JP2014120604A - インプリント装置、デバイス製造方法及びインプリント装置に用いられる型 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のインプリント装置は、基板上の樹脂に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、前記型と接触した状態の前記樹脂に該樹脂を硬化させるエネルギーを供給する供給部と、前記型と前記樹脂とが最初に離型する領域に供給するエネルギーよりも、前記型と前記樹脂とが最後に離型する領域に供給するエネルギーが多くなるように、前記供給部から前記樹脂に供給されるエネルギーを調整する調整部と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係るインプリント装置1を模式的に表した図である。インプリント装置1には、原版としての型(モールド)Mを保持するモールドチャック2、基板としてのウエハWを保持するウエハチャック3を備える。
図2を用いて、樹脂6の硬化収縮により発生する内部応力について説明する。図2はモールドMに形成されたパターンPの一部を拡大した断面図を示している。図2(a)はモールドMに充填した樹脂6の硬化前、図2(b)はモールドMに充填した樹脂6の硬化後を示す図である。
σ=k×f(Tp)×f(1/Tr)×ε×S (式1)
図3を用いて、ウエハW上に照射される紫外線の露光量の分布について説明する。本実施形態の樹脂6は、樹脂に照射される紫外線の露光量が大きいほど硬化収縮量が大きくなる樹脂を用いる。または、樹脂に照射される紫外線の露光量が大きいほど、硬化した樹脂のヤング率が高くなる樹脂である。
上述のように露光量に分布を与えて樹脂を硬化させると、最後に離型する領域の樹脂は最初に離型する領域の樹脂よりも大きく収縮する。そのため、最後に離型する領域に転写されるパターンの形状は、モールドMに形成されたパターンPとは異なる恐れがある。そこで、樹脂の収縮を予め考慮して設計されたモールドMを用いても良い。
図5を用いて第2実施形態のインプリント装置について説明する。
図6を用いて第3実施形態のインプリント装置について説明する。
図7を用いて第4実施形態のインプリント装置について説明する。
7 光源
8 光学部材
Claims (13)
- 基板上の樹脂に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型と接触した状態の前記樹脂に該樹脂を硬化させるエネルギーを供給する供給部と、
前記型と前記樹脂とが最初に離型する領域に供給するエネルギーよりも前記型と前記樹脂とが最後に離型する領域に供給するエネルギーが多くなるように、前記供給部から前記樹脂に供給されるエネルギーを調整する調整部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。 - 前記供給部は前記樹脂を硬化させる露光光を照射する光源を有し、
前記樹脂は前記光源から露光光が照射されることにより硬化する光硬化樹脂であり、
前記調整部は前記露光光による露光量を調整することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記調整部は、前記最後に離型する領域での光強度が前記最初に離型する領域での前記光強度よりも高くなるように前記露光光を調整することを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記調整部は、前記露光光に対する透過率が、前記最初に離型する領域に対応する部分よりも前記最後に離型する領域に対応する部分よりも高いフィルタであることを特徴とする請求項2または3に記載のインプリント装置。
- 前記調整部は、前記最初に離型する領域でのエネルギーを供給する時間よりも、前記最後に離型する領域でのエネルギーを供給する時間が長くなるように前記供給部を調整することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 前記供給部は前記樹脂を硬化させる露光光を照射する光源を有し、
前記露光光を遮光する遮光板を備え、
前記調整部は、前記最後に離型する領域に前記露光光を照射した状態で、前記最初に離型する領域を照射する露光光を遮光するように前記遮光板を駆動することで、前記最初に離型する領域にエネルギーを供給する時間よりも、前記最後に離型する領域にエネルギーを供給する時間が長くなるように前記供給部を調整することを特徴とする請求項5に記載のインプリント装置。 - 前記最初に離型する領域よりも、前記最後に離型する領域の露光量が1.2倍以上3倍以下であることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 前記調整部は、前記型と前記樹脂とが接触した状態で前記露光光を照射し前記樹脂を硬化させた後に、前記型と前記樹脂とを離型する際に前記露光光が照射されているように前記光源を制御する制御部であることを特徴とする請求項2乃至7のいずれか一項に記載のインプリント装置。
- 基板上の樹脂に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記樹脂に該樹脂を硬化させるエネルギーを供給する供給部と、
前記型と前記樹脂とが接触した状態で、前記型と前記樹脂とが最初に離型する領域に供給するエネルギーよりも前記型と前記樹脂とが最後に離型する領域に供給するエネルギーが多くなるように、前記供給部から前記樹脂にエネルギーを供給するよう制御する制御部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。 - 基板上の樹脂に型を用いてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記型と接触した状態の前記樹脂に該樹脂を硬化させるエネルギーを供給する供給部と、
前記基板上に形成される前記パターンの密度が低い領域よりも、前記基板上に形成される前記パターンの密度が高い領域に供給するエネルギーが多くなるように、前記供給部から前記樹脂に供給されるエネルギーを調整する調整部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。 - 前記供給部は前記樹脂を硬化させる熱を供給する熱源を有し、
前記樹脂は前記熱源から供給される熱により硬化する熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂であり、
前記調整部は前記熱源による熱の供給量を調整することを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 請求項1乃至11のいずれか一項に記載のインプリント装置を用いて前記パターンを前記基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 請求項1乃至11のいずれか一項に記載のインプリント装置に用いられる型であって、
前記調整部によって前記供給部から前記樹脂に供給される前記エネルギーの量によって異なる前記樹脂の収縮量に基づいて、前記型に形成されたパターン部の凹凸形状が異なることを特徴とするインプリント装置に用いられる型。
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