JP5040712B2 - 反射スクリーンの製造方法 - Google Patents
反射スクリーンの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5040712B2 JP5040712B2 JP2008035638A JP2008035638A JP5040712B2 JP 5040712 B2 JP5040712 B2 JP 5040712B2 JP 2008035638 A JP2008035638 A JP 2008035638A JP 2008035638 A JP2008035638 A JP 2008035638A JP 5040712 B2 JP5040712 B2 JP 5040712B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- screen
- reflective
- range
- reflective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
反射面の形成方法として、投影位置から投影光の入射角と略同じ角度で反射性(光輝性)材料を吹き付ける技術が開示されているが、例えば蒸着により反射面を形成する場合、投影位置と単位形状部との距離が単位形状部毎に異なっていることから成膜特性も一定とは限らない。そのため、投影位置からの距離に応じて単位形状部に形成される反射面の厚さが均一にならず、投影光に対する反射特性のばらつきが大きくなる可能性がある。この場合、反射スクリーンとしての表示品質が低下する虞がある。
本発明の反射スクリーンの製造方法は、スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、前記反射部を形成する工程では、凹または凸の球状面を形成する工程と、前記球状面の表面に反射膜を形成する工程と、光硬化性材料及び光吸収性材料を用いて前記反射膜の表面に光吸収層を形成する工程と、前記光吸収層の前記投影部を臨む範囲を除去する工程と、を順次行うことを特徴とするものである。
従って、本発明の反射スクリーンの製造方法では、前記投影部を臨む範囲の光吸収層を除去することにより、反射部のうち投影部からの投影光に照射された範囲の反射部のみが露出し、他の範囲の反射部は光吸収層に覆われるため、外光等の反射に起因した不要な映り込みのない画像を表示できる。
また、本発明では、前記観察面の略法線方向に反射膜形成材料を供給して、前記球状面の表面に前記反射膜を形成することにより、反射膜形成材料の供給源からの距離に複数の反射部間でばらつきが生じず、均一な膜厚で反射膜を形成することが可能になる。
これにより、本発明では、露光範囲の光吸収性材料をエッチング等により除去することで、光吸収性材料も併せて除去することができ、露光範囲である投影光の照射範囲に反射膜を露出させることができる。また、露光範囲外は、光吸収性材料を含む光硬化性材料が残存するため、反射膜が露出していない範囲に入射した外光等を光吸収性材料が吸収し、外光等が観察側に反射して表示特性を低下させることを抑制できる。
これにより、本発明では、スクリーン基板に塗布した光吸収性材料のうち、露光範囲に塗布された光吸収性材料は、予め露光範囲の光硬化性材料が露光されて硬化しているため、当該露光範囲(すなわち投影部からの投影光に照射される範囲)には付着せず、未露光範囲(すなわち光吸収面)で未硬化の光硬化性材料に付着することになる。そのため、本発明では、例えばエアーブロー等の除去手段で光吸収性材料を除去することにより、露光範囲の光吸収性材料を容易に除去することができ、また未露光範囲の光吸収性材料を残存させることができる。
これにより、本発明では、スクリーン基板の電位を第1電位、第2電位に切り換えることにより、スクリーン基板への光吸収性材料の塗布、及び未露光範囲の光吸収性材料の除去を容易に実施できる。また、本発明では、エアーブロー等を用いた場合のように、粉体の光吸収性材料の粉塵が飛散せず、環境にも配慮した塗布・除去作業を実現できる。
これにより、本発明では、光吸収性材料の定着固定を確実に行うことが可能になる。
これにより、本発明では、光吸収性材料に覆われた光硬化性材料に光を照射することが困難であるが、熱を付与することにより、光硬化性材料を容易に硬化させることが可能になる。
図1に示すように、反射スクリーン100は、反射スクリーン100の観察面100aの中心点Cを通る法線NLに対して垂直方向(Y軸方向)にずれた位置に配置されたプロジェクタPから、観察面100aに向けて斜めに射出された投影光Lpを、反射スクリーン100の観察側(Z軸正方向側)に反射するものである。反射スクリーン100は、法線NLがZ軸と平行になるように配置されている。
まず、図4(a)に示すように、平板状のスクリーン基板1上にマスクMを形成する。このマスクMとしては、例えばクロム(Cr)を、スパッタ等により成膜して形成されたものである。
続いて、このようにスクリーン基板1上に形成されたマスクMに対して、図4(b)に示すように、凹部2を形成する位置に開口部Kを形成する。開口部Kは、フォトエッチングやレーザ加工等により形成することができる。
この後、スクリーン基板1からマスクMを除去することにより、図4(d)に示すように、凹部2を有するスクリーン基板1を得ることができる。
続いて、図5(a)に示すように、凹部2に反射膜3を形成する。
具体的には、図5(a)に示すように、スクリーン基板1の観察面1aと対向配置された蒸着源SPから観察面1aの法線方向にアルミニウム等の反射膜形成材料を供給し、凹部2の球状面6に反射膜3を成膜する。なお、上記蒸着の他に、反射膜形成材料をスプレー塗装することにより反射膜3を形成してもよい。また、上記図4(c)で示したマスクMを用いて凹部2に反射膜3を成膜してもよい。この場合には、反射膜3を形成した後にマスクMを除去すればよい。
次に、図5(c)に示すように、スクリーン基板1の観察側(Z軸正方向側)で、スクリーン基板1の観察面1aの法線に対して垂直方向下方側(Y軸負方向側、図5では右側)にずれた仮想光源位置PV(図3参照)に配置した光源43から光硬化層40の硬化波長を含む露光光EL(例えば紫外線)を照射し、光硬化層40の仮想光源位置PVを臨む露光範囲を露光する。
このとき、光硬化層40は、観察面1aを含む露光光ELが照射された範囲(露光範囲)については硬化し、スクリーン基板1がマスクとなって影となる範囲は硬化せずに粘着性が残存する。
これにより、未露光範囲に位置するブラックカーボンBCが残存し、図3に示した光吸収層41が形成される。
以上、本実施形態の反射スクリーン100の製造方法によれば、図3に示すような反射スクリーン100を製造することができる。
図1に示すように、プロジェクタPはミラーMに向けて投影光Lpを射出する。ミラーMに向けて射出された投影光Lpは、ミラーMによって反射され、仮想光源位置PVから射出されたと仮定した投影光Lpと同様に、スクリーン基板1の観察面1aに対して斜めに入射する。このとき、反射スクリーン100の中心点Cに入射する投影光Lpと、反射スクリーン100の観察面100aとのなす角度θは、約36°となっている。
保護層4に入射した投影光Lpは、保護層4を透過して凹部2の内壁面2aに形成された反射膜3に、透明の光硬化層40を介して到達する。反射膜3に到達した投影光Lpは、反射膜3によって反射スクリーン100の観察側に反射される。
ここで、反射スクリーン100には、反射防止層5が形成されているので、観察面100aの上方から観察面100aに入射した外光Loが、保護層4の表面4aで観察側に反射することが防止される。
ここで、スクリーン基板1は、上述のように可視光を吸収可能な光吸収面7を有しているので、凹部2の内壁面2aの反射膜3の非形成領域にある光吸収面7に到達した外光Loは、スクリーン基板1(光吸収面7)によって吸収される。また、スクリーン基板1の凹部2の非形成領域に到達した外光Loも、同様にスクリーン基板1によって吸収される。さらに、反射膜3は凹部2の上方側の、投影光Lpが入射する部分のみに形成されているので、外光Loは反射膜3に入射しない。
したがって、反射スクリーン100の観察面100aに入射した外光Loが、観察側に反射されることが防止できる。
また、本実施形態では、反射膜3を蒸着法ではなくスプレー塗布法で形成することにより、高価な蒸着装置を用いる必要がなくなり、大幅な生産性向上及び製造コストダウンを実現可能である。
しかも、本実施形態では、反射部が凹で形成されているため、凸のように投影光Lpが遮られることなく、凹部2に到達することができ、全体的に輝度を向上させることができる。
さらに、スクリーン基板1が可撓性を有する材料によって形成されているので、可撓性を有する反射スクリーン100を形成することができ、反射スクリーン100の巻き取りを可能とし、反射スクリーン100をコンパクトに収納することができる。
続いて、反射スクリーンの第2実施形態について、図6を参照して説明する。
本実施形態では上述の第一実施形態で説明した反射スクリーン100に対して、スクリーン基板11に凹部2ではなく凸部21がされている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
図6に示す反射スクリーン200は、プロジェクタPに対して、図1に示す第一実施形態の反射スクリーン100と同様に配置されている。反射スクリーン200のスクリーン基板11は、第一実施形態のスクリーン基板1と同様に、可視光を吸収可能に形成されている。
他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
そして、凸部21が形成されたスクリーン基板11に対しては、上記第1実施形態と同様に、凸部21の表面21aに蒸着やスプレー塗装により、観察面11aの法線方向にアルミニウム等の反射膜形成材料を供給し反射膜31を成膜する。次に、スプレー塗布により、スクリーン基板11の観察面11a側の表面全面に光硬化性材料を塗布して付着させ光硬化層40を形成した後に、光硬化層40の仮想光源位置PVを臨む範囲に露光光ELを照射して露光する。この後、スクリーン基板11の観察面11a側に光吸収性材料であるブラックカーボンの粉末を堆積させ、未露光範囲の光硬化層40に付着させた後に、エアーブロー等により露光されて硬化した光硬化層40に付着していない光吸収性材料を除去する。
この後の工程は、上記第1実施形態と同様である。
図6に示す仮想光源位置PVから射出されたと仮定した投影光Lpは、反射スクリーン200の観察面200aに対して斜めに入射する。
観察面200aに到達した投影光Lpは、反射防止層5に入射する。反射防止層5に入射した投影光Lpは、反射防止層5を透過して保護層4に入射する。
このとき、第1実施形態と同様に、反射防止層5によって投影光Lpが保護層4の表面4aで反射することが防止される。
保護層4に入射した投影光Lpは、保護層4及び透明の光硬化層40を透過して凸部21に形成された反射膜31に到達する。反射膜31に到達した投影光Lpは、凸状の反射膜31によって反射スクリーン200の観察側に反射される。
このように、本実施形態でも反射膜31は、スクリーン基板11の観察面11aの略法線に供給される射膜形成材料で成膜されるため、均一な膜厚の反射膜31を有し、等しい反射特性を有するスクリーン基板11を製造することができ、上記第1実施形態と同様の効果が得られる。
続いて、反射スクリーンの第3実施形態について、図7を参照して説明する。
本実施形態では上述の第1実施形態で説明した反射スクリーン100に対して、光吸収層41が光吸収性材料を含む光硬化性材料によって形成されている点で異なっている。その他の点は第一実施形態と同様であるので、同一の部分には同一の符号を付して説明は省略する。
そして、仮想光源位置PV(図3参照)に配置した光源43から光硬化層の硬化波長を含む露光光EL(例えば紫外線)を照射し、光硬化層の仮想光源位置PVを臨む露光範囲を露光する。
この後、スクリーン基板1を現像、エッチング処理して露光範囲の光硬化層を除去し、さらに残存した光硬化層を上述した定着硬化処理することにより、未露光範囲に光吸収層41を形成することができる。
これにより、スクリーン基板1の電位を逆電位に切り換えることにより、スクリーン基板1への光吸収性材料の塗布、及び未露光範囲の光吸収性材料の除去を容易に実施でき、エアーブロー等を用いた場合のように、粉体の光吸収性材料の粉塵が飛散せず、環境にも配慮した塗布・除去作業を実現できる。
さらに、仮想光源位置PVからの距離に応じて疎となる分布で配置されていれば、一様に配置する必要はなく、例えば観察面からの投影光Lpの反射分布に偏りが生じている場合には、当該偏りを有する領域の配置分布を調整することにより、反射分布(輝度分布)を補正してもよい。
Claims (7)
- スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
前記反射部を形成する工程では、
凹または凸の球状面を形成する工程と、
前記球状面の表面に反射膜を形成する工程と、
光硬化性材料及び光吸収性材料を用いて前記反射膜の表面に光吸収層を形成する工程と、
前記光吸収層の前記投影部を臨む範囲を除去する工程と、
を順次行い、
前記光吸収層を形成する工程では、前記光吸収性材料を含む前記光硬化性材料を前記反射膜の表面に配置し、
前記光吸収層の前記投影部を臨む範囲を除去する工程は、当該投影部を臨む範囲を露光する工程を含むことを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 - 請求項1記載の反射スクリーンの製造方法において、
前記観察面の略法線方向に反射膜形成材料を供給して、前記球状面の表面に前記反射膜を形成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 - スクリーン基板の観察面に複数の反射部を有し、前記観察面の法線に対して垂直方向にずれた位置に配置された投影部から、前記観察面に向けて斜めに射出された投影光を、観察側に反射する反射スクリーンの製造方法であって、
前記反射部を形成する工程では、
凹または凸の球状面を形成する工程と、
前記球状面の表面に反射膜を形成する工程と、
光硬化性材料及び光吸収性材料を用いて前記反射膜の表面に光吸収層を形成する工程と、
前記光吸収層の前記投影部を臨む範囲を除去する工程と、
を順次行い、
前記光吸収層を形成する工程は、前記反射膜の表面に前記光硬化性材料を配置する工程と、前記光硬化性材料の前記投影部を臨む範囲を露光して硬化させる工程と、前記スクリーン基板に前記光吸収性材料を塗布する工程とを有し、
前記光吸収層の前記投影部を臨む範囲を除去する工程では、露光により前記光硬化性材料が硬化した範囲の前記光吸収層を除去することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 - 請求項3記載の反射スクリーンの製造方法において、
前記観察面の略法線方向に反射膜形成材料を供給して、前記球状面の表面に前記反射膜を形成することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 - 請求項3または4記載の反射スクリーンの製造方法において、
前記スクリーン基板に前記光吸収性材料を塗布する工程は、第1電位の前記スクリーン基板に、前記第1電位とは逆電位の第2電位を付与した前記光吸収性材料を静電塗布する工程を有し、
前記光吸収層の前記投影部を臨む範囲を除去する工程は、前記光吸収性材料を塗布した前記スクリーン基板に前記第2電位を付与して、前記投影部を臨む範囲の前記光吸収性材料を除去する工程とを有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載の反射スクリーンの製造方法において、
未露光範囲の前記光吸収層を定着硬化させる工程を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。 - 請求項6記載の反射スクリーンの製造方法において、
前記光硬化性材料は、熱硬化性を有することを特徴とする反射スクリーンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008035638A JP5040712B2 (ja) | 2008-02-18 | 2008-02-18 | 反射スクリーンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008035638A JP5040712B2 (ja) | 2008-02-18 | 2008-02-18 | 反射スクリーンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009192970A JP2009192970A (ja) | 2009-08-27 |
JP5040712B2 true JP5040712B2 (ja) | 2012-10-03 |
Family
ID=41074996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008035638A Expired - Fee Related JP5040712B2 (ja) | 2008-02-18 | 2008-02-18 | 反射スクリーンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5040712B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011221272A (ja) | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Seiko Epson Corp | 反射型スクリーン、投影システム、フロントプロジェクションテレビ、および、反射型スクリーンの製造方法 |
JP2013152284A (ja) * | 2012-01-24 | 2013-08-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射スクリーン、映像表示システム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02262134A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射形スクリーンおよび前方投射システム |
JP2006065266A (ja) * | 2004-07-30 | 2006-03-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射スクリーン、反射投影システム、及び、反射スクリーンの製造方法 |
JP4645123B2 (ja) * | 2004-09-28 | 2011-03-09 | 凸版印刷株式会社 | 反射型スクリーンおよびディスプレイ装置 |
JP2006215162A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射スクリーン及び反射投影システム |
JP2006330145A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射スクリーン、反射投影システム、及び、反射スクリーンの製造方法 |
US7499214B2 (en) * | 2006-03-20 | 2009-03-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Ambient light absorbing screen |
-
2008
- 2008-02-18 JP JP2008035638A patent/JP5040712B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009192970A (ja) | 2009-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10175390B2 (en) | Face protective optical element | |
TW201624017A (zh) | 光學體、光學薄膜貼附體及光學體之製造方法 | |
JPWO2005059641A1 (ja) | フレネル光学素子及び投写型表示装置 | |
WO2013183708A1 (ja) | 光学素子およびその製造方法、表示素子、ならびに投射型画像表示装置 | |
TW201620692A (zh) | 光學體、顯示裝置及光學體之製造方法 | |
WO2013146330A1 (ja) | 光学素子およびその製造方法、光学系、撮像装置、光学機器および原盤 | |
WO2022071397A1 (ja) | 光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法 | |
JP2010066750A (ja) | スクリーンの製造方法及びスクリーン | |
JP2023126273A (ja) | 樹脂積層光学体、光源ユニット、光学ユニット、光照射装置、画像表示装置、樹脂積層光学体の製造方法、及び光源ユニットの製造方法 | |
JP5040713B2 (ja) | 反射スクリーンの製造方法 | |
KR20150020994A (ko) | 광학 소자, 광학계, 촬상 장치, 광학 기기, 및 원반과 그 제조 방법 | |
JP5040712B2 (ja) | 反射スクリーンの製造方法 | |
EP3462082B1 (en) | Optical body and light emitting device | |
JP2007310253A (ja) | レンズアレイシート、レンズアレイシートの製造方法、透過型スクリーン、背面投射型表示装置 | |
JP2010243561A (ja) | 反射スクリーン | |
JP2014200920A (ja) | ノズルチップの製造方法 | |
JP5040690B2 (ja) | 反射スクリーンとその製造方法 | |
JP2009186873A (ja) | 反射スクリーンとその製造方法 | |
JP2006285223A (ja) | 反射防止構造体を有する部材 | |
JP2000292862A (ja) | レンチキュラーレンズシートの製造方法およびその装置 | |
JP4828641B2 (ja) | フレネル光学素子及び投写型表示装置 | |
JP4991000B2 (ja) | フレネル光学素子及び投写型表示装置 | |
JP2019020483A (ja) | ディスプレイ用スクリーン、及びその製造方法 | |
JP2007163797A (ja) | レンズ基板の製造方法、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ | |
JP2007187759A (ja) | マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120221 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120612 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150720 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |