極膜
202 インク液室
203 インク供給孔
204 振動板
205 インク接液膜
206 絶縁保護膜
300 ノズル基板
301 ノズル孔
401 被膜
402 保護膜
501 金属酸化膜
Claims (6)
- ノズル孔が設けられたノズル板と、前記ノズル孔に対応して設けられ前記ノズルに連通する液室を少なくとも構成する液室形成基板と、前記液室形成基板の他方の面に接合されて前記液室の一部を構成する振動板と、上位装置からの液滴吐出信号に基づいて前記振動板に圧力振動を付与し前記液室内に圧力を発生する圧力発生手段とを備える液滴吐出ヘッドにおいて、
シリコン基板である前記液室形成基板に前記液室を形成するときに前記液室の内壁面に生成された副生成物のフッ化珪素酸化物に、フッ化炭素物を化学反応させて前記液室の内壁面に保護膜が成膜されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - 請求項1記載の液滴吐出ヘッドにおいて、
前記保護膜上に遷移金属酸化膜を成膜することを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - ノズル孔が設けられたノズル板と、前記ノズル孔に対応して設けられ前記ノズルに連通する液室を少なくとも構成する液室形成基板と、前記液室形成基板の他方の面に接合されて前記液室の一部を構成する振動板と、上位装置からの液滴吐出信号に基づいて前記振動板に圧力振動を付与し前記液室内に圧力を発生する圧力発生手段とを備える液滴吐出ヘッドの製造方法において、
密閉空間内にシリコン基板の前記液室形成基板を配置し、該密閉空間内に六フッ化イオウのエッチングガスを注入して前記エッチングガスで所定の液室パターンに前記液室形成基板をエッチングして液室を形成し、前記エッチングガスと前記液室形成基板のシリコンとが化学反応することで前記液室の内壁面に副生成物の前記フッ化珪素酸化物を生成するエッチング工程と、
前記密閉空間内にフッ化炭素の保護膜成膜ガスを注入し、前記エッチング工程で形成される前記液室の内壁面に生成されている前記フッ化珪素酸化物とフッ化炭素の前記保護膜成膜ガスとが化学反応して内壁面に保護膜を成膜する保護膜成膜工程と
を有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。 - 請求項3記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、
前記エッチング工程と前記保護膜成膜工程とを交互に繰り返すことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。 - 請求項3又は4に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、
前記保護膜上に遷移金属酸化膜を成膜する金属膜成膜工程を有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。 - 請求項1又は2に記載の液滴吐出ヘッド、あるいは請求項3又は4に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法により製造された液滴吐出ヘッドを搭載して該液滴吐出ヘッドで記録液剤を媒体に吐出して画像形成を行うことを特徴とする画像形成装置。
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