JP2013193394A - 液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置 - Google Patents

液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置 Download PDF

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Abstract

【課題】液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜でき耐接液性に優れている。
【解決手段】アクチュエータ基板200が配置されている密閉空間内に注入されたエッチングガスによって、アクチュエータ基板200がドライエッチングされ液室の一部が形成される。このドライエッチングされることで形成されていく液室の内壁面には、エッチングガスの六フッ化硫黄とアクチュエータ基板200のシリコンとの化学反応によって副生成物のフッ化珪素酸化物の被膜401が生成される。この被膜401は、均一な膜厚で形成されることがわかっている。そして、保護膜成膜工程で、密閉空間内にフッ化炭素のデポジションガスが注入されると、ドライエッチングによって生成されている被膜401にデポジションガスのフッ化炭素が接触して被膜401と化学反応して保護膜の接液膜402が均一な膜厚で形成される。
【選択図】図6

Description

本発明は、ノズル孔から液体を吐出する液滴吐出ヘッド及びその製造方法、当該液滴吐出ヘッドを搭載して記録液剤を媒体上に吐出して画像を形成する画像形成装置に関するものである。
この種の液滴吐出ヘッドは、例えば、複写機、プリンタ、ファクシミリ、プロッタ等の画像形成装置の記録ヘッドとして用いられる。ここでいう画像形成装置は、記録材上に画像を形成するものであるが、その記録材の材質は紙に限定されるものではなく、糸、繊維、布帛、皮革、金属、プラスチック、ガラス、木材、セラミックス等のあらゆる記録材に液体を吐出して画像形成を行う装置を意味する。そして、画像形成とは、文字や図形等の意味を持つ画像を記録材に対して付与することだけでなく、パターン等の意味を持たない画像を記録材に付与する(単に液滴を吐出する)ことをも意味する。また、液滴として吐出される液体は、所謂インクに限るものではなく、吐出されるときに液体となるものであれば特に限定されるものではなく、例えばDNA試料、レジスト、パターン材料なども含まれる。
このような画像形成装置における液滴吐出ヘッドは、主に、ノズル板、流路板、振動板及び圧力発生手段を含んで構成されている。ノズル板には少なくとも1つのノズルが設けられている。流路板はノズルに対応して設けられノズルに連通する個別液室及び該個別液室に連通して液体を個別液室に供給する共通液室を構成する板状の部材である。振動板は後述する圧力発生手段による形状変位に伴う振動を個別液室内に伝達する部材であって個別液室の一部を構成している。圧力発生手段は上位装置からの液滴吐出信号に基づいて形状が変化することで振動板を介して個別液室内の液体に圧力振動を付与するものであり、例えば圧電アクチュエータが用いられる。そして、この液滴吐出ヘッドでは、上位装置からの液滴吐出信号に基づき圧力発生手段による圧力振動が振動板に付与され、付与された振動板の形状が変化し個別液室内の液体に圧力が加わる。加えられた圧力に伴い個別液室内の液体がノズル板のノズルから吐出され媒体上に着弾する。
近年、液滴吐出ヘッドの一例であるインクジェット記録ヘッドにおいては、多種多様なインクが用いられている。中でも、高アルカリ性のインクを用いた場合、インクジェット記録ヘッドを構成する液室形成基板がシリコン系材料であるため、その液室形成基板に形成された液室の内壁面がアルカリ性のインク液材料によって侵食され易いという問題がある。アルカリ性のインク液材料による浸食を防ぐために液室の内壁面に保護膜を成膜した液滴吐出ヘッドが特許文献1に記載のものが知られている。この特許文献1の液滴吐出ヘッドでは、液室形成基板をエッチングして液室を形成した後に、アルカリ性の液状材料が接触する液室の内壁面に、保護膜としての二酸化珪素の酸化物をプラズマ重合法を用いて成膜している。これにより、プラズマ重合膜によってアルカリ性の液状材料に対する耐接液性を得ている。以降、プラズマ重合法を用いて成膜した膜をプラズマ重合膜という。
しかしながら、上記特許文献1の液滴吐出ヘッドでは、液室形成基板をエッチングして液室を形成した後に、形成された液室の側壁面にプラズマ重合法を用いてプラズマ重合膜を成膜しており、液室の側壁面に対してプラズマ重合膜を均一な所定の膜厚に成膜することが難しかった。具体的には、プラズマ重合法は、互いに対向する電極間でイオン化したプラズマ重合膜の成分が電極間に設置された成膜対象物に付着することでプラズマ重合膜が成膜され成膜法である。このため、液室形成基板をエッチングして形成された液室において、電極に対向する面では、プラズマ重合膜が均一に成膜される。しかし、電極に向かう方向に平行な面には、イオン化したプラズマ重合膜の成分が易く付着しにくい。この結果、プラズマ重合膜の膜厚が均一にならず膜厚分布が形成されてしまい、その膜厚分布の中で所定の膜厚に達していない薄い箇所は浸食しやすくなり、耐接液性が劣ってしまう。また、上記プラズマ重合法以外に二酸化珪素の酸化膜を成膜する成膜法として熱酸化法がある。この熱酸化法では、酸化膜を成膜する高温度で成膜するために、液室を形成している液室形成基板が熱によって変形してしまうという問題があった。
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜でき耐接液性に優れた液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置を提供することである。
上記目的を達成するために、請求項1の発明は、ノズル孔が設けられたノズル板と、前記ノズル孔に対応して設けられ前記ノズルに連通する液室を少なくとも構成する液室形成基板と、前記液室形成基板の他方の面に接合されて前記液室の一部を構成する振動板と、上位装置からの液滴吐出信号に基づいて前記振動板に圧力振動を付与し前記液室内に圧力を発生する圧力発生手段とを備える液滴吐出ヘッドにおいて、シリコン基板である前記液室形成基板に前記液室を形成するときに前記液室の内壁面に生成された副生成物のフッ化珪素酸化物に、フッ化炭素物を化学反応させて前記液室の内壁面に保護膜が成膜されていることを特徴とするものである。
本発明によれば、シリコン基板である液室形成基板に液室を形成される内壁面には副生成物としてのフッ化珪素酸化物が生成される。このフッ化珪素酸化物は、内壁面において均一な膜厚で生成されていることがわかっている。そして、フッ化珪素酸化物にフッ化炭素物を化学反応させただけであるので成膜された保護膜も均一な膜厚である。また、従来の熱酸化方法とは異なり、加熱していないので、液室形成基板が熱によって変形することもない。これにより、液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドを提供できるという特有な効果が得られる。
インクジェット記録装置の機構部の概要を示す側面図である。 インクジェット記録装置の機構部の概要を示す要部平面図である。 本実施形態に係るインクジェットヘッドの構成を示す分解斜視図である。 インクジェットヘッドにおけるアクチュエータ部の構成を示す部分断面図である。 実施形態の液滴吐出ヘッドの液室側壁に接液膜の成膜を行う工程を示す工程断面図である。 実施形態の液滴吐出ヘッドの液室側壁に接液膜の成膜を行う工程を示す工程断面図である。 実施形態の変形例の液滴吐出ヘッドの液室側壁に接液膜及び金属酸化膜の成膜を行う工程を示す工程断面図である。
以下、本実施形態のインクジェット記録装置の機構部について図1及び図2を参照して説明する。なお、図1はインクジェット記録装置の機構部の概要を示す側面図、図2は同じく要部平面図である。
インクジェット記録装置1の機構部において、フレーム121を構成する左右の側板121A、121Bに横架したガイド部材であるガイドロッド131とステー132とでキャリッジ133を主走査方向に摺動自在に保持し、図示しない主走査モータによってタイミングベルトを介して図2で矢示方向である双方向のキャリッジ主走査方向に移動走査する。
キャリッジ133には、前述したように、イエロー(Y)、シアン(C)、マゼンタ(M)、ブラック(K)の各色のインク滴を吐出する4個の液滴吐出ヘッド134a〜134dとからなる液滴吐出ヘッド134が、主走査方向と交叉する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着されている。なお、各色のインク液滴を吐出するノズル列を有する1又は複数のヘッド構成などを採用することもできる。
ここで、液滴吐出ヘッド134を構成するインクジェットヘッドとしては、圧電素子などの圧電アクチュエータ、発熱抵抗体などの電気熱変換素子を用いて液体の膜沸騰による相変化を利用するサーマルアクチュエータ、温度変化による金属相変化を用いる形状記憶合金アクチュエータ、静電力を用いる静電アクチュエータなどを、液滴を吐出するための圧力を発生する圧力発生手段として備えたものなどを使用できる。
また、キャリッジ133には、各液滴吐出ヘッド134a〜134dに各色のインクを供給するためのヘッドタンク135a〜135dを搭載している。各ヘッドタンク135a〜135dには各色のインクを送液する可撓性のインク供給チューブ136を介してカートリッジ装填部104に装着された各色のインクカートリッジ110y,110m,110c,110kから各色のインクが充填供給される。なお、このカートリッジ装填104にはインクカートリッジ110内のインクを送液するための供給ポンプユニット124が設けられ、またインク供給チューブ136は這い回しの途中でフレーム121を構成する後板121Cに係止部材125にて保持されている。供給ポンプユニット124は逆方向に送液(逆転送液)することもできる。
一方、図1の給紙トレイ102の用紙積載部(圧板)141上に積載した用紙142を給紙するための給紙部として、用紙積載部141から用紙142を1枚ずつ分離給送する半月コロ(給紙コロ)143及び給紙コロ143に対向し、摩擦係数の大きな材質からなる分離パッド144を備え、この分離パッド144は給紙コロ143側に付勢されている。
そして、この給紙部から給紙された用紙142を液滴吐出ヘッド134の下方側に送り込むために、用紙142を案内するガイド部材145と、カウンタローラ146と、搬送ガイド部材147と、先端加圧コロ149を有する押さえ部材148とを備えるとともに、給送された用紙142を静電吸着して液滴吐出ヘッド134に対向する位置で搬送するための搬送手段である搬送ベルト151を備えている。
この搬送ベルト151は、無端状ベルトであり、搬送ローラ152とテンションローラ153との間に掛け渡されて、ベルト搬送方向(副走査方向)に周回するように構成している。また、この搬送ベルト151の表面を帯電させるための帯電手段である帯電ローラ156を備えている。この帯電ローラ156は、搬送ベルト151の表層に接触し、搬送ベルト151の回動に従動して回転するように配置されている。更に、搬送ベルト151の裏側には、液滴吐出ヘッド134による印写領域に対応してガイド部材157が配置されている。
この搬送ベルト151は、図示しない副走査モータによってタイミングを介して搬送ローラ152が回転駆動されることによって図2のベルト搬送方向に周回移動する。
更に、液滴吐出ヘッド134で記録された用紙142を排紙するための排紙部として、搬送ベルト151から用紙142を分離するための分離爪161と、排紙ローラ162及び排紙コロ163とを備え、排紙ローラ162の下方に排紙トレイ103を備えている。
また、装置本体101の背面部には両面ユニット171が着脱自在に装着されている。この両面ユニット171は搬送ベルト151の逆方向回転で戻される用紙142を取り込んで反転させて再度カウンタローラ146と搬送ベルト151との間に給紙する。また、この両面ユニット171の上面は手差しトレイ172としている。
更に、図2に示すように、キャリッジ133の走査方向一方側の非印字領域には、液滴吐出ヘッド134のノズルの状態を維持し、回復するための回復手段を含む維持回復機構181を配置している。
この維持回復機構181には、液滴吐出ヘッド134の各ノズル面をキャピングするための各キャップ部材(以下「キャップ」という。)182a〜182d(区別しないときは「キャップ182」という。)と、ノズル面をワイピングするためのブレード部材であるワイパーブレード183と、増粘した記録液を排出するために記録に寄与しない液滴を吐出させる空吐出を行うときの液滴を受ける空吐出受け184などを備えている。ここでは、キャップ182aを吸引及び保湿用キャップとし、他のキャップ182b〜182dは保湿用キャップとしている。
そして、この維持回復機構181による維持回復動作で生じる記録液の廃液、キャップ182に排出されたインク、あるいはワイパーブレード183に付着してワイパークリーナ185で除去されたインク、空吐出受け184に空吐出されたインクは図示しない廃液タンクに排出されて収容される。
また、図2に示すように、キャリッジ133の走査方向他方側の非印字領域には、記録中などに増粘した記録液を排出するために記録に寄与しない液滴を吐出させる空吐出を行うときの液滴を受ける空吐出受け188を配置し、この空吐出受け188には液滴吐出ヘッド134のノズル列方向に沿った開口189などを備えている。
このように構成した本実施形態のインクジェット記録装置においては、給紙トレイ102から用紙142が1枚ずつ分離給紙され、略鉛直上方に給紙された用紙142はガイド145で案内され、搬送ベルト151とカウンタローラ146との間に挟まれて搬送され、更に先端を搬送ガイド137で案内されて先端加圧コロ149で搬送ベルト151に押し付けられ、略90°搬送方向を転換される。
このとき、後述する制御部のACバイアス供給部から帯電ローラ156に対してプラス出力とマイナス出力とが交互に繰り返すように、つまり交番する電圧が印加され、搬送ベルト151が交番する帯電電圧パターン、すなわち周回方向である副走査方向に、プラスとマイナスが所定の幅で帯状に交互に帯電されたものとなる。このプラス、マイナス交互に帯電した搬送ベルト151上に用紙142が給送されると、用紙142が搬送ベルト151に吸着され、搬送ベルト151の周回移動によって用紙142が副走査方向に搬送される。
そこで、リニアエンコーダ137による主走査位置情報に基づいてキャリッジ133を主走査方向に移動させながら画像信号に応じて液滴吐出ヘッド134を駆動することにより、停止している用紙142にインク滴を吐出して1行分を記録し、用紙142を所定量搬送後、次の行の記録を行う。記録終了信号又は用紙142の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了して、用紙142を排紙トレイ103に排紙する。
また、印字(記録)待機中にはキャリッジ133は維持回復機構181側に移動されて、キャップ182で液滴吐出ヘッド134がキャッピングされて、ノズルを湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。また、キャップ182で液滴吐出ヘッド134をキャッピングした状態で図示しない吸引ポンプによってノズルから記録液を吸引(「ノズル吸引」又は「ヘッド吸引」という。)し、増粘した記録液や気泡を排出する回復動作を行う。また、記録開始前、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出する空吐出動作を行う。これによって、液滴吐出ヘッド134の安定した吐出性能を維持する。
次に、本発明の液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドに適用した実施形態について説明する。
図3は本実施形態に係るインクジェットヘッドの構成を示す分解斜視図である。図4はインクジェットヘッドにおけるアクチュエータ部の構成を示す部分断面図である。図3に示すように、インクジェットヘッドは、主に、サブフレーム基板100、アクチュエータ基板200及びノズル基板300を接着接合して構成されている。サブフレーム基板100は、シリコン基板から形成され、外部からインクを供給するためのインク供給用開口101とアクチュエータ保護キャビティ102とが形成されている。これら以外にも外部への電気配線の取り回し用開口、あるいはアクチュエータ基板200とのアライメント用マーク等が形成されている。そして、アクチュエータ基板200はシリコン基板から形成され、一方の面には、上部電極膜201a、ピエゾ膜201b、下部電極膜201cのサンドイッチ構成で成膜されているアクチュエータ素子201が形成されている。アクチュエータ素子201上には、絶縁保護膜206及び外部駆動回路へ信号を伝達するメタル配線(不図示)、該メタル配線を保護するためのパッシベーション保護膜(不図示)が成膜される。このように構成されたアクチュエータ素子201の他方の面には、ダイヤフラム状の振動板204を介してインク液室202が形成されている。インク液室202には個々のビットに形成されたインク供給孔203を通じて、外部よりインクがインク液室202内に供給される。
このように構成されたアクチュエータ基板200上に、ノズル基板300が接合され、個々のビットに応じたノズル孔301が形成されている。ノズル基板300はSUS材にプレス加工でノズル孔301を形成したもの、あるいはNi電鋳工法によって、Ni基板上にノズル孔301を形成したものなどを用いている。
アクチュエータ部分の動作であるが、外部の駆動回路より入力された電気信号(不図示)が個々のビットに伝達され、対応するアクチュエータ素子201が変形変位することによって、振動板204が変形し、インク液室202内のインクに圧力を作用することで、ノズル孔301より所望のインク滴を吐出するものである。
次に、インク液室202の内側壁に成膜する保護膜である接液膜について説明する。
従来ではインク液室202を加工形成した後に所望の接液膜を成膜するものであったが、インク液室202の深さがおよそ50[μm]から100[μm]の間で形成されるため、上述したようにインク液室202の内側壁に均一な膜厚の接液膜を成膜することが困難である課題を抱えていた。そこで、本実施形態では、誘導結合型のボッシュプロセスを用いて、アクチュエータ部における液室の形成とインク接液膜205(図4参照)の成膜とを繰り返しながら行っている。この誘導結合型のボッシュプロセスは、シリコンの深堀りエッチング技術であり、エッチング工程と保護膜成膜工程を繰り返すことで、内壁面に保護膜を成膜しながら行うエッチング手法である。
次に、実施形態として、アクチュエータ部における液室の形成と接液膜の成膜を行う工程について製造工程を示す工程断面図である図5及び図6に従って説明する。
図5(a)に示すように、アクチュエータ基板200上に振動板204を形成する。アクチュエータ基板200では結晶の面方位<100>のシリコン結晶ウェハを用いている。振動板204は、熱酸化膜、およびCVD工法によるシリコン窒化膜、ポリシリコン膜、酸化膜によって、所望の変位特性、強度、剛性が得られる構成に形成されたものである。図5(b)に示すように、振動板204上にアクチュエータ素子201を形成する。アクチュエータ素子201は、上部電極膜201b、ピエゾ膜201a、下部電極膜201cを有し、下部電極膜201cはTi層、Pt層、SRO層によって形成されている。そして、圧電素子となるピエゾ膜201aをゾルゲル法によって所望の厚みに形成する。更に、ピエゾ膜201a上に上部電極膜201bを構成するSRO層、Pt層を形成する。次に,図5(c)に示すように、積層されたアクチュエータ素子201を、リソグラフィおよびエッチングによって所望のパターンサイズに、加工形成する。図5(d)に示すように、パターン形成されたアクチュエータ素子201上に絶縁保護膜206を成膜する。絶縁保護膜206は、ALD法によって成膜されるAl膜とCVD法によって成膜される酸化膜との二層構造としている。その後、外部回路へ電気信号を伝達するためのメタル配線工程、およびメタル配線を保護するためのパッシベーション工程を施し、アクチュエータ部分が形成される。そして、図5(e)に示すように、アクチュエータ面と反対側の面にインク液室202を形成するためのレジスト207を塗布する。
次に、図6(a)に示すような、アクチュエータ基板200にインク液室202の形成用のレジスト207が形成されたチップ(不図示)を配列したウェハを、チェンバーと呼ばれる、略真空状態の密閉空間内に設置する。そして、エッチングステップとして、図6(b)に示すように、密閉空間内に、六フッ化硫黄(SF)と酸素(O)とを含むエッチングガスを注入する。このエッチングガスによってエッチングを進行させるとともに、エッチングガスの成分とシリコン基板の成分とが化学反応することによってエッチングされた側壁面に副生成物としてのフッ化珪素酸化物のSiF膜(x,yは不特定)401が生成される。そして、ある程度エッチングが進行した時点で、接液膜成膜ステップとして、図6(c)に示すように、Cなどのデポジションガス(保護膜生成ガス)を密閉空間内に注入する。このとき、先に生成されたSiF膜に、Cなどのデポジションガス(保護膜生成ガス)が接触することで2つの成分が化学反応して、フッ化炭素のCFx膜(xは不特定)の接液膜402が成膜される。図6(b)のエッチングステップと、図6(c)の接液膜成膜ステップを交互に繰り返すことによって、つまりエッチングを行いながら接液膜402を成膜していくため内壁面方向へのエッチングを抑制して深堀エッチングを進行することができる。これにより、微細構造のインク液室202の形成を行うことができる。そして、図6(d)に示すように所定のエッチング量を行われ形成された内壁面の全面に保護膜の接液膜402が成膜される。ここで、エッチングステップで注入するエッチングガスと接液膜成膜ステップで注入するデポジションガスとの各注入量は、各ステップを交互に繰り返す中での各量を考慮して規定することで接液膜の所望の膜厚を均一にすることができる。
次に、実施形態の変形例として、保護膜として従来まで使われてきた金属酸化物層を接液膜上に成膜した例について図7を用いて説明する。図7に示すように、接液膜402上に更に金属酸化膜501としてタンタル酸化物(Ta)あるいはジルコニウム酸化物(ZrO)を用いて成膜している。これらの金属酸化膜501は、スパッタ法などの蒸着法によって成膜される。この構成においては、金属酸化膜501の側壁面の膜厚は薄い傾向にはあるが、接液膜402上に成膜して二層化にすることで耐接液性がより強固なものとなり、優れた長期信頼性が得られる。
以上に説明したものは一例であり、本発明は、次の態様毎に特有の効果を奏する。
(態様1)
シリコン基板である液室形成基板に液室を形成するときに液室の内壁面に生成された副生成物のフッ化珪素酸化物に、フッ化炭素物を化学反応させて液室の内壁面に保護膜が成膜されている。これによれば、上記実施形態について説明したように、アクチュエータ基板200が配置されている密閉空間内に注入されたエッチングガスによって、アクチュエータ基板200がドライエッチングされ液室の一部が形成される。このドライエッチングされることで形成されていく液室の内壁面には、エッチングガスの六フッ化硫黄とアクチュエータ基板200のシリコンとの化学反応によって副生成物のフッ化珪素酸化物の被膜401が生成される。この被膜401は、均一な膜厚で生成されることがわかっている。そして、保護膜生成工程で、密閉空間内にフッ化炭素のデポジションガスが注入されると、ドライエッチングによって生成されている被膜401にデポジションガスのフッ化炭素が接触して被膜401と化学反応して保護膜の接液膜402が均一な膜厚で成膜される。内壁面に保護膜を成膜することで、内壁面方向へのエッチングを抑制して細く深くエッチングできるため微細構造の液室のエッチングを行うことができる。また、従来の熱酸化方法とは異なり、加熱していないので、液室形成基板が熱によって変形することもない。これにより、液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドを提供できる。
(態様2)
(態様1)において、保護膜上に遷移金属酸化膜を形成する。これによれば、上記実施形態の変形例について説明したように、接液膜402上に金属酸化膜501を成膜して二層化にすることで、耐接液性がより強固なものとなり優れた長期信頼性が得られる。
(態様3)
密閉空間内にシリコン基板の液室形成基板を配置し、該密閉空間内に六フッ化イオウのエッチングガスを注入してエッチングガスで所定の液室パターンに液室形成基板をエッチングして液室を形成し、エッチングガスと液室形成基板のシリコンとが化学反応することで液室の内壁面に副生成物のフッ化珪素酸化物を生成するエッチング工程と、密閉空間内にフッ化炭素の保護膜成膜ガスを注入し、エッチング工程で形成される液室の内壁面に生成されているフッ化珪素酸化物とフッ化炭素の保護膜成膜ガスとが化学反応して内壁面に保護膜を成膜する保護膜成膜工程とを有する。これによれば、上記実施形態について説明したように、深堀が可能となり液滴吐出ヘッドの液室を形成できることで、従来のスパッタ法や蒸着方法の高価な成膜整備を用いことなく、均一な膜厚の保護膜を液室の内壁面に形成できる。よって、液室形成基板に影響を与えることなく液室の内壁面に均一な膜厚の保護膜が成膜できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドの製造方法を提供できる。
(態様4)
(態様3)において、エッチング工程と保護膜成膜工程とを交互に繰り返す。これによれば、上記実施形態について説明したように、所定の深さの深堀が可能となり、均一な膜厚の保護膜を液室の内壁面に形成できる。よって、耐接液性に優れた液滴吐出ヘッドの製造方法を提供できる。
(態様5)
(態様3)又は(態様4)において、保護膜上に遷移金属酸化膜を成膜する金属膜成膜工程を有する。これによれば、上記実施形態の変形例について説明したように、接液膜402上に金属酸化膜501を成膜して二層化にすることで、耐接液性がより強固なものとなり優れた長期信頼性が得られる。
(態様6)
(態様1)又は(態様2)の液滴吐出ヘッド、あるいは(態様3)〜(態様5)のいずれかの液滴吐出ヘッドを搭載して該液滴吐出ヘッドで記録液剤を媒体に吐出して画像形成を行う。これによれば、上記実施形態について説明したように、記録液剤に対する耐接液性に優れ、安定した画像形成を行うことができる。
1 インクジェット記録装置
100 サブフレーム基板
101 インク供給用開口
102 アクチュエータ保護キャビティ
200 アクチュエータ基板
201 アクチュエータ素子
201a ピエゾ膜
201b 上部電極膜
201c 下部電極膜
202 インク液室
203 インク供給孔
204 振動板
205 インク接液膜
206 絶縁保護膜
300 ノズル基板
301 ノズル孔
401 被膜
402 保護膜
501 金属酸化膜
特開2008−105334号公報

Claims (6)

  1. ノズル孔が設けられたノズル板と、前記ノズル孔に対応して設けられ前記ノズルに連通する液室を少なくとも構成する液室形成基板と、前記液室形成基板の他方の面に接合されて前記液室の一部を構成する振動板と、上位装置からの液滴吐出信号に基づいて前記振動板に圧力振動を付与し前記液室内に圧力を発生する圧力発生手段とを備える液滴吐出ヘッドにおいて、
    シリコン基板である前記液室形成基板に前記液室を形成するときに前記液室の内壁面に生成された副生成物のフッ化珪素酸化物に、フッ化炭素物を化学反応させて前記液室の内壁面に保護膜が成膜されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
  2. 請求項1記載の液滴吐出ヘッドにおいて、
    前記保護膜上に遷移金属酸化膜を成膜することを特徴とする液滴吐出ヘッド。
  3. ノズル孔が設けられたノズル板と、前記ノズル孔に対応して設けられ前記ノズルに連通する液室を少なくとも構成する液室形成基板と、前記液室形成基板の他方の面に接合されて前記液室の一部を構成する振動板と、上位装置からの液滴吐出信号に基づいて前記振動板に圧力振動を付与し前記液室内に圧力を発生する圧力発生手段とを備える液滴吐出ヘッドの製造方法において、
    密閉空間内にシリコン基板の前記液室形成基板を配置し、該密閉空間内に六フッ化イオウのエッチングガスを注入して前記エッチングガスで所定の液室パターンに前記液室形成基板をエッチングして液室を形成し、前記エッチングガスと前記液室形成基板のシリコンとが化学反応することで前記液室の内壁面に副生成物の前記フッ化珪素酸化物を生成するエッチング工程と、
    前記密閉空間内にフッ化炭素の保護膜成膜ガスを注入し、前記エッチング工程で形成される前記液室の内壁面に生成されている前記フッ化珪素酸化物とフッ化炭素の前記保護膜成膜ガスとが化学反応して内壁面に保護膜を成膜する保護膜成膜工程と
    を有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
  4. 請求項3記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、
    前記エッチング工程と前記保護膜成膜工程とを交互に繰り返すことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
  5. 請求項3又は4に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法において、
    前記保護膜上に遷移金属酸化膜を成膜する金属膜成膜工程を有することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
  6. 請求項1又は2に記載の液滴吐出ヘッド、あるいは請求項3又は4に記載の液滴吐出ヘッドの製造方法により製造された液滴吐出ヘッドを搭載して該液滴吐出ヘッドで記録液剤を媒体に吐出して画像形成を行うことを特徴とする画像形成装置。
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