JP2013184126A - 塗工装置 - Google Patents

Abstract

【課題】基材上に塗工された塗工液の膜厚を均一化させることができる塗工装置を提供する。
【解決手段】本発明による塗工装置１０は、基材１を載置する載置台１１と、載置台１１上に載置される基材１に塗工液５を吐出する吐出ヘッド２０であって、その長手方向に沿って延び、基材１に対応する領域である基材領域２１ａと、基材領域２１ａの端部から延長した延長領域２１ｂと、を含む吐出開口２１を有する吐出ヘッド２０と、載置台１１上に載置される基材１に隣接して配置され、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出される塗工液５を受ける回転自在な回転ディスク４０と、を備えている。回転ディスク４０は、回転駆動部４５によって回転駆動されるようになっている。また、回転ディスク４０上の塗工液は、スキージ５０によって掻かれるようになっている。
【選択図】図３

Description

本発明は、基材に塗工液を塗工する塗工装置に係り、とりわけ、基材上に塗工された塗工液の膜厚を均一化させることができる塗工装置に関する。

液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタにおいては、ガラス基板上に、例えば、所定の形状にパターニングされたブラックマトリックス（ＢＭ）、赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）および青色画素（Ｂ）が設けられている。このようなブラックマトリックスおよび各色の画素は、ガラス基板上にダイコータによってレジスト液を塗布して、露光、現像等を行うことにより形成されている。

ダイコータは、ガラス基板（基材）にレジスト液（塗工液）を吐出する開孔を含むダイヘッドを有している。このダイヘッドは、ガラス基板に対して移動しながらレジスト液を吐出してレジスト液をガラス基板に塗布（塗工）し、ガラス基板上にレジスト液の液膜を形成するようになっている。このようなダイヘッドにおいて、開孔から吐出されるレジスト液の幅を調整するために、ダイヘッドの内部に設けられて開孔に連通するスロット部に、シム板が挿入されたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。シム板としては、テフロン（登録商標）、ポリエステル等の樹脂シート、又は銅、アルミニウム等の金属シートが用いられている。

特開２００１−２９８６１号公報

ところで、ダイヘッドの開孔およびスロット部は、ダイヘッドの長手方向に延び、ガラス基板の幅（ダイヘッドの移動方向に対して直交する方向の寸法）より大きい幅を有している。このため、ガラス基板の全面にレジスト液を塗布する場合には、特許文献１に記載のようなシム板がスロット部の両端部（ガラス基板の外方に対応する部分）に挿入される。このようにして、ダイヘッドの開孔から吐出されたレジスト液が、ガラス基板の外方に吐出されることを防止している。

しかしながら、シム板をダイヘッドのスロット部の形状に精度良く合わせて作製することは困難である。このことにより、スロット部の内壁とシム板との間に隙間が形成されて、この隙間を通ったレジスト液がシム板から液垂れするという問題がある。この液垂れしたレジスト液は、スロット部のシム板が挿入されていない領域を通ったレジスト液に表面張力によって引き寄せられてガラス基板に吐出される。このため、開孔から吐出されるレジスト液の吐出量が、ダイヘッドの長手方向において不均一になり、ガラス基板上に塗布されたレジスト液の膜厚を均一にすることが困難になる。

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基材上に塗工された塗工液の膜厚を均一化させることができる塗工装置を提供することを目的とする。

本発明は、基材に塗工液を塗工する塗工装置において、前記基材を載置する載置台と、前記載置台上に載置される前記基材に塗工液を吐出する吐出ヘッドであって、その長手方向に沿って延び、前記基材に対応する領域である基材領域と、前記基材領域の端部から延長した延長領域と、を含む吐出開口を有する前記吐出ヘッドと、前記載置台上に載置される前記基材に隣接して配置され、前記吐出開口の前記延長領域から吐出される前記塗工液を受ける回転自在な回転ディスクと、前記回転ディスクを回転駆動する回転駆動部と、前記回転ディスク上の塗工液を掻くスキージと、を備えたことを特徴とする塗工装置を提供する。

なお、上述した塗工装置においては、前記回転ディスクの上面は、前記載置台上に載置される前記基材の上面と同一平面上に配置されている、ことが好ましい。

また、上述した塗工装置においては、前記回転ディスク、前記回転駆動部および前記スキージは、フレームを介して前記吐出ヘッドに取り付けられている、ことが好ましい。

また、上述した塗工装置においては、前記スキージは、前記フレームに着脱自在に取り付けられている、ことが好ましい。

また、上述した塗工装置においては、前記スキージにより掻かれた塗工液を回収する回収容器を更に備えた、ことが好ましい。

また、上述した塗工装置においては、前記回収容器は、前記フレームを介して前記吐出ヘッドに取り付けられている、ことが好ましい。

また、上述した塗工装置においては、前記スキージは、前記回転ディスクの半径方向内側に配置された内周側端部と、前記内周側端部より半径方向外側に配置された外周側端部と、を有し、前記外周側端部は、前記内周側端部と前記回転ディスクの中心を通る基準線に対して、当該回転ディスクの回転方向側に配置されている、ことが好ましい。

また、上述した塗工装置においては、前記回転ディスクは、前記吐出開口の前記基材領域から吐出される前記塗工液を受ける液受け領域と、前記液受け領域の内周側に配置された非液受け領域と、を有し、前記スキージの前記内周側端部は、前記回転ディスクの前記非液受け領域に配置され、前記外周側端部は、前記回転ディスクの外方に配置されている、ことが好ましい。

本発明によれば、基材上に塗工された塗工液の膜厚を均一化させることができる。

図１は、本発明の実施の形態におけるダイコータの一例を示す斜視図である。 図２は、図１のダイコータのダイヘッドの一例を示す断面図である。 図３は、図１のダイコータを部分的に拡大した部分断面図である。 図４は、図１のダイコータを部分的に拡大した平面図である。

図１乃至図４を用いて、本発明の実施の形態における塗工装置について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

本実施の形態によるダイコータ（塗工装置）１０は、基材に塗工液を塗工するためのものであり、例えば、液晶ディスプレイに用いられるカラーフィルタを形成することを目的として、枚葉のガラス基板（基材）１に、ブラックマトリックス、赤色画素、緑色画素または青色画素用のレジスト液（塗工液）５を塗布（塗工）するために使用することができる。

図１に示すように、ダイコータ１０は、ガラス基板１を載置する載置台（ステージ）１１と、載置台１１上に載置されたガラス基板１にレジスト液５を吐出するダイヘッド（吐出ヘッド）２０と、を備えている。このうち載置台１１は、真空吸着によりガラス基板１を水平に保持するようになっている。また、載置台１１の前方（または後方）には、プライミングローラ１３が設けられている。このプライミングローラ１３は、ダイヘッド２０の吐出開口２１におけるレジスト液５の液溜まりを最適化するためのものであって、ダイヘッド２０は、ガラス基板１にレジスト液５を塗布する前にプライミングローラ１３に対してレジスト液５を吐出することにより、レジスト液５の液溜まりを調整するようになっている。このようにして、塗布開始直後のレジスト液５の膜厚を均一化させている。

ダイヘッド２０は、ヘッド駆動機構１２によって載置台１１に対して移動自在に構成されている。すなわち、図１に示すように、ダイコータ１０の左右方向をＸ方向、前後方向をＹ方向とした場合に、ダイヘッド２０はＹ方向に移動自在になっている。また、ヘッド駆動機構１２は、ダイヘッド２０を保持する保持部１２ａと、保持部１２ａをＹ方向に往復駆動する往復駆動部１２ｂと、を有している。このうち保持部１２ａは、載置台１１上に載置されたガラス基板１に対してダイヘッド２０のリップ面２２（後述）が所定の間隔で維持されるようにダイヘッド２０を保持している。往復駆動部１２ｂは、モータまたはエンコーダなどによって構成されており、保持部１２ａを介してダイヘッド２０を往復駆動させるようになっている。このようにして、ダイヘッド２０は、Ｙ方向に移動しながらガラス基板１上にレジスト液５を吐出するようになっている。

図１乃至図３に示すように、ダイヘッド２０は、Ｘ方向（ダイヘッド２０の移動方向に直交する方向）に沿った長手方向を有するように形成されており、その長手方向にガラス基板１を越えて延びる吐出開口２１を有している。この吐出開口２１からガラス基板１にレジスト液５が吐出されるようになっている。このようなダイヘッド２０は、ダイまたはノズルと呼ばれることもある。

より具体的に説明すると、図２に示すように、吐出開口２１は、ダイヘッド２０のガラス基板１に対向するリップ面２２に形成されている。ダイヘッド２０内には、吐出開口２１へ向けて延びるスリット２３と、スリット２３に連通したマニホールド２４と、が形成されている。マニホールド２４には、塗工液供給路２５を介して塗工液源２６が接続されており、塗工液源２６から塗工液供給路２５を介してマニホールド２４に塗工液が供給されるようになっている。

吐出開口２１およびリップ面２２は、ダイヘッド２０の長手方向に沿った長手方向を有し、線状（本実施の形態では直線状）に延びている。このような吐出開口２１に通じるスリット２３は、図２に示すように、吐出開口２１の長手方向に延びる互いに平行な２つの平面間に画成された細長い隙間として形成されている。また、マニホールド２４は、吐出開口２１の長手方向に延びる空間として形成されている。

ただし、吐出開口２１やスリット２３と比較して、マニホールド２４は十分に大きな流路面積と内部容積を有している。したがって、塗工液供給路２５を介してマニホールド２４内に供給されたレジスト液５は、マニホールド２４から直ちにスリット２３に流れ込むよりも、マニホールド２４内をその長手方向に流れやすくなっている。理想的には、マニホールド２４内がレジスト液５で満たされることによってマニホールド２４内の圧力が上昇した後に、当該上昇した高い圧力によってマニホールド２４からスリット２３へレジスト液５が流れ込む。この場合、マニホールド２４内に供給されたレジスト液５は、吐出開口２１の長手方向の全領域に行き渡る。

図３に示すように、ダイヘッド２０の吐出開口２１は、その長手方向にガラス基板１を両側に越えて延びるように形成されており、載置台１１上に載置されたガラス基板１に対応する領域である基材領域２１ａと、基材領域２１ａの長手方向の両端部から延長した一対の延長領域２１ｂと、を有している。すなわち、吐出開口２１のうち基材領域２１ａから吐出されたレジスト液５はガラス基板１上に塗布され、延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５は、ガラス基板１ではなく、後述する回転ディスク４０上に塗布されるようになっている。なお、図３および図４においては、図面を明瞭化するために、一対の延長領域２１ｂのうち一方の延長領域２１ｂを示している。

図３に示すように、ガラス基板１の左右方向（Ｘ方向）の両側には、ダイヘッド２０の吐出開口２１のうち延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を回収するための一対の回収機構３０が設けられている。すなわち、回収機構３０は、ダイヘッド２０の吐出開口２１から吐出されたレジスト液５のうち、ガラス基板１上に塗布されない不要なレジスト液５を回収するためのものである。以下に、このような回収機構３０の詳細について説明する。なお、一対の回収機構３０は、左右対称であって各々が同一の機能を有しているため、明瞭化のために、ここでは一対の回収機構３０のうちの一方について説明する。また、図面においても、明瞭化を目的として、図３および図４には一方の回収機構３０を示す。図１においては、回収機構３０は省略している。また、ダイヘッド２０の吐出開口２１が、基材領域２１ａの一方の端部のみから延長した単一の延長領域２１ｂを有している場合（すなわち、延長領域２１ｂが基材領域２１ａの一側方のみに設けられている場合）には、回収機構３０は、この単一の延長領域２１ｂに対応するように、ガラス基板１の左右方向の一側方のみに設けられていてもよい。

図３および図４に示すように、載置台１１上に載置されたガラス基板１の側面に隣接するように、回転自在な円板状の回転ディスク４０が配置されている。この回転ディスク４０は、ダイヘッド２０の吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を受けるようになっている。ここで、隣接という文言は、回転ディスク４０の側面と載置台１１上に載置されたガラス基板１の側面とが、回転ディスク４０が回転可能に厳密に接していることを意味することに限られることはなく、回転ディスク４０の側面とガラス基板１の側面との間に、ガラス基板１上に塗布されたレジスト液５が流れ込んでガラス基板１上のレジスト液５の膜厚が不均一にならないとみなすことができる程度の隙間が形成されている場合をも含む概念として用いている。なお、回転ディスク４０に用いる材料は、特に限定されるものではないが、例えば、ステンレス鋼、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのプラスチック材料を好適に用いることができる。

回転ディスク４０の上面は、ガラス基板１の上面と同一平面上に水平に配置されている。このことにより、ダイヘッド２０の吐出開口２１から吐出されたレジスト液５が、ガラス基板１の上面と回転ディスク４０の上面との間で行き来することを防止できる。ここで、同一平面という文言は、厳密に同一を意味することに限られることはなく、レジスト液５がガラス基板１の上面と回転ディスク４０の上面との間で行き来しないと見なすことができるようにガラス基板１と回転ディスク４０とが配置されている場合を含む概念として用いている。

また、本実施の形態においては、回転ディスク４０の一部は載置台１１上に配置されて、回転ディスク４０は、載置台１１に対して回転可能に構成されている。そして、回転ディスク４０はガラス基板１の厚さと同一の厚さを有している。このようにして、回転ディスク４０の上面と、ガラス基板１の上面とを同一平面上に配置して、レジスト液５がガラス基板１の上面と回転ディスク４０の上面との間で行き来することを防止している。なお、同一の厚さという文言は、厳密に同一を意味することに限られることはなく、レジスト液５がガラス基板１の上面と回転ディスク４０の上面との間で行き来しないと見なすことができる程度に厚さが同一である場合を含む概念として用いている。

また、図３および図４に示すように、レジスト液５は、回転ディスク４０の外周側の領域に吐出されるようになっている。すなわち、回転ディスク４０は、その外周側に配置された、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を受ける（レジスト液５が塗布される）リング状の液受け領域４０ａと、液受け領域４０ａの内周側に配置された、レジスト液５が塗布されない非液受け領域４０ｂと、を有している。

図３に示すように、回転ディスク４０には、当該回転ディスク４０を回転駆動する回転モータ４５が連結されており、回転ディスク４０は、回転モータ４５によって駆動されて、水平面内で回転するようになっている。回転ディスク４０と回転モータ４５との間には回転駆動軸４６が連結されており、この回転駆動軸４６は、載置台１１の側方に配置されている。

図３および図４に示すように、回転ディスク４０上には、塗布されたレジスト液５を掻くスキージ５０が設けられている。図４に示すように、スキージ５０は、直線状に形成されており、回転ディスク４０の半径方向内側に配置された内周側端部５１と、内周側端部５１より半径方向外側に配置された外周側端部５２と、を有している。このうち内周側端部５１は、回転ディスク４０の液受け領域４０ａの内周側すなわち非液受け領域４０ｂに配置され、外周側端部５２は回転ディスク４０の外方に対応して配置されている。そして、外周側端部５２は、スキージ５０の内周側端部５１と回転ディスク４０の中心Ｏを通る半径方向に延びる基準線Ｌに対して、回転ディスク４０の回転方向Ｐ側（回転方向Ｐに進んだ位置）に配置されている。すなわち、スキージ５０は、当該基準線Ｌに対して、回転ディスク４０の回転方向Ｐ側にθの角度をなすように形成されている。このことにより、回転ディスク４０の液受け領域４０ａ上のレジスト液５が、スキージ５０に沿って半径方向外側に案内されるようになっている。このようにして、回転ディスク４０上のレジスト液５はスキージ５０によって掻かれる。なお、スキージ５０に用いられる材料は、特に限定されるものではないが、例えば、ステンレス鋼、ポリエチレンテレフタレートなどのプラスチック材料を好適に用いることができる。

スキージ５０の下方には、スキージ５０により掻かれたレジスト液５を回収する回収容器６０が設けられている。より具体的には、回収容器６０は、スキージ５０の外周側端部５２の下方が中心となるように配置されており、回転ディスク４０の外方に流されて回転ディスク４０から落下したレジスト液５を回収するようになっている。なお、回収容器６０には、排液管６１を介して吸引ポンプ６２が連結されており、回収容器６０内に貯留されたレジスト液５が吸引されて排出されるように構成されている。このようにして、回収容器６０をフレーム７０から取り外すことなく回収容器６０内のレジスト液５を排出することを可能にしている。

図３に示すように、回転ディスク４０、回転モータ４５、スキージ５０および回収容器６０は、フレーム７０を介してダイヘッド２０に取り付けられている。このことにより、ダイヘッド２０は、回転ディスク４０、回転モータ４５、スキージ５０および回収容器６０と共に、Ｙ方向に移動自在に構成されている。また、スキージ５０は、フレーム７０に着脱自在に取り付けられている。具体的には、スキージ５０は、フレーム７０とサポート７１とにより挟持されて、サポート７１がフレーム７０にボルト７２で固定されるようになっていることが好適であるが、スキージ５０をフレーム７０に取り付ける方法は、これに限られることはない。

このようにして、ダイヘッド２０の吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を回収する回収機構３０が構成されている。

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用、すなわち、本実施の形態によるダイコータ１０を用いて、ガラス基板１上にレジスト液５を塗布する方法について説明する。

まず、載置台１１上に枚葉のガラス基板１が載置される。この場合、ガラス基板１は、真空吸着によって載置台１１に保持される。

続いて、ダイヘッド２０がプライミングローラ１３上に配置され、ダイヘッド２０の吐出開口２１におけるレジスト液５の液溜まりが、プライミングローラ１３によって最適化される。この場合、ダイヘッド２０はヘッド駆動機構１２の往復駆動部１２ｂによって移動する。

次に、ダイヘッド２０が、載置台１１上に載置されたガラス基板１の前端（または後端）に配置される。

次いで、回転ディスク４０が回転モータ４５によって回転駆動されて、ダイヘッド２０をガラス基板１の前端から後端に向かってＹ方向に移動させながら、ガラス基板１上にレジスト液５が吐出される。

この間、塗工液源２６から塗工液供給路２５を介してマニホールド２４にレジスト液５が供給されて、マニホールド２４からスリット２３を介して吐出開口２１の全領域から吐出される。このうち吐出開口２１の基材領域２１ａから吐出されたレジスト液５は、載置台１１上に載置されたガラス基板１上に塗布され、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５は、回転している回転ディスク４０の液受け領域４０ａ上に塗布される。

回転ディスク４０上に塗布されたレジスト液５は、回転ディスク４０の回転により、スキージ５０が配置されている位置に移動する。そして、当該レジスト液５は、スキージ５０によって掻かれる。この場合、レジスト液５は、スキージ５０に沿って半径方向外側に案内されて、回転ディスク４０の外周縁から落下する。このことにより、回転ディスク４０の液受け領域４０ａからレジスト液５が除去される。回転ディスク４０から落下したレジスト液５は、回収容器６０に回収される。回収容器６０に回収されたレジスト液５は、排液管６１を介して吸引ポンプ６２によって吸引されて排出される。

ダイヘッド２０がガラス基板１の後端に達すると、レジスト液５の吐出を停止する。このようにして、ガラス基板１の全面にレジスト液５が塗布されて、レジスト液５の液膜が形成される。この際、回転ディスク４０の回転を停止する。

その後、ダイヘッド２０が退避位置に移動し、ガラス基板１が載置台１１から取り外される。

このように本実施の形態によれば、ダイヘッド２０の吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５が、回転している回転ディスク４０によって受けられ、回転ディスク４０上のレジスト液５がスキージ５０によって掻かれて、回転ディスク４０上からレジスト液５が除去される。このことにより、ダイヘッド２０の吐出開口２１から吐出されたレジスト液５のうち、ガラス基板１上に塗布されない不要なレジスト液５を連続的に排除することができる。このため、不要なレジスト液５がガラス基板１上に流れて、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚が不均一になることを防止することができ、ガラス基板１上に塗布されたレジスト液５の膜厚を均一化させることができる。

また、本実施の形態によれば、回転ディスク４０の上面は、載置台１１上に載置されたガラス基板１の上面と同一平面上に配置されている。このことにより、ダイヘッド２０の吐出開口２１から吐出されたレジスト液５が、ガラス基板１の上面と回転ディスク４０の上面との間で行き来することを防止できる。このため、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚が不均一になることを防止することができる。

また、本実施の形態によれば、ダイヘッド２０の吐出開口２１から吐出されたレジスト液５のうち、ガラス基板１上に塗布されない不要なレジスト液５を回転ディスク４０で受けることができることから、載置台１１をレジスト液５で汚染することを抑制できる。さらに、スキージ５０の下方に、スキージ５０により掻かれたレジスト液５を回収する回収容器６０が設けられていることにより、スキージ５０により掻かれて回転ディスク４０から除去されたレジスト液５が、ダイコータ１０およびその周囲を汚染することを防止することができる。

また、本実施の形態によれば、回転ディスク４０、回転モータ４５、スキージ５０および回収容器６０は、フレーム７０を介してダイヘッド２０に取り付けられている。このことにより、回転ディスク４０、回転モータ４５、スキージ５０および回収容器６０を、ダイヘッド２０と共にＹ方向に移動させることができ、ダイヘッド２０の吐出開口２１から吐出されたレジスト液５のうち、ガラス基板１上に塗布されない不要なレジスト液５を、ダイヘッド２０の移動に併せて連続的に回収することができる。このため、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚が不均一になることをより一層防止することができる。

また、本実施の形態によれば、スキージ５０は、サポート７１およびボルト７２を用いてフレーム７０に着脱自在に取り付けられている。このことにより、スキージ５０が磨耗等により交換が必要になった場合には、交換作業を容易に行うことができる。

また、本実施の形態によれば、スキージ５０の外周側端部５２は、スキージ５０の内周側端部５１と回転ディスク４０の中心Ｏを通る半径方向に延びる基準線Ｌに対して、回転ディスク４０の回転方向Ｐ側に配置されている。このことにより、回転ディスク４０の液受け領域４０ａ上のレジスト液５を、スキージ５０に沿って半径方向外側に案内して、回転ディスク４０の外周縁から落下させることができる。このことにより、回転ディスク４０上に塗布されたレジスト液５を回転ディスク４０から除去することができる。また、このようにしてレジスト液５を除去することにより、レジスト液５が除去された回転ディスク４０の液受け領域４０ａで、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を再び受けることができる。このため、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５がガラス基板１に流れることを防止し、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚が不均一になることを防止することができる。

さらに、本実施の形態によれば、ダイヘッド２０の吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を受ける液受け領域４０ａの内周側に、レジスト液５が塗布されない非液受け領域４０ｂが形成され、スキージ５０の内周側端部５１が、非液受け領域４０ｂに配置されている。このことにより、回転ディスク４０上に塗布されたレジスト液５を確実に除去して回転ディスク４０上に滞留することを防止することができる。このため、レジスト液５が除去された回転ディスク４０の液受け領域４０ａで、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５を再び受けることができ、吐出開口２１の延長領域２１ｂから吐出されたレジスト液５がガラス基板１に流れることを防止し、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚が不均一になることを防止することができる。

なお、本実施の形態においては、ダイヘッド２０が、回転ディスク４０、回転モータ４５、スキージ５０および回収容器６０と共に、Ｙ方向に移動自在になっている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、ダイヘッド２０が移動せずに、ガラス基板１を載置した載置台１１がＹ方向に移動自在に構成されていてもよい。

また、本実施の形態においては、回収容器６０が、フレーム７０を介してダイヘッド２０に取り付けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、回収容器６０は、ダイヘッド２０に取り付けられないように構成することもできる。例えば、回収容器６０が、移動せずに、載置台１１に沿ってＹ方向に延びるようにダイヘッド２０の移動範囲全体にわたって連続的に形成されて、ダイヘッド２０と共にＹ方向に移動する回転ディスク４０から落下するレジスト液５を受けるようにしてもよい。また、別の変形例としては、回収容器６０を設けなくてもよい。この場合においても、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚を均一化させることができる。

また、本実施の形態においては、スキージ５０の外周側端部５２は、スキージ５０の内周側端部５１と回転ディスク４０の中心Ｏを通る半径方向に延びる基準線Ｌに対して、回転ディスク４０の回転方向Ｐ側に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、回転ディスク４０の非液受け領域４０ｂに開口（図示せず）が形成されている場合には、当該開口にレジスト液５を案内してここから落下させることにより回転ディスク４０の液受け領域４０ａ上のレジスト液５を除去することができるため、スキージ５０の外周側端部５２の配置を任意とすることができる。この場合、例えば、スキージ５０の外周側端部５２が、基準線Ｌに対して回転ディスク４０の回転方向Ｐとは反対側に配置されていてもよく、あるいは、外周側端部５２が、基準線Ｌ上に配置されていてもよい（この場合、スキージ５０は、回転ディスク４０の半径方向に沿って配置される）。また、スキージ５０は、直線状に形成されることはなく、回転ディスク４０の液受け領域４０ａ上のレジスト液５を除去することが可能であれば、湾曲していてもよく、任意の形状とすることができる。

また、本実施の形態においては、回転ディスク４０の一部が載置台１１上に配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、回転ディスク４０は、全体として、載置台１１の側方に配置されていてもよい。この場合においても、回転ディスク４０が、載置台１１に載置されるガラス基板１に隣接するように配置されていれば、ダイヘッド２０の延長領域２１ｂから吐出されるレジスト液５を受けることができ、ガラス基板１上のレジスト液５の膜厚を均一化させることができる。

また、本実施の形態においては、枚葉のガラス基板１にレジスト液５を塗布する例について説明した。しかしながら、基板の材料は、ガラスに限られることはなく、例えば、プラスチックにより形成された基板にも、本発明による塗工装置を適用することができる。さらに、基材は枚葉に限られることはなく、例えば、ウェブ状の基材にレジスト液５を塗布する際にも、本発明による塗工装置を適用することができる。ここで、ウェブ状の基材とは、帯状に連続した基材を意味するものである。

また、本実施の形態においては、ガラス基板１に、カラーフィルタのブラックマトリックスまたは各色の画素を形成するためのレジスト液５を塗布するダイコータ１０の例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、本発明による塗工装置は、例えば、基板に、着色樹脂や、ＩＴＯ（indium tin oxide）膜等の各種薄膜を形成するための塗工液を塗工するために使用することもできる。

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明による塗工装置は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。

１ ガラス基板
５ レジスト液
１０ ダイコータ（塗工装置）
１１ 載置台
２０ ダイヘッド
２１ 吐出開口
２１ａ 基材領域
２１ｂ 延長領域
４０ 回転ディスク
４０ａ 液受け領域
４０ｂ 非液受け領域
４５ 回転モータ
５０ スキージ
５１ 内周側端部
５２ 外周側端部
６０ 回収容器
７０ フレーム

Claims (8)

1. 基材に塗工液を塗工する塗工装置において、
   前記基材を載置する載置台と、
   前記載置台上に載置される前記基材に塗工液を吐出する吐出ヘッドであって、その長手方向に沿って延び、前記基材に対応する領域である基材領域と、前記基材領域の端部から延長した延長領域と、を含む吐出開口を有する前記吐出ヘッドと、
   前記載置台上に載置される前記基材に隣接して配置され、前記吐出開口の前記延長領域から吐出される前記塗工液を受ける回転自在な回転ディスクと、
   前記回転ディスクを回転駆動する回転駆動部と、
   前記回転ディスク上の塗工液を掻くスキージと、を備えたことを特徴とする塗工装置。
2. 前記回転ディスクの上面は、前記載置台上に載置される前記基材の上面と同一平面上に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の塗工装置。
3. 前記回転ディスク、前記回転駆動部および前記スキージは、フレームを介して前記吐出ヘッドに取り付けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の塗工装置。
4. 前記スキージは、前記フレームに着脱自在に取り付けられていることを特徴とする請求項３に記載の塗工装置。
5. 前記スキージにより掻かれた塗工液を回収する回収容器を更に備えたことを特徴とする請求項３または４に記載の塗工装置。
6. 前記回収容器は、前記フレームを介して前記吐出ヘッドに取り付けられていることを特徴とする請求項５に記載の塗工装置。
7. 前記スキージは、前記回転ディスクの半径方向内側に配置された内周側端部と、前記内周側端部より半径方向外側に配置された外周側端部と、を有し、
   前記外周側端部は、前記内周側端部と前記回転ディスクの中心を通る基準線に対して、当該回転ディスクの回転方向側に配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の塗工装置。
8. 前記回転ディスクは、前記吐出開口の前記基材領域から吐出される前記塗工液を受ける液受け領域と、前記液受け領域の内周側に配置された非液受け領域と、を有し、
   前記スキージの前記内周側端部は、前記回転ディスクの前記非液受け領域に配置され、前記外周側端部は、前記回転ディスクの外方に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の塗工装置。

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