TWI823148B - 奈米壓印用樹脂固化裝置 - Google Patents
奈米壓印用樹脂固化裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI823148B TWI823148B TW110135447A TW110135447A TWI823148B TW I823148 B TWI823148 B TW I823148B TW 110135447 A TW110135447 A TW 110135447A TW 110135447 A TW110135447 A TW 110135447A TW I823148 B TWI823148 B TW I823148B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- light
- resin
- light irradiation
- irradiation
- protruding
- Prior art date
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 74
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/161—Coating processes; Apparatus therefor using a previously coated surface, e.g. by stamping or by transfer lamination
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
本發明涉及一種奈米壓印用樹脂固化裝置,包括:光照射部,其以使轉印有圖案的樹脂固化的方式照射光;以及遮光部,其從所述光照射部凸出地配置,以遮蔽因照射至所述樹脂的光擴散而重疊地向所述樹脂照射光。
Description
本發明涉及一種奈米壓印用樹脂固化裝置。
近來,在顯示製程和半導體製程中,為了在基板(例如,顯示面板和晶圓(Wafer)等)的表面形成圖案(例如,結構化的成型圖案和用於蝕刻或蒸鍍的掩模圖案),正在利用奈米壓印(Nano Imprint)製程。
以壓印(Imprint)形式在基板表面形成奈米至微米大小的微細圖案的奈米壓印製程對在一面塗布有樹脂的基板和在一面形成有圖案的模具(Mold)加壓(Molding)並分離(Demolding)以將圖案轉印於樹脂。
此時,作為加壓基板和模具的手段,可以有以板和板對基板和模具加壓的板對板型(Plate-to-Plate Type)、以輥和板對基板和模具加壓的輥對板型(Roll-to-Plate Type)、以及以輥和輥對基板和模具加壓的輥對輥型(Roll-to-Roll Type)。
通過基板和模具被加壓而轉印有圖案的樹脂是通過光被固化的光固化樹脂,其通過從光照射部(例如,UV燈等)照射的光而被固化。
這樣的光照射部照射樹脂的光可以形成光到達樹脂的照射區域。
照射區域可以由作為光照射部的光源的發光部產生的光直接到達樹脂的直接照射區域和直接照射區域的周圍的光的擴散而到達樹脂的擴散照射區域構成。
通過光照射部的直接照射區域完成樹脂的光照射的區域可能會通過擴散照射區域重疊地照射光。
此時,被重疊地照射光的樹脂的區域的固化的程度會不同。
例如,光照射部開始光照射的樹脂的一側相較於光照射結束的樹脂的另一側通過擴散照射區域被更多地重疊地照射光,因而固化的程度可能會更高。
這樣的光照射的重疊所致的固化的程度的差對基板和模具的分離造成影響,因而存在基板發生不良的問題。
本發明的目的在於,提供一種奈米壓印用樹脂固化裝置。
本發明的實施例的奈米壓印用樹脂固化裝置包括:光照射部,其以使轉印有圖案的樹脂固化的方式照射光;以及遮光部,其從所述光照射部凸出地配置,以遮蔽因照射至所述樹脂的光擴散而重疊地向所述樹脂照射光。
本發明的實施例的奈米壓印用樹脂固化裝置包括:光照射部,其以使轉印有圖案的樹脂固化的方式照射光;以及準直透鏡,其相較於所述光照射部的輸出光的發光部配置於前方,以遮蔽因照射至所述樹脂的光擴散而重疊地向所述樹脂照射光。
根據實施例,所述光照射部的照射方向以下側方向為基準朝向一側地傾斜。
根據實施例,所述光照射部包括照射方向引導部,該照射方向引導部引導照射方向在10度至80度內傾斜。
根據實施例,所述光照射部以從所述樹脂的一端照射至另一端的方式在一個方向上移動。
根據實施例,所述樹脂以從一端到另一端依次經過所述光照射部照射的光的方式移動。
首先,遮光部和準直透鏡遮蔽擴散照射區域向樹脂重疊地照射光,以使樹脂的固化的程度恒定,從而不會對脫模工序造成影響,因而具有防止基板發生不良的效果。
此外,照射方向引導部具有以能夠根據目的在限定的數值內改變光照射部的光照射方向的斜率的方式進行引導的效果。
1:基板
2:模具
100:光照射部
110:發光部
120:照射方向引導部
130:凸出部
140:導槽
150:固定部
200:遮光部
300:準直透鏡
圖1至圖4是關於本發明的實施例的奈米壓印用樹脂固化裝置的圖。
圖5是關於本發明的實施例的加壓基板和模具的手段的圖。
下面參照附圖對本發明的實施例進行詳細說明,以便本發明所屬領域中的具有通常知識者能夠容易實施。
本發明可以多種不同的形式實現,並且不限於這裡說明的實施例。
近來,在顯示製程和半導體製程中,為了在基板(例如,顯示面板和晶圓(Wafer)等)的表面形成圖案(例如,結構化的成型圖案和用於蝕刻或蒸鍍的掩模圖案),正在利用奈米壓印(Nano Imprint)製程。
以壓印(Imprint)形式在基板表面形成奈米至微米大小的微細圖案的奈米壓印製程對在一面塗布有樹脂的基板和在一面形成有圖案的模具(Mold)加壓(Molding)並分離(Demolding)以將圖案轉印於樹脂。
此時,作為加壓基板和模具的手段,可以有以板和板對基板和模具加壓的板對板型(Plate-to-Plate Type)、以輥和板對基板和模具加壓的滾對板型(Roll-to-Plate Type)、以及以輥和輥對基板和模具加壓的輥對輥型(Roll-to-Roll Type)。
通過基板和模具被加壓而轉印有圖案的樹脂是通過光被固化的光固化樹脂,其通過從光照射部(例如,UV燈等)照射的光而被固化。
這樣的光照射部照射樹脂的光可以形成光到達樹脂的照射區域。
照射區域可以由作為光照射部的光源的發光部產生的光直接到達樹脂的直接照射區域和直接照射區域的周圍的光的擴散而到達樹脂的擴散照射區域構成。
通過光照射部的直接照射區域完成樹脂的光照射的區域可能會通過擴散照射區域重疊地照射光。
此時,被重疊地照射光的樹脂的區域的固化的程度會不同。
例如,光照射部開始光照射的樹脂的一側相較於光照射結束的樹脂的另一側通過擴散照射區域被更多地重疊地照射光,因而固化的程度可能會更高。
這樣的光照射的重疊所致的固化的程度的差對基板和模具的分離造成影響,因而存在基板發生不良的問題。
為瞭解決這樣的問題,如圖1所示,本發明的實施例的奈米壓印用樹脂固化裝置可以包括光照射部100和遮光部200。
光照射部100可以將通過由作為光源的發光部110產生的光向轉印有圖案的樹脂照射光。
樹脂可以塗布於基板1的一面。
在一面形成有圖案的模具2和基板1可以壓接而向樹脂轉印圖案。
此時,樹脂可以是能通過光固化的光固化樹脂。
此外,光照射部100照射至樹脂的光可以是紫外線(Ultraviolet light)。
即,樹脂可以被由光照射部100照射的光固化。
遮光部200可以從光照射部100凸出地配置,以遮蔽因照射至樹脂的光擴散而重疊地向樹脂照射光。
此時,如圖2所示,可以代替遮光部200應用準直透鏡300來遮蔽因照射至樹脂的光擴散而重疊地向樹脂照射光。
這樣的準直透鏡300可以相較於光照射部100的輸出光的發光部110配置於前方。
遮光部200可以被配置為使光照射部100的照射區域位於遮光部200與基板1之間。
遮光部200可以具備比光照射部100的發光部110更大的寬度,並且在不妨礙光照射部100或基板1的移動的範圍內具有突出的長度。例如,如圖3所示,遮光部200可以形成為板狀,且配置於光照射部100。
如此,遮光部200和準直透鏡300遮蔽擴散照射區域向樹脂重疊地照射光,以使樹脂的固化的程度恒定,從而不會對脫模工序造成影響,因而具有防止基板1發生不良的效果。
如圖4所示,作為對實施例的具體說明,光照射部100的照射方向可以以下側方向為基準朝向一側地傾斜而形成傾斜度AG。
光照射部100的傾斜度AG可以形成為用於立即對加壓於模具2的基板1照射光的斜率。即,可以立即固化形成有圖案的樹脂。
光照射部100的傾斜度AG可以以被定義為0度的朝向下側的方向和被定義為90度的朝向一側的方向為基準形成為10度至80度的斜率。
如圖3和圖4所示,作為實施例的具體說明,光照射部100可以包括照射方向引導部120。
照射方向引導部120可以引導照射方向以作為0度的下側方向和作為90度的一側方向為基準在10度至80度內傾斜。
作為一實施例,如圖3所示,照射方向引導部120可以是在導槽140中結合以使照射方向的斜率不會被改變的方式進行固定的固定部150的結構,導槽140形成為以引導從形成為能夠旋轉的光照射部100凸出的凸出部130的移動以引導光照射方向的斜率的方式具備長度的曲線形態。
作為另一實施例,雖然未圖示,照射方向引導部120可以是通過驅動器(Actuator)改變光照射方向的斜率的結構。
如此,照射方向引導部120具有以能夠根據目的在限定的數值內改變光照射部100的光照射方向的斜率的方式進行引導的效果。
光照射部100可以根據加壓基板1和模具2的手段而移動或固定。
例如,如圖5的(a)所示,在以輥和板對基板1和模具2加壓的輥對板型(Roll-to-Plate Tyep)的情況下,光照射部100可以以從一端到另一端照射樹脂的方式在一個方向上移動。
此外,如圖5的(b)所示,在以輥和輥對基板1和模具2加壓的輥對輥型(Roll-to-Roll Type)的情況下,樹脂可以以從一端向另一端依次經過光照射部100照射的光的方式移動。
儘管上面通過較佳實施例對本發明進行了詳細說明,但本發明不限於此,並且可以在申請專利範圍的範圍內被多樣地實施。
1:基板
2:模具
100:光照射部
200:遮光部
Claims (5)
- 一種奈米壓印用樹脂固化裝置,其中,包括:一光照射部,其以使轉印有一圖案的一樹脂固化的方式照射光;以及一遮光部,其從該光照射部凸出地配置,以遮蔽因照射至該樹脂的光擴散而重疊地向該樹脂照射光;其中該光照射部包括一照射方向引導部,以改變該光照射部之照射方向的角度;該照射方向引導部包括:一凸出部,從該光照射部突出;一導槽,配置為曲線型態,以引導該凸出部的移動;以及一固定部,耦接於該凸出部以固定該凸出部。
- 一種奈米壓印用樹脂固化裝置,其中,包括:一光照射部,其以使轉印有一圖案的一樹脂固化的方式照射光;以及一準直透鏡,其相較於該光照射部的輸出光的一發光部配置於前方,以遮蔽因照射至該樹脂的光擴散而重疊地向該樹脂照射光;其中該光照射部包括一照射方向引導部,以改變該光照射部之照射方向的角度;該照射方向引導部包括:一凸出部,從該光照射部突出;一導槽,配置為曲線型態,以引導該凸出部的移動;以及一固定部,耦接於該凸出部以固定該凸出部。
- 根據請求項1或2所述的奈米壓印用樹脂固化裝置,其中,該照射方向引導部引導照射方向在10度至80度內傾斜。
- 根據請求項1或2所述的奈米壓印用樹脂固化裝置,其中,該光照射部以從該樹脂的一端照射至另一端的方式在一個方向上移動。
- 根據請求項1或2所述的奈米壓印用樹脂固化裝置,其中,該樹脂以從一端到另一端依次經過該光照射部照射的光的方式移動。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020200165530A KR20220076737A (ko) | 2020-12-01 | 2020-12-01 | 나노 임프린트용 레진 경화 장치 |
KR10-2020-0165530 | 2020-12-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202222530A TW202222530A (zh) | 2022-06-16 |
TWI823148B true TWI823148B (zh) | 2023-11-21 |
Family
ID=81769457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW110135447A TWI823148B (zh) | 2020-12-01 | 2021-09-24 | 奈米壓印用樹脂固化裝置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20220076737A (zh) |
CN (1) | CN114578653A (zh) |
TW (1) | TWI823148B (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN203766034U (zh) * | 2014-04-09 | 2014-08-13 | 刘彦君 | 一种用于3d打印机的光源装置及3d打印机 |
CN107127966A (zh) * | 2016-02-29 | 2017-09-05 | 富士施乐株式会社 | 成型装置 |
TW201820412A (zh) * | 2016-11-22 | 2018-06-01 | 日商佳能股份有限公司 | 壓印裝置、壓印方法及物品製造方法 |
JP2019519108A (ja) * | 2016-07-08 | 2019-07-04 | ギガレーン カンパニー リミテッドGigalane Co., Ltd. | ナノインプリント用レプリカモールド、その製造方法およびナノインプリント用レプリカモールド製造装置 |
-
2020
- 2020-12-01 KR KR1020200165530A patent/KR20220076737A/ko active Search and Examination
-
2021
- 2021-08-06 CN CN202110900270.8A patent/CN114578653A/zh active Pending
- 2021-09-24 TW TW110135447A patent/TWI823148B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN203766034U (zh) * | 2014-04-09 | 2014-08-13 | 刘彦君 | 一种用于3d打印机的光源装置及3d打印机 |
CN107127966A (zh) * | 2016-02-29 | 2017-09-05 | 富士施乐株式会社 | 成型装置 |
JP2019519108A (ja) * | 2016-07-08 | 2019-07-04 | ギガレーン カンパニー リミテッドGigalane Co., Ltd. | ナノインプリント用レプリカモールド、その製造方法およびナノインプリント用レプリカモールド製造装置 |
TW201820412A (zh) * | 2016-11-22 | 2018-06-01 | 日商佳能股份有限公司 | 壓印裝置、壓印方法及物品製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220076737A (ko) | 2022-06-08 |
CN114578653A (zh) | 2022-06-03 |
TW202222530A (zh) | 2022-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI601624B (zh) | 壓印裝置及製造物品的方法 | |
JP5137635B2 (ja) | インプリント方法、チップの製造方法及びインプリント装置 | |
JP4869263B2 (ja) | モールド | |
US20150118847A1 (en) | Imprint method, imprint apparatus, and method of manufacturing semiconductor device | |
US11837469B2 (en) | Imprint apparatus, imprint method, and method of manufacturing semiconductor device | |
JP5942551B2 (ja) | ナノインプリント用マスターテンプレート及びレプリカテンプレートの製造方法 | |
JP2008183810A (ja) | 転写方法及び装置 | |
JP2007019466A (ja) | パターンを有する部材の製造方法、パターン転写装置及びモールド | |
JP2013179219A (ja) | パターン形成装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP6956827B2 (ja) | はみ出し制御のための枠硬化方法 | |
TW201111920A (en) | Pattern formation method | |
TWI823148B (zh) | 奈米壓印用樹脂固化裝置 | |
KR101291719B1 (ko) | 균일 가압구조를 가진 대면적 임프린팅 장치 | |
KR20150030654A (ko) | 인프린트 장치 및 템플릿 | |
KR20100087788A (ko) | 나노임프린트 리소그래피를 이용한 미세 패턴의 형성 방법 | |
KR20090002815A (ko) | 롤 스탬프를 이용한 양면 임프린트 방법 | |
JP6281592B2 (ja) | レプリカテンプレートの製造方法 | |
TW201801881A (zh) | 奈米壓印用複製模、其製造方法及奈米壓印用複製模製造裝置 | |
KR102463923B1 (ko) | 임프린트 패턴 형성 방법 및 임프린트 장치 | |
KR102415094B1 (ko) | 비평면기판용 나노임프린트 노광장치 및 방법 | |
CN218413210U (zh) | 光学膜成形设备及光学膜压印装置 | |
JP2004205924A (ja) | 微細形状の転写方法 | |
JP3988287B2 (ja) | 連続搬送型露光装置 | |
TWI826037B (zh) | 紫外線光學膜的壓印成形方法 | |
JP7446799B2 (ja) | インプリント方法 |