JP2001195004A - フラットパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタ - Google Patents
フラットパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタInfo
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- JP2001195004A JP2001195004A JP2000006176A JP2000006176A JP2001195004A JP 2001195004 A JP2001195004 A JP 2001195004A JP 2000006176 A JP2000006176 A JP 2000006176A JP 2000006176 A JP2000006176 A JP 2000006176A JP 2001195004 A JP2001195004 A JP 2001195004A
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低コストなフラットパネルディスプレイ及び
その製造方法並びにカラーフィルタを提供すること。 【解決手段】 フラットパネルディスプレイを製造する
工程に、カラーフィルタやパターニングを形成するため
のレジストの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍとなるよう
に、前記レジストをスリットから吐出させて塗布する工
程を含ませる。
その製造方法並びにカラーフィルタを提供すること。 【解決手段】 フラットパネルディスプレイを製造する
工程に、カラーフィルタやパターニングを形成するため
のレジストの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍとなるよう
に、前記レジストをスリットから吐出させて塗布する工
程を含ませる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタに関
し、特にスリット型塗布装置を用いて製造されたフラッ
トパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフ
ィルタに関するものである。
ィスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタに関
し、特にスリット型塗布装置を用いて製造されたフラッ
トパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフ
ィルタに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ
Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐ
ｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍ
ｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓ
ｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等のフラットパネルディス
プレイは、カラー化のための色分解フィルタであるカラ
ーフィルタを備えている。
Ｄｉｓｐｌａｙ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐ
ｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍ
ｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓ
ｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等のフラットパネルディス
プレイは、カラー化のための色分解フィルタであるカラ
ーフィルタを備えている。
【０００３】このカラーフィルタは、ガラス等の透明基
板上に黒顔料分散型レジスト及びカラー顔料分散型レジ
ストの薄膜をコーティングすることにより作成される。
この薄膜コーティングプロセスでは、ガラス基板上にレ
ジストを滴下し、ガラス基板を回転させてレジストを広
げることにより成膜するスピンコータが用いられてい
る。
板上に黒顔料分散型レジスト及びカラー顔料分散型レジ
ストの薄膜をコーティングすることにより作成される。
この薄膜コーティングプロセスでは、ガラス基板上にレ
ジストを滴下し、ガラス基板を回転させてレジストを広
げることにより成膜するスピンコータが用いられてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、近年のガラ
ス基板のサイズの大型化に伴って、スピンコータでは飛
散するレジストの量が増加するので、レジストの使用効
率が約３％と悪化してフラットパネルディスプレイがコ
スト高になるという問題があった。
ス基板のサイズの大型化に伴って、スピンコータでは飛
散するレジストの量が増加するので、レジストの使用効
率が約３％と悪化してフラットパネルディスプレイがコ
スト高になるという問題があった。
【０００５】本発明は、上記課題を解消するためになさ
れたものであり、低コストなフラットパネルディスプレ
イ及びその製造方法並びにカラーフィルタを提供するこ
とを目的としている。
れたものであり、低コストなフラットパネルディスプレ
イ及びその製造方法並びにカラーフィルタを提供するこ
とを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、フラットパネルディスプレイにおいて、黒及びカ
ラー顔料分散型レジストの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μ
ｍとなるように、前記黒及びカラー顔料分散型レジスト
をスリットから吐出させて塗布することにより作成され
ているカラーフィルタを備えることにより達成される。
れば、フラットパネルディスプレイにおいて、黒及びカ
ラー顔料分散型レジストの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μ
ｍとなるように、前記黒及びカラー顔料分散型レジスト
をスリットから吐出させて塗布することにより作成され
ているカラーフィルタを備えることにより達成される。
【０００７】上記構成によれば、フラットパネルディス
プレイに用いるカラーフィルタを製造する際に、黒及び
カラー顔料分散型レジストをスリット型の塗布装置によ
り塗布しているので、従来よりも黒及びカラー顔料分散
型レジストの使用効率を向上させて製品コストを低減さ
せることができ、また、比較的厚く塗布しているので、
ムラのない塗布が可能となって製品を高品質にすること
ができる。
プレイに用いるカラーフィルタを製造する際に、黒及び
カラー顔料分散型レジストをスリット型の塗布装置によ
り塗布しているので、従来よりも黒及びカラー顔料分散
型レジストの使用効率を向上させて製品コストを低減さ
せることができ、また、比較的厚く塗布しているので、
ムラのない塗布が可能となって製品を高品質にすること
ができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
【０００９】図１は、本発明のフラットパネルディスプ
レイの実施形態を示す概略斜視図である。このフラット
パネルディスプレイ１０は、アクティブマトリクス方式
のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ）液晶ディスプレイであり、表示面側から順に偏光板
１１ａ、ガラス基板１２ａ、カラーフィルタ１３、液晶
部１４、トランジスタ部１５、ガラス基板１２ｂ、偏光
板１１ｂ、バックライト部１６が積層配置され、そのサ
イドに信号処理回路等が実装されたプリント基板１７が
ＴＣＰ１８を介して接続され、全体がフレーム１９に覆
われた構成となっている。
レイの実施形態を示す概略斜視図である。このフラット
パネルディスプレイ１０は、アクティブマトリクス方式
のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏ
ｒ）液晶ディスプレイであり、表示面側から順に偏光板
１１ａ、ガラス基板１２ａ、カラーフィルタ１３、液晶
部１４、トランジスタ部１５、ガラス基板１２ｂ、偏光
板１１ｂ、バックライト部１６が積層配置され、そのサ
イドに信号処理回路等が実装されたプリント基板１７が
ＴＣＰ１８を介して接続され、全体がフレーム１９に覆
われた構成となっている。
【００１０】このような構成のフラットパネルディスプ
レイ１０は、２枚の透明なガラス基板１２ａ、１２ｂの
間に挟まれた液晶部１４に電圧をかけて液晶の分子の向
きを変え、液晶を透過する光の振動方向を変化させてそ
の光を偏光板１１ａで透過・遮蔽することにより画像等
を表示するようになっている。
レイ１０は、２枚の透明なガラス基板１２ａ、１２ｂの
間に挟まれた液晶部１４に電圧をかけて液晶の分子の向
きを変え、液晶を透過する光の振動方向を変化させてそ
の光を偏光板１１ａで透過・遮蔽することにより画像等
を表示するようになっている。
【００１１】図２は、上記カラーフィルタ１３の詳細を
示す断面側面図である。このカラーフィルタ１３は、カ
ラー化のための色分解フィルタであり、透明なガラス基
板１３ａ上に、ブラックマトリクス１３ｂとＲＧＢ（Ｒ
ｅｄ Ｇｒｅｅｎ Ｂｌｕｅ）のカラーフィルタ層１３
ｃが形成され、それらの上に保護膜１３ｄが成膜された
構成となっている。
示す断面側面図である。このカラーフィルタ１３は、カ
ラー化のための色分解フィルタであり、透明なガラス基
板１３ａ上に、ブラックマトリクス１３ｂとＲＧＢ（Ｒ
ｅｄ Ｇｒｅｅｎ Ｂｌｕｅ）のカラーフィルタ層１３
ｃが形成され、それらの上に保護膜１３ｄが成膜された
構成となっている。
【００１２】このような構成のカラーフィルタ１３の製
造方法について、図３のフローチャートを参照して説明
する。
造方法について、図３のフローチャートを参照して説明
する。
【００１３】先ず、ガラス基板１３ａを水と界面活性剤
を使用してブラシ洗浄し、純水を使用して十分にリンス
する（ＳＴＰ１）。そして、洗浄及びリンスしたガラス
基板１３ａをホットプレートにより１５０°Ｃ〜２００
°Ｃで乾燥させる（ＳＴＰ２）。
を使用してブラシ洗浄し、純水を使用して十分にリンス
する（ＳＴＰ１）。そして、洗浄及びリンスしたガラス
基板１３ａをホットプレートにより１５０°Ｃ〜２００
°Ｃで乾燥させる（ＳＴＰ２）。
【００１４】次に、乾燥させたガラス基板１３ａ上にブ
ラックマトリクス１３ｂとなるレジストをダイコータに
より乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍ（例えば固型分濃度
２％の塗布液の塗布厚さでは１２．５μｍ〜２５μｍ）
となるように塗布する（ＳＴＰ３）。ここで、ブラック
マトリクス１３ｂとなるレジストとしては、黒顔料分散
型レジスト、例えばカーボン微粒子等を分散させたレジ
スト（フジフィルム・オーリン（株）製：ＣＯＬＯＲ
ＭＯＳＡＩＣ ＣＫ）が用いられる。
ラックマトリクス１３ｂとなるレジストをダイコータに
より乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍ（例えば固型分濃度
２％の塗布液の塗布厚さでは１２．５μｍ〜２５μｍ）
となるように塗布する（ＳＴＰ３）。ここで、ブラック
マトリクス１３ｂとなるレジストとしては、黒顔料分散
型レジスト、例えばカーボン微粒子等を分散させたレジ
スト（フジフィルム・オーリン（株）製：ＣＯＬＯＲ
ＭＯＳＡＩＣ ＣＫ）が用いられる。
【００１５】また、スリット状ノズルを持つダイコータ
としては、例えば図４に示すような構成の装置が用いら
れる。このダイコータ１００は、レジストを吐出する塗
液吐出部１１０及び塗液貯留部１２０と、ガラス基板１
３ａを固定する基材載置部１３０、基材吸引部１４０及
び基材駆動部１５０と、装置全体を駆動制御する制御部
１６０で概略構成されている。
としては、例えば図４に示すような構成の装置が用いら
れる。このダイコータ１００は、レジストを吐出する塗
液吐出部１１０及び塗液貯留部１２０と、ガラス基板１
３ａを固定する基材載置部１３０、基材吸引部１４０及
び基材駆動部１５０と、装置全体を駆動制御する制御部
１６０で概略構成されている。
【００１６】塗液吐出部１１０は、レジストをガラス基
板１３ａ上に吐出するスリットであり、ブレード状のフ
ロントリップ１１１とブレード状のリアリップ１１２
が、ブレード状のシム１１３を介して接合された構成と
なっている。フロントリップ１１１とリアリップ１１２
の下端は、楔状に形成されている。そして、シム１１３
によりスリット１１４が形成されている。
板１３ａ上に吐出するスリットであり、ブレード状のフ
ロントリップ１１１とブレード状のリアリップ１１２
が、ブレード状のシム１１３を介して接合された構成と
なっている。フロントリップ１１１とリアリップ１１２
の下端は、楔状に形成されている。そして、シム１１３
によりスリット１１４が形成されている。
【００１７】フロントリップ１１１におけるリアリップ
１１２との対向面には、凹状のマニホールド１１１ａが
形成されている。そして、このマニホールド１１１ａの
内面からフロントリップ１１１の上面にかけて、塗液供
給孔１１１ｂが設けられている。
１１２との対向面には、凹状のマニホールド１１１ａが
形成されている。そして、このマニホールド１１１ａの
内面からフロントリップ１１１の上面にかけて、塗液供
給孔１１１ｂが設けられている。
【００１８】塗液貯留部１２０は、レジストを塗液吐出
部１１０に圧送する加圧タンクであり、塗液吐出部１１
０の塗液供給孔１１１ｂと配管１２１を介して接続され
ている。基材載置部１３０は、ガラス基板１３ａを載置
して固定するテーブルであり、上面には吸引孔が設けら
れている。基材吸引部１４０は、基材載置部１３０上に
載置されたガラス基板１３ａを真空吸着する真空ポンプ
であり、基材載置部１３０の吸引孔と配管１４１を介し
て接続されている。
部１１０に圧送する加圧タンクであり、塗液吐出部１１
０の塗液供給孔１１１ｂと配管１２１を介して接続され
ている。基材載置部１３０は、ガラス基板１３ａを載置
して固定するテーブルであり、上面には吸引孔が設けら
れている。基材吸引部１４０は、基材載置部１３０上に
載置されたガラス基板１３ａを真空吸着する真空ポンプ
であり、基材載置部１３０の吸引孔と配管１４１を介し
て接続されている。
【００１９】基材駆動部１５０は、基材載置部１３０上
に載置・固定されたガラス基板１３ａを図示矢印ａ方向
に直線移動させるモータとボールネジ・ナットあるいは
エアシリンダもしくはオイルシリンダであり、基材載置
部１３０に連結されている。制御部１６０は、装置全体
を駆動制御するコンピュータであり、塗液貯留部１２
０、基材吸引部１４０及び基材駆動部１５０と接続され
ている。
に載置・固定されたガラス基板１３ａを図示矢印ａ方向
に直線移動させるモータとボールネジ・ナットあるいは
エアシリンダもしくはオイルシリンダであり、基材載置
部１３０に連結されている。制御部１６０は、装置全体
を駆動制御するコンピュータであり、塗液貯留部１２
０、基材吸引部１４０及び基材駆動部１５０と接続され
ている。
【００２０】このような構成において、その動作例を説
明する。ガラス基板１３ａが、作業者による手動操作あ
るいはロボットによる自動操作により基材載置部１３０
上の所定位置に載置されると、制御部１６０は、基材吸
引部１４０を駆動して配管１４１内を真空吸引させ、ガ
ラス基板１３ａを基材載置部１３０の吸引孔で吸着・固
定させる。このときのガラス基板１３ａの上面と塗液吐
出部１１０のスリット１１４とのギャップは、例えば５
０μｍ〜３００μｍに調整される。
明する。ガラス基板１３ａが、作業者による手動操作あ
るいはロボットによる自動操作により基材載置部１３０
上の所定位置に載置されると、制御部１６０は、基材吸
引部１４０を駆動して配管１４１内を真空吸引させ、ガ
ラス基板１３ａを基材載置部１３０の吸引孔で吸着・固
定させる。このときのガラス基板１３ａの上面と塗液吐
出部１１０のスリット１１４とのギャップは、例えば５
０μｍ〜３００μｍに調整される。
【００２１】続いて、制御部１６０は、塗液貯留部１２
０を駆動して内部に貯留されているレジストを配管１２
１から塗液吐出部１１０の塗液供給用孔１１１ｂを介し
てマニホールド１１１ａ内に圧送させ、スリット１１４
から連続的に吐出させる。同時に、制御部１６０は、基
材駆動部１５０を駆動して基材載置部１３０を一方向に
移動させることにより、ガラス基板１３ａと塗液吐出部
１１０とを例えば１０ｍｍ／ｓｅｃ〜５０ｍｍ／ｓｅｃ
で相対移動させ、図５に示すようにレジストＲをガラス
基板１３ａ上に乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍ（塗布厚
さｄでは１２．５μｍ〜２５μｍ）となるように塗布さ
せる。
０を駆動して内部に貯留されているレジストを配管１２
１から塗液吐出部１１０の塗液供給用孔１１１ｂを介し
てマニホールド１１１ａ内に圧送させ、スリット１１４
から連続的に吐出させる。同時に、制御部１６０は、基
材駆動部１５０を駆動して基材載置部１３０を一方向に
移動させることにより、ガラス基板１３ａと塗液吐出部
１１０とを例えば１０ｍｍ／ｓｅｃ〜５０ｍｍ／ｓｅｃ
で相対移動させ、図５に示すようにレジストＲをガラス
基板１３ａ上に乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍ（塗布厚
さｄでは１２．５μｍ〜２５μｍ）となるように塗布さ
せる。
【００２２】ここで、レジストの乾燥膜厚を２．５μｍ
〜５μｍ（塗布厚さでは１２．５μｍ〜２５μｍ）とし
た理由は、図６のレジストの乾燥膜厚と塗布したレジス
ト上に発生するスジ状のムラの縦筋本数との関係に示す
ように、レジストの乾燥膜厚が２．５μｍ未満ではスジ
状のムラは確実に入るが、レジストの乾燥膜厚が２．５
μｍに近づくにつれてスジ状のムラは急激に減少し、レ
ジストの乾燥膜厚が２．５μｍ以上になるとスジ状のム
ラは略０になるからである。
〜５μｍ（塗布厚さでは１２．５μｍ〜２５μｍ）とし
た理由は、図６のレジストの乾燥膜厚と塗布したレジス
ト上に発生するスジ状のムラの縦筋本数との関係に示す
ように、レジストの乾燥膜厚が２．５μｍ未満ではスジ
状のムラは確実に入るが、レジストの乾燥膜厚が２．５
μｍに近づくにつれてスジ状のムラは急激に減少し、レ
ジストの乾燥膜厚が２．５μｍ以上になるとスジ状のム
ラは略０になるからである。
【００２３】また、レジストの乾燥膜厚が５μｍを超え
ると、微細なパターンの形成が困難になったり、所望の
特性を得ることが困難になるからである。したがって、
レジストをガラス基板１３ａ上に乾燥膜厚が２．５μｍ
〜５μｍ（塗布厚さでは１２．５μｍ〜２５μｍ）とな
るように塗布することにより、スジ状のムラのない良好
なユニフォミティの薄膜を成膜することができる。
ると、微細なパターンの形成が困難になったり、所望の
特性を得ることが困難になるからである。したがって、
レジストをガラス基板１３ａ上に乾燥膜厚が２．５μｍ
〜５μｍ（塗布厚さでは１２．５μｍ〜２５μｍ）とな
るように塗布することにより、スジ状のムラのない良好
なユニフォミティの薄膜を成膜することができる。
【００２４】次に、レジストを塗布したガラス基板１３
ａの周辺部の不要のレジストをエッジ洗浄により除去
し、洗浄したレジスト塗布済のガラス基板１３ａを減圧
乾燥する（ＳＴＰ４）。尚、この減圧乾燥の代わりにホ
ットプレートによる乾燥や、減圧乾燥とホットプレート
による乾燥を組み合わせた乾燥でもよい。続いて、乾燥
させたガラス基板１３ａ上のレジストをホットプレート
により１１０°Ｃ〜１２０°Ｃで３０ｓｅｃ〜６０ｓｅ
ｃプリベークする（ＳＴＰ５）。
ａの周辺部の不要のレジストをエッジ洗浄により除去
し、洗浄したレジスト塗布済のガラス基板１３ａを減圧
乾燥する（ＳＴＰ４）。尚、この減圧乾燥の代わりにホ
ットプレートによる乾燥や、減圧乾燥とホットプレート
による乾燥を組み合わせた乾燥でもよい。続いて、乾燥
させたガラス基板１３ａ上のレジストをホットプレート
により１１０°Ｃ〜１２０°Ｃで３０ｓｅｃ〜６０ｓｅ
ｃプリベークする（ＳＴＰ５）。
【００２５】次に、プリベークしたガラス基板１３ａ上
のレジストに対して、プロキシミティ露光機により１０
０ｍｍＪ／ｃｍ2 〜１５０ｍｍＪ／ｃｍ2 のＵＶ（Ｕｌ
ｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）光をブラックマトリクス１３ｂ
のパターンが形成されているマスクを介して照射し一括
露光する（ＳＴＰ６）。尚、プロキシミティ露光機の代
わりにステッパを用いてもよい。
のレジストに対して、プロキシミティ露光機により１０
０ｍｍＪ／ｃｍ2 〜１５０ｍｍＪ／ｃｍ2 のＵＶ（Ｕｌ
ｔｒａ Ｖｉｏｌｅｔ）光をブラックマトリクス１３ｂ
のパターンが形成されているマスクを介して照射し一括
露光する（ＳＴＰ６）。尚、プロキシミティ露光機の代
わりにステッパを用いてもよい。
【００２６】そして、露光したガラス基板１３ａ上のレ
ジストであるカーボン微粒子等を分散させたレジスト
（フジフィルム・オーリン（株）製：ＣＯＬＯＲ ＭＯ
ＳＡＩＣ ＣＫ）を専用の現像液（フジフィルム・オー
リン（株）製：ＦＨＤ−５）により２６°Ｃで６０ｓｅ
ｃスプレー現像する（ＳＴＰ７）。そして、現像したガ
ラス基板１３ａ上のレジストを純水を使用して十分にス
プレーしてリンスし、現像液やレジスト残さを除去する
（ＳＴＰ８）。
ジストであるカーボン微粒子等を分散させたレジスト
（フジフィルム・オーリン（株）製：ＣＯＬＯＲ ＭＯ
ＳＡＩＣ ＣＫ）を専用の現像液（フジフィルム・オー
リン（株）製：ＦＨＤ−５）により２６°Ｃで６０ｓｅ
ｃスプレー現像する（ＳＴＰ７）。そして、現像したガ
ラス基板１３ａ上のレジストを純水を使用して十分にス
プレーしてリンスし、現像液やレジスト残さを除去する
（ＳＴＰ８）。
【００２７】次に、リンスしたガラス基板１３ａ上のレ
ジストを２００°Ｃ〜２３０°Ｃで６０ｍｉｎポストベ
ークして、十分に硬化させると共に不要な成分を蒸発さ
せて安定化させる（ＳＴＰ９）。以上の工程により、ブ
ラックマトリクス１３ｂを形成することができる。続い
て、同一の工程（ＳＴＰ３〜ＳＴＰ９）を繰り返すこと
により、カラーフィルタ層１３ｃをＲ、Ｇ、Ｂと順次形
成する。
ジストを２００°Ｃ〜２３０°Ｃで６０ｍｉｎポストベ
ークして、十分に硬化させると共に不要な成分を蒸発さ
せて安定化させる（ＳＴＰ９）。以上の工程により、ブ
ラックマトリクス１３ｂを形成することができる。続い
て、同一の工程（ＳＴＰ３〜ＳＴＰ９）を繰り返すこと
により、カラーフィルタ層１３ｃをＲ、Ｇ、Ｂと順次形
成する。
【００２８】尚、カラーフィルタ層１３ｃとなるレジス
トとしては、カラー顔料分散型レジスト、例えばカラー
顔料微粒子等を分散させたレジスト（フジフィルム・オ
ーリン（株）製：ＣＯＬＯＲ ＭＯＳＡＩＣ ８０００
シリーズあるいは東京応化工業（株）製：ＣＦＲＰシリ
ーズ）が用いられる。そして、このカラー顔料分散型レ
ジストの現像液としては、専用の現像液（フジフィルム
・オーリン（株）製：ＣＤ−２０００ ２０％）が用い
られる。
トとしては、カラー顔料分散型レジスト、例えばカラー
顔料微粒子等を分散させたレジスト（フジフィルム・オ
ーリン（株）製：ＣＯＬＯＲ ＭＯＳＡＩＣ ８０００
シリーズあるいは東京応化工業（株）製：ＣＦＲＰシリ
ーズ）が用いられる。そして、このカラー顔料分散型レ
ジストの現像液としては、専用の現像液（フジフィルム
・オーリン（株）製：ＣＤ−２０００ ２０％）が用い
られる。
【００２９】以上の工程により、ガラス基板１３ａ上に
ブラックマトリクス１３ｂ及びカラーフィルタ層１３ｃ
を形成したら（ＳＴＰ１０）、ガラス基板１３ａ、ブラ
ックマトリクス１３ｂ及びカラーフィルタ層１３ｃ上に
保護膜１３ｄを成膜し（ＳＴＰ１１）、平坦化剤を塗布
して平坦化処理する（ＳＴＰ１２）。そして、導電性の
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）をスパッ
タリングにより成膜して透明電極層を形成し（ＳＴＰ１
３）、ポリイミドを成膜して配向膜を形成する（ＳＴＰ
１４）。以上の工程により、カラーフィルタ１３が完成
する。
ブラックマトリクス１３ｂ及びカラーフィルタ層１３ｃ
を形成したら（ＳＴＰ１０）、ガラス基板１３ａ、ブラ
ックマトリクス１３ｂ及びカラーフィルタ層１３ｃ上に
保護膜１３ｄを成膜し（ＳＴＰ１１）、平坦化剤を塗布
して平坦化処理する（ＳＴＰ１２）。そして、導電性の
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）をスパッ
タリングにより成膜して透明電極層を形成し（ＳＴＰ１
３）、ポリイミドを成膜して配向膜を形成する（ＳＴＰ
１４）。以上の工程により、カラーフィルタ１３が完成
する。
【００３０】尚、上述した実施形態では、カラーフィル
タ１３のブラックマトリクス１３ｂ及びカラーフィルタ
層１３ｃを形成する場合に使用する黒顔料分散型レジス
ト及びカラー顔料分散型レジストの塗布について説明し
たが、これらに限られるものではなく、パターニングを
形成するためのレジストの塗布にも同様に適用すること
ができる。
タ１３のブラックマトリクス１３ｂ及びカラーフィルタ
層１３ｃを形成する場合に使用する黒顔料分散型レジス
ト及びカラー顔料分散型レジストの塗布について説明し
たが、これらに限られるものではなく、パターニングを
形成するためのレジストの塗布にも同様に適用すること
ができる。
【００３１】例えば、Ｃｒ法ブラックマトリクス用のエ
ッチングレジストとして使用するフォトレジスト（東京
応化工業（株）製：ＦＨ−２４０６）の塗布に適用する
ことにより、良好なユニフォミティのフォトレジストの
薄膜を成膜することができるので、従来フォトレジスト
の膜厚の差による線幅のバラツキによりＣｒ膜のエッチ
ング時の線幅に生じていたバラツキを抑えることができ
る。
ッチングレジストとして使用するフォトレジスト（東京
応化工業（株）製：ＦＨ−２４０６）の塗布に適用する
ことにより、良好なユニフォミティのフォトレジストの
薄膜を成膜することができるので、従来フォトレジスト
の膜厚の差による線幅のバラツキによりＣｒ膜のエッチ
ング時の線幅に生じていたバラツキを抑えることができ
る。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
低コストなフラットパネルディスプレイ及びその製造方
法並びにカラーフィルタを提供することができる。
低コストなフラットパネルディスプレイ及びその製造方
法並びにカラーフィルタを提供することができる。
【図１】本発明のフラットパネルディスプレイの実施形
態を示す概略斜視図。
態を示す概略斜視図。
【図２】図１のフラットパネルディスプレイのカラーフ
ィルタの詳細を示す断面側面図。
ィルタの詳細を示す断面側面図。
【図３】図２のカラーフィルタの製造方法を説明するた
めのフローチャート。
めのフローチャート。
【図４】図２のカラーフィルタを製造する際に用いるダ
イコータを示す構成図。
イコータを示す構成図。
【図５】図４のダイコータによる塗布状態を示す斜視
図。
図。
【図６】レジストの乾燥膜厚と塗布したレジスト上に発
生するスジ状のムラの縦筋本数との関係を示す図。
生するスジ状のムラの縦筋本数との関係を示す図。
１０・・・フラットパネルディスプレイ、１１ａ、１１
ｂ・・・偏光板、１２ａ、１２ｂ・・・ガラス基板、１
３・・・カラーフィルタ、１３ａ・・・ガラス基板、１
３ｂ・・・ブラックマトリクス、１３ｃ・・・カラーフ
ィルタ層、１３ｄ・・・保護膜、１４・・・液晶部、１
５・・・トランジスタ部、１６・・・バックライト部、
１７・・・プリント基板、１８・・・ＴＣＰ、１９・・
・フレーム、１００・・・ダイコータ、１１０・・・塗
液吐出部、１１１・・・フロントリップ、１１１ａ・・
・マニホールド、１１１ｂ・・・塗液供給孔、１１２・
・・リアリップ、１１３・・・シム、１１４・・・スリ
ット、１１５・・・親油化処理膜、１２０・・・塗液貯
留部、１２１、１４１・・・配管、１３０・・・基材載
置部、１４０・・・基材吸引部、１５０・・・基材駆動
部、１６０・・・制御部
ｂ・・・偏光板、１２ａ、１２ｂ・・・ガラス基板、１
３・・・カラーフィルタ、１３ａ・・・ガラス基板、１
３ｂ・・・ブラックマトリクス、１３ｃ・・・カラーフ
ィルタ層、１３ｄ・・・保護膜、１４・・・液晶部、１
５・・・トランジスタ部、１６・・・バックライト部、
１７・・・プリント基板、１８・・・ＴＣＰ、１９・・
・フレーム、１００・・・ダイコータ、１１０・・・塗
液吐出部、１１１・・・フロントリップ、１１１ａ・・
・マニホールド、１１１ｂ・・・塗液供給孔、１１２・
・・リアリップ、１１３・・・シム、１１４・・・スリ
ット、１１５・・・親油化処理膜、１２０・・・塗液貯
留部、１２１、１４１・・・配管、１３０・・・基材載
置部、１４０・・・基材吸引部、１５０・・・基材駆動
部、１６０・・・制御部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｂ 33/12 Ｈ０５Ｂ 33/12 Ｅ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB13 AC01 BJ00 CC12 DA19 EA04 2H048 AA06 AA12 BA02 BA45 BA48 BB41 BB42 3K007 AB04 BA06 CA01 FA01 4D075 AC04 AC92 DA06 DC21 5G435 AA00 BB12 BB15 CC09 EE25 EE36 EE40 FF05 GG12 GG22 KK07
Claims (3)
- 【請求項１】 フラットパネルディスプレイにおいて、 黒及びカラー顔料分散型レジストの乾燥膜厚が２．５μ
ｍ〜５μｍとなるように、前記黒及びカラー顔料分散型
レジストをスリットから吐出させて塗布することにより
作成されているカラーフィルタを備えていることを特徴
とするフラットパネルディスプレイ。 - 【請求項２】 フラットパネルディスプレイを製造する
方法において、 カラーフィルタやパターニングを形成するためのレジス
トの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍとなるように、前記
レジストをスリットから吐出させて塗布する工程を含む
ことを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方
法。 - 【請求項３】 フラットパネルディスプレイのカラーフ
ィルタにおいて、 前記カラーフィルタが、黒及びカラー顔料分散型レジス
トの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍとなるように、前記
黒及びカラー顔料分散型レジストをスリットから吐出さ
せて塗布することにより作成されていることを特徴とす
るカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000006176A JP2001195004A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | フラットパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000006176A JP2001195004A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | フラットパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001195004A true JP2001195004A (ja) | 2001-07-19 |
Family
ID=18534749
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000006176A Withdrawn JP2001195004A (ja) | 2000-01-11 | 2000-01-11 | フラットパネルディスプレイ及びその製造方法並びにカラーフィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001195004A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004085773A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
| JP2007287537A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
| US7839063B2 (en) | 2003-12-26 | 2010-11-23 | Sony Corporation | Display panel and display device having color filter elements with color filter protective layer |
| JP2013020744A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 |
-
2000
- 2000-01-11 JP JP2000006176A patent/JP2001195004A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004085773A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
| US7839063B2 (en) | 2003-12-26 | 2010-11-23 | Sony Corporation | Display panel and display device having color filter elements with color filter protective layer |
| JP2007287537A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
| JP4736923B2 (ja) * | 2006-04-19 | 2011-07-27 | 大日本印刷株式会社 | エレクトロルミネッセント素子の製造方法 |
| JP2013020744A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置及び電子機器 |
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