JP2013191628A5 - - Google Patents

Description

上記課題を解決するために、本発明は、基板上のインプリント材と型とを接触させた状態で光を照射することで、基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、光を照射するための光照射部と、型を保持し、型を介して基板に向けて光照射部から照射された光が通過するように開口が形成された型保持部と、を備え、基板と型の少なくともいずれかを反射した反射光が入射し得る型保持部の表面の少なくとも一部は、光照射部から照射された光に対する型の表面の反射率よりも低い反射率であることを特徴とする。

光照射部２は、モールド７とウエハ８上の樹脂（インプリント材）９とを接触させた状態で紫外線１０を照射し硬化させる。本実施形態では照射する光を紫外線とし、樹脂９は、紫外線硬化樹脂とする。光照射部２は、光源と、光学系とを含む。光源は、不図示であるが、紫外線（例えば、ｉ線、ｇ線）を発生する高圧水銀ランプと、発生した光を集光する楕円鏡とを含んでいてもよい。なお、光源としては、高圧水銀ランプに限らず、例えば、各種エキシマランプ、エキシマレーザーまたは発光ダイオードなどが採用可能である。光学系は、紫外線１０をショット上の樹脂９に照射するためのレンズやアパーチャ、およびハーフミラーを含む。アパーチャは、画角制御や、外周遮光制御のために使用される。画角制御によれば、目標とするショットのみを照明することができ、外周遮光制御によれば、紫外線１０がウエハ８の外形を超えて照射しないように紫外線１０を制限することができる。なお、光学系は、モールド７を均一に照明するためにオプティカルインテグレータを含む構成としてもよい。アパーチャによって、照明する範囲が規定された紫外線１０は、モールド７を介してウエハ８上の樹脂９に入射する。なお、光照射部２による紫外線１０の照射領域（照射範囲）は、モールド７に形成されている後述のパターン部７ａの表面積（領域）と同程度、またはその表面積（パターン部７ａの領域）よりもわずかに大きいことが望ましい。これは、照射領域を必要最小限とすることで、照射に伴う熱に起因してモールド７またはウエハ８が膨張し、樹脂９に形成されるパターンに位置ズレや歪みが発生することを抑えるためである。また、樹脂９は、紫外線硬化樹脂であるため、樹脂９に照射する光の波長は、紫外線領域の波長であることが望ましいが、例えば、紫外線１０の波長帯域である４００ｎｍ以下であれば、他の検出系などとの波長干渉の影響から考えて好適である。また、樹脂を硬化させるために照射する光は、使用する光硬化樹脂の特性に応じて決めることができる。

本実施形態では、光照射部２から紫外線１０が照射された際に、インプリントヘッド１１および開口領域１３において、モールド７自体、またはウエハ８側からの反射光（散乱光）が照射され得る領域に、反射防止部（光学部材）１４が形成されている。この反射防止部１４は、図１では、モールド７を囲うように太い実線で示されている。反射防止部１４は、具体的には、インプリントヘッド１１のウエハ８に対して空間的に連通する面（インプリントヘッド１１がウエハ８に対向する面）に形成されている。また、インプリントヘッド１１とモールド７との対向面（モールド保持面近傍）と、開口領域１３内のモールド７を透過した反射光によって照射される可能性のある面との少なくとも一部または表面全域に形成されている。また、反射防止部１４は、反射防止性能を有する部材、例えば反射防止膜とし得る。または、反射防止部１４の表面は反射防止性能を有するような膜で表面処理し得る。反射防止部１４は、インプリント装置を構成する部材と異なる部材を新たに設けてもよいし、インプリント装置を構成する部材の表面に膜を形成してもよい。モールド７の材質が石英の場合、紫外線１０の波長を２００〜４００ｎｍとすると、垂直入射でのモールド７の表面の反射率は３．６〜４．６％程度である。そのため、反射防止部１４の反射率を３％以下にすることが望ましい。例えば、反射防止性能を得るような表面処理で考えると、紫外線１０の波長帯域において１％以下の反射率を有する無電解黒色めっきが好適である。このように、樹脂を硬化させる光に対する型の表面の反射率よりも低い反射率を有する反射防止部を備えることで、効果的にインプリント装置内の反射を低減することができる。

Claims (9)

1. 基板上のインプリント材と型とを接触させた状態で光を照射することで、前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
   前記光を照射するための光照射部と、
   前記型を保持し、前記型を介して前記基板に向けて前記光照射部から照射された前記光が通過するように開口が形成された型保持部と、を備え、
   前記基板と前記型の少なくともいずれかで反射した反射光が入射し得る前記型保持部の表面の少なくとも一部は、前記光照射部から照射された前記光に対する前記型の表面の反射率よりも低い反射率であることを特徴とするインプリント装置。
2. 前記型保持部は、前記光照射部から照射された前記光に対する前記型の表面の反射率よりも低い反射率を有する光学部材を備えることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
3. 前記光学部材は、前記型保持部に形成された前記開口の表面全域、および、前記型保持部が前記基板に対向する表面の領域の少なくともいずれかに設置されることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
4. 前記光学部材は、前記基板に対向する表面の領域のうち、少なくとも前記型保持部に形成された前記開口のエッジ部に設置されることを特徴とする請求項２に記載のインプリント装置。
5. 前記光学部材は、反射防止性能を有する部材であることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載のインプリント装置。
6. 前記光学部材の表面は、反射防止性能を有する膜であることを特徴とする請求項２ないし４のいずれか１項に記載のインプリント装置。
7. 前記膜は、無電解黒色めっき処理された膜であることを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
8. 前記基板上に前記インプリント材を塗布する塗布部と、
   前記型の形状を補正する倍率補正機構と、
   前記型と前記基板との間に気体を供給する気体供給ノズルと、の少なくともいずれかを備え、
   前記光学部材は、さらに、前記塗布部、前記倍率補正機構、または前記気体供給ノズルのうちの表面の少なくとも一部に設置されることを特徴とする請求項２ないし７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
9. 請求項１ないし８のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成する工程と、
   前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
   を含むことを特徴とする物品の製造方法。