JP2009123857A - 着色フォトレジストの塗布方法及び塗布装置 - Google Patents

Abstract

【課題】スリットノズルを用い真空吸着されたガラス基板上に着色フォトレジストを塗布しても、開口部での吸引に起因した塗布膜の膜厚差が生じず、外観（濃度）ムラが観視されない着色フォトレジストの塗布方法、塗布装置を提供する。
【解決手段】スリットノズル２３がバキュームテーブル３１の開口部３４上方に達する直前に開口部からの吸引を中断し開口部での真空吸着を解除し、開口部上方を通過した後に開口部からの吸引を再開して開口部での真空吸着を継続する。スリットノズルがバキュームテーブルの開口部上方に達する直前に開口部からの吸引を中断し、開口部上方を通過した後に開口部からの吸引を再開する機能を具備する。
【選択図】図７

Description

本発明は、基板上に着色フォトレジストを塗布する塗布方法及び塗布装置に関するものであり、特に、塗布ステージのバキュームテーブルの開口部に起因した外観（濃度）ムラが発生しない着色フォトレジストの塗布方法及び塗布装置に関する。

液晶表示装置やプラズマディスプレイパネルにおいて、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、画素として形成されて使用されるものである。表示装置用カラーフィルタの画素を形成する方法として、これまで実用されてきた方法には、印刷法、フォトリソグラフィ法などがあげられる。

例えば、顔料分散法は、このフォトリソグラフィー法の一方法であるが、この顔料分散法において使用するカラーフィルタ形成用の着色フォトレジストは、ガラス基板上に塗布され、この塗膜にフォトマスクを介してＵＶ露光、現像処理がおこなわれ表示装置用カラーフィルタの着色画素として形成される。

従来、液晶表示装置の製造プロセスにおいて、着色フォトレジストなどの塗布装置としては、ノズルからガラス基板の中央部に塗布液を滴下した後、ガラス基板を回転させ塗布液を延展させるスピンコータが多く用いられてきた。
しかし、カラーフィルタを製造するガラス基板の大型化に伴い、例えば、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度以上の大きさのガラス基板においては、着色フォトレジストの塗布装置として、スリットコータとスピンコータを併用したコータを用いる方法、すなわち、ガラス基板上に着色フォトレジストをスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、塗布膜が形成されたガラス基板をスピンコータで回転し塗布膜を延展させ塗膜とする塗布装置が採用されはじめた。

この塗布装置は、ガラス基板の大型化に伴い顕著に現れてくる上記スピンコータの弱点、すなわち、ガラス基板の中央部の塗布膜の膜厚と端部の塗布膜の膜厚の膜厚差を縮小させ、また、着色フォトレジストの利用率を向上させることを狙いとしたものである。この塗布装置により、ガラス基板が大型でも膜厚差の縮小した塗布膜が得られ、また、着色フォトレジストの利用率は大幅に改善された。
しかし、この塗布装置では、大型のガラス基板を回転させるモーターなどの機械的制約から、装置を更に大型化するのは難しい。

これらのコータに代わって、精度の高いスリットコータの実用が進んでいる。
スリットコータは、ガラス基板を載置した定盤を、或いは塗布ヘッドを水平移動させながらスリットノズルから塗布液をガラス基板に塗布する方法であり、１．５ｍ×１．８ｍ程度以上の大きさのガラス基板にも対応ができるようになった。

図１は、スリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。また、図２は、図１に示すスリットコータの側面図である。
図１、及び図２に示すように、模式的に示すスリットコータ（２０）は、フレーム（２４）と塗布ステージ（３０）、スリットノズル（２３）、及び着色フォトレジストの吐出調整機構（２５）で構成されている。
スリットノズル（２３）は塗布ステージ（３０）右方、フレーム（２４）上方の待機位置
（Ｐ１）に設けられ、ガラス基板（２２）上に着色フォトレジストを塗布する際には矢印で示すように、スリットノズル（２３）は左方に移動し、塗布ステージ（３０）上に載置・固定されたガラス基板（２２）上に着色フォトレジストを塗布するようになっている。

このようなスリットコータ（２０）の動作は、先ず、第一移載機構（図示せず）が洗浄工程から搬送されたガラス基板（２２）を白太矢印（２６）で示すように、塗布ステージ（３０）上に載置する。ガラス基板（２２）は真空吸引によって塗布ステージ（３０）上に固定される。
次に、塗布ステージ（３０）右方、フレーム（２４）上方の待機位置（Ｐ１）のスリットノズル（２３）が、矢印で示すように、塗布ステージ（３０）上に固定されたガラス基板（２２）上を右方から左方へと移動しながらガラス基板（２２）上に着色フォトレジストを塗布する。

塗布が終了するとスリットノズル（２３）は待機位置（Ｐ１）へ戻る。スリットノズル（２３）が待機位置（Ｐ１）へ戻ると第二移載機構（図示せず）が、白太矢印（２７）で示すように、ガラス基板（２２）を次工程へと搬出する。
このスリットノズルの待機位置（Ｐ１）にて、スリットノズル（２３）の洗浄など、着色フォトレジストの吐出調整が行われる。

図３は、図１に示す塗布ステージ（３０）の一例の平面図である。図３は、ガラス基板（２２）が載置されていない状態であり、リフトピン（３３）の位置が表されている。また、図４は、図３のＸ−Ｘ線での断面図である。図４は、第一移載機構によってガラス基板（２２）がリフトピン（３３）上に受け渡された段階を示したものである。塗布ステージ（３０）は、バキュームテーブル（３１）、筐体（３２）、リフトピン（３３）で構成されている。

ガラス基板（２２）は、搬送されてきたコンベアから第一移載機構によって、底面を複数本のアーム（図示せず）で支えられた状態でバキュームテーブル（３１）上に載置されるが、そのままではバキュームテーブル（３１）上に載置後、アームを退避することができないので、一旦、バキュームテーブル（３１）の上面から突出した状態でアームと干渉しない位置に設けられた複数のリフトピン（３３）上に受け渡され、その後にアームが退避する。

リフトピン（３３）は、バキュームテーブル（３１）に対し垂直方向に昇降自在であり、ガラス基板（２２）が受け渡された後に下降し、ガラス基板（２２）はバキュームテーブル（３１）上に載置される。バキュームテーブル（３１）に設けられたリフトピン（３３）が昇降する開口部（３４）は、ガラス基板（２２）がバキュームテーブル（３１）上に載置された後に、ガラス基板（２２）とバキュームテーブル（３１）の間の空気を吸引する吸着孔を兼ねている。

また、塗布ステージ（３０）の筐体（３２）は、中空部（３５）を有し、上部にバキュームテーブル（３１）を備え、下部には排気口（３６）が設けられている。バキュームテーブル（３１）上のガラス基板（２２）を真空吸着する際には、排気口（３６）からの排気により行う。
ガラス基板（２２）の真空吸着は、排気口（３６）からの排気により筐体（３２）内の中空部（３５）の空気が、続いてバキュームテーブル（３１）の全ての開口部（３４）から一斉に空気が吸引されて行われる。つまり、ガラス基板（２２）の吸着領域は全面であり、全ての開口部（３４）からガラス基板（２２）が一斉に吸着されるようになっている。

図５（ａ）、（ｂ）は、上記塗布ステージ（３０）を用いた際の、ガラス基板（２２）
をバキュームテーブル（３１）上に載置する動作を説明する断面図である。図５は、図４におけるバキュームテーブル（３１）、リフトピン（３３）、ガラス基板（２２）の一部分を拡大して示したものである。符号（Ｄ１）は、リフトピン（３３）がバキュームテーブル（３１）の上面から突出した高さを表している。

図５（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板（２２）がリフトピン（３３）上に受け渡された状態で、リフトピン（３３）を下降させ、ガラス基板（２２）をバキュームテーブル（３１）上に載置し、矢印（３８）で示すように、開口部（吸着孔）（３４）から空気を吸引し、ガラス基板（２２）をバキュームテーブル（３１）に密着させる。
着色フォトレジストの塗布は、ガラス基板（２２）をバキュームテーブル（３１）に密着させた状態で行う。

しかしながら、上記のようにガラス基板（２２）をバキュームテーブル（３１）に密着させた状態で着色フォトレジストの塗布を行うと、着色画素が形成されたカラーフィルタには、外観（濃度）ムラが発生するといった問題がある。

図５（ｂ）に示すように、開口部（吸着孔）（３４）から空気を吸引し、ガラス基板（２２）を一斉に密着させると、符号（Ａ）で示すバキュームテーブル（３１）に接触した部分のガラス基板（２２）は、表面、裏面共に平坦な状態に保たれる。しかし、開口部（吸着孔）（３４）の部分では、微小ではあるが吸引によって凹部（２８）が生じる。
図５（ｃ）は、ガラス基板（２２）上に着色フォトレジストが塗布された状態を表した断面図である。図５（ｃ）に示すように、開口部（吸着孔）（３４）の位置に対応したガラス基板（２２）の表面上には凹部（２８）がある状態で、ガラス基板（２２）上に着色フォトレジストの塗布が行われるので、バキュームテーブル（３１）に接触した部分の塗布膜の膜厚と、接触していない部分の塗布膜の膜厚との間には膜厚差（ΔＴ）が生じることになる。

具体的には、例えば、厚み０．７ｍｍ程度のガラス基板においては、上記開口部（吸着孔）（３４）の位置に対応したガラス基板（２２）上の塗布膜の膜厚は、塗布膜の膜厚が２．０μｍ程度の際に、符号（Ａ）で示すバキュームテーブル（３１）に接触した部分のガラス基板（２２）上の塗布膜の膜厚よりも、−０．０３μｍ程度薄いものとなる。
表示装置に用いるカラーフィルタの着色画素を形成する際に用いる着色フォトレジストの塗布膜は、着色画素として形成した後の着色画素そのものが表示装置用カラーフィルタの性能であり、上記−０．０３μｍ程度の膜厚差であってもカラーフィルタでは外観（濃度）ムラとして観視される。
このような外観（濃度）ムラは解消するようにと強く要望されている。

前記１．５ｍ×１．８ｍ程度の大きさのガラス基板に、スリットコータを用いて色材を含む膜を均一に形成する技法として、例えば、特開２００４−３５４６０１号公報には、ムラ・スジのない厚さの均一な膜を形成することのできる感光性組成物及びコーティング方法が開示されている。
この感光性組成物は、沸点１００℃以上の溶剤を三種以上含み、溶剤を三種以上含むことで表面張力を調節して、感光性組成物がガラス基板上でレベリングし易くすることが出来るようにしたものである。

また、上記三種以上の溶剤の沸点が１００℃以上であることで、感光性組成物をガラス基板にコーティングするとき、感光性組成物をガラス基板上で十分にレベリングさせ、膜を形成させてから溶剤を揮発させることができる。これらのことにより、溶剤の揮発後に残った不揮発性成分により、ムラ・スジを有さない厚さの均一な膜を形成することが出来るとしたものである。
また、上記公報におけるコーティング方法は、この感光性組成物をガラス基板にコーティングする際に、スリットコータを用いることを特徴としている。

また、特開２０００−１６７４７６号公報には、スリットコータとスピンコータを併用したコータを用い、着色被膜を均一に形成する技法が開示されている。
この技法は、ガラス基板上に着色フォトレジストなどの着色塗布液をスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、形成した塗布膜をスピンコータで平滑化・乾燥させガラス基板上へ着色被膜を形成する際に、スジムラや段ムラを原因としたムラは観視されず、着色被膜の表面平滑性の優れた、良好な表示装置用カラーフィルタを製造することのできる着色被膜の形成方法である。

この技法は、粘度５〜２０ｃｐｓの着色塗布液を溶剤乾燥前で２０〜５０μｍ厚に水平状態のガラス基板上にスリットコータで塗布して塗布膜を形成し、溶剤乾燥後の膜厚が１〜２μｍになるまでガラス基板を水平状態にてスピンコータで回転させ続けて、この塗布膜を平滑化・乾燥させ着色被膜を形成するようにしたものである。

しかし、上記特開２００４−３５４６０１号公報及び特開２０００−１６７４７６号公報に開示されている技法は、いずれも、本発明におけるように、バキュームテーブルの開口部の位置に対応してガラス基板上には局部的な凹みがある状態で、ガラス基板上に着色フォトレジストの塗布が行われるために、バキュームテーブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、接触していない部分の塗布膜の膜厚との間には膜厚差が生じるといった問題を解決するものではない。
特開２００４−２５００３号公報 特開２００４−３５４６０１号公報 特開２０００−１６７４７６号公報

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、スリットノズルを用い、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態でガラス基板上に着色フォトレジストを塗布しても、ガラス基板がバキュームテーブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、バキュームテーブルに接触していない開口部の位置に対応した部分の塗布膜の膜厚との間に膜厚差が生じることのない、すなわち、着色画素が形成されたカラーフィルタには開口部での吸引に起因した外観（濃度）ムラが観視されることのない着色フォトレジストの塗布方法を提供することを課題とするものである。

また、本発明は、スリットノズルを用い、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態でガラス基板上に着色フォトレジストを塗布しても、ガラス基板がバキュームテーブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、バキュームテーブルに接触していない開口部の位置に対応した部分の塗布膜の膜厚との間に膜厚差が生じることのない、すなわち、着色画素が形成されたカラーフィルタには開口部での吸引に起因した外観（濃度）ムラが観視されることのない着色フォトレジストの塗布装置を提供することを課題とする。

本発明は、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態で、スリットノズルを移動させながら該ガラス基板上に着色フォトレジストを塗布する着色フ
ォトレジストの塗布方法において、
前記スリットノズルが、バキュームテーブルの開口部上方に達する直前に該開口部からの吸引を中断して、該開口部での真空吸着を解除し、前記スリットノズルが、該開口部上方を通過した後に該開口部からの吸引を再開して、該開口部での真空吸着を継続することを特徴とする着色フォトレジストの塗布方法である。

また、本発明は、上記発明による着色フォトレジストの塗布方法において、前記バキュームテーブルの開口部が、スリットノズルの進行方向（Ｘ軸方向）と直角方向（Ｙ軸方向）に一直線状に複数個設けられ、この開口部の一直線状の列が進行方向（Ｘ軸方向）に複数列設けられており、前記スリットノズルが、該開口部の一直線状の列上方に達する直前に、該列の開口部からの吸引を中断して該開口部での真空吸着を解除し、前記スリットノズルが、該列の開口部上方を通過した後に該列の開口部からの吸引を再開して該開口部での真空吸着を継続することを特徴とする着色フォトレジストの塗布方法である。

また、本発明は、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態で、スリットノズルを移動させながら該ガラス基板上に着色フォトレジストを塗布する着色フォトレジストの塗布装置において、
前記スリットノズルが、バキュームテーブルの開口部上方に達する直前に該開口部からの吸引を中断し、前記スリットノズルが、該開口部上方を通過した後に該開口部からの吸引を再開する機能を具備することを特徴とする着色フォトレジストの塗布装置である。

また、本発明は、上記発明による着色フォトレジストの塗布装置において、前記バキュームテーブルの開口部が、スリットノズルの進行方向（Ｘ軸方向）と直角方向（Ｙ軸方向）に一直線状に複数個設けられ、この開口部の一直線状の列が進行方向（Ｘ軸方向）に複数列設けられており、前記スリットノズルが、該開口部の一直線状の列上方に達する直前に、該列の開口部からの吸引を中断し、前記スリットノズルが、該列の開口部上方を通過した後に該列の開口部からの吸引を再開する機能を具備することを特徴とする着色フォトレジストの塗布装置である。

本発明は、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態で、スリットノズルを移動させながら該ガラス基板上に着色フォトレジストを塗布する着色フォトレジストの塗布方法において、前記スリットノズルが、バキュームテーブルの開口部上方に達する直前に該開口部からの吸引を中断して、該開口部での真空吸着を解除し、前記スリットノズルが、該開口部上方を通過した後に該開口部からの吸引を再開して、該開口部での真空吸着を継続する着色フォトレジストの塗布方法であるので、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態でガラス基板上に着色フォトレジストを塗布しても、ガラス基板がバキュームテーブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、バキュームテーブルに接触していない開口部の位置に対応した部分の塗布膜の膜厚との間に膜厚差が生じることのない、すなわち、着色画素が形成されたカラーフィルタには開口部での吸引に起因した外観（濃度）ムラが観視されることのない着色フォトレジストの塗布方法となる。

また、本発明は、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態で、スリットノズルを移動させながら該ガラス基板上に着色フォトレジストを塗布する着色フォトレジストの塗布装置において、前記スリットノズルが、バキュームテーブルの開口部上方に達する直前に該開口部からの吸引を中断し、前記スリットノズルが、該開口部上方を通過した後に該開口部からの吸引を再開する機能を具備する着色フォトレジストの塗布装置であるので、ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態でガラス基板上に着色フォトレジストを塗布しても、ガラス基板がバキュームテー
ブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、バキュームテーブルに接触していない開口部の位置に対応した部分の塗布膜の膜厚との間に膜厚差が生じることのない、すなわち、着色画素が形成されたカラーフィルタには開口部での吸引に起因した外観（濃度）ムラが観視されることのない着色フォトレジストの塗布装置となる。

本発明を実施の形態に基づいて以下に説明する。
図６は、本発明による着色フォトレジストの塗布装置の一例におけるバキュームテーブル（３１）の平面図である。図６は、バキュームテーブル（３１）に設けられた複数の開口部（３４）の配列の一例を説明するものである。

スリットノズル（図示せず）は、矢印で示すように、図６中、右方から左方へ（Ｘ軸方向）移動しながら、このバキュームテーブル（３１）上に真空吸着によって密着されたガラス基板（２２）上に着色フォトレジストを塗布する。開口部（３４）は、スリットノズルの進行方向（Ｘ軸方向）と直角方向（Ｙ軸方向）に一直線状に３個設けられ、この開口部の一直線状の列が進行方向（Ｘ軸方向）に開口部第１列（Ｋ１）〜開口部第４列（Ｋ４）の４列が設けられた例である。

図７は、スリットノズル（２３）が、開口部第１列（Ｋ１）の上方に達する直前の状態を示す平面図である。図７において、開口部（３４）はガラス基板（２２）の下方に位置するが、説明上、実線で表している。
当初、ガラス基板（２２）がバキュームテーブル（３１）上に載置され、真空吸着によって密着された際には、ガラス基板（２２）は全ての開口部（３４）によって吸引されている状態である。スリットノズル（２３）が図７中、右方から移動しながら、ガラス基板（２２）上に着色フォトレジストの塗布を行い、スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方に達する直前に、開口部第１列（Ｋ１）の３個の開口部（３４）は、吸引を中断し、各開口部での真空吸着を解除する。符号（３４Ｂ）は吸引を中断した開口部を表している。

図８（ａ）、（ｂ）は、図７におけるＸ−Ｘ線での拡大した断面図である。図８（ａ）は図７に対応した、スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方に達する直前の図である。図８（ｂ）は、スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方を通過した直後の図である。図８（ａ）、（ｂ）に示すように、開口部第１列（Ｋ１）の上方に達する直前から通過した直後の間は、開口部からの吸引を中断しているので（点線矢印（３９））、ガラス基板（２２）の符号（Ｂ）で示す吸引を中断した開口部（３４Ｂ）上の部分には凹部は生じておらず平坦な状態である。従って、ガラス基板がバキュームテーブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、バキュームテーブルに接触していない開口部の位置に対応した部分の塗布膜の膜厚との間に膜厚差が生じることはない。

スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方を離れると、開口部第１列（Ｋ１）の３個の開口部は吸引を再開して、各開口部での真空吸着を継続する。図９は、スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方を通過し、開口部第２列（Ｋ２）の上方に達する直前の平面図である。この段階で、開口部第２列（Ｋ２）の３個の開口部は、吸引を中断し、各開口部での真空吸着を解除する。符号（３４Ｂ）は吸引を中断した開口部を表している。そして、前記開口部第１列（Ｋ１）と同様に、開口部第２列（Ｋ２）の上方に達する直前から通過した直後の間は開口部からの吸引を中断し、スリットノズル（２３）が開口部第２列（Ｋ２）の上方を離れると、開口部第２列（Ｋ２）の３個の開口部は吸引を再開して、各開口部での真空吸着を継続する。

同様に、開口部第３列（Ｋ３）、開口部第４列（Ｋ４）において、順次に、スリットノ
ズル（２３）が開口部第３列（Ｋ３）、開口部第４列（Ｋ４）の上方に達する直前に、該列の開口部からの吸引を中断して真空吸着を解除し、該列の開口部上方を通過した後に該列の開口部からの吸引を再開して真空吸着を継続する。従って、ガラス基板（２２）上の全面にわたって、開口部の吸引に起因した膜厚差は解消されたものとなる。

図１０は、本発明による着色フォトレジストの塗布装置の一例における塗布ステージ（５０）の平面図である。図１０はガラス基板（２２）が載置されていない状態であり、開口部（３４）の位置が示されている。また、図１１は、図１０のＸ−Ｘ線での断面図である。図１１はガラス基板（２２）がリフトピン（３３）上に受け渡された状態を示したものである。

スリットノズル（図示せず）は、矢印で示すように、図１０中、右方から左方へ（Ｘ軸方向）移動しながら、このバキュームテーブル（３１）上に真空吸着によって密着されたガラス基板（２２）上に着色フォトレジストを塗布する。バキュームテーブル（３１）には、開口部（３４）がスリットノズルの進行方向（Ｘ軸方向）と直角方向（Ｙ軸方向）に一直線状に３個設けられ、この開口部の一直線状の列が進行方向（Ｘ軸方向）に開口部第１列（Ｋ１）〜開口部第４列（Ｋ４）の４列が設けられた例である。

塗布ステージ（５０）は、スリットノズルの進行方向の順に設けられた開口部第１列（Ｋ１）〜開口部第４列（Ｋ４）に対応して、第１領域（Ｒ１）〜第４領域（Ｒ４）に区分されている。各領域にては、スリットノズルが、各開口部列の上方に達する直前に、各列の開口部からの吸引を中断し、また、スリットノズルが、各開口部列の上方を通過した後に各列の開口部からの吸引を再開する機能を有している。

塗布ステージ（５０）の第１領域（Ｒ１）は、バキュームテーブル（３１）の第１領域部分、筐体（３２）の第１領域部分、筐体（３２）内の隔壁（５７）、リフトピン（３３）で構成され、第１中空部（３５−１）を有し、下部には第１排気口（３６−１）が設けられている。また、第２領域（Ｒ２）は、バキュームテーブル（３１）の第２領域部分、筐体（３２）の第２領域部分、筐体（３２）内の両隔壁（５７）、リフトピン（３３）で構成され、第２中空部（３５−２）を有し、下部には第１排気口（３６−２）が設けられている。第３領域（Ｒ３）、第４領域（Ｒ４）も同様である。

ガラス基板（２２）の真空吸着は、第１領域（Ｒ１）にては第１排気口（３６−１）からの排気により第１中空部（３５−１）の空気が、続いてバキュームテーブル（３１）の開口部第１列（Ｋ１）の開口部（３４）から空気が吸引されて行われる。ガラス基板（２２）が吸着される領域は、塗布ステージ（５０）の第１領域（Ｒ１）に対応した領域である。ガラス基板（２２）の真空吸着は、第２領域（Ｒ２）〜第４領域（Ｒ４）においても同様である。つまり、ガラス基板（２２）は各領域に区分されて真空吸着されるようになっている。

この吸引の作動は各領域が独立して行われ、例えば、各領域が順次に作動することができ、各領域が選択的に作動することができ、或いは、各領域が一斉に作動することができるようになっている。
従って、前記図７は、スリットノズル（２３）が、開口部第１列（Ｋ１）の上方に達する直前の状態を示す平面図であるが、当初、ガラス基板（２２）がバキュームテーブル（３１）上に載置され、真空吸着によって密着させる際には、第１領域（Ｒ１）〜第４領域（Ｒ４）の全ての領域を一斉に作動させて、全ての開口部（３４）からガラス基板（２２）を一斉に真空吸着させる。

また、スリットノズル（２３）が、図７中、右方から移動しながら、ガラス基板（２２
）上に着色フォトレジストの塗布を行い、スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方に達する直前に、開口部第１列（Ｋ１）の開口部（３４）の吸引を中断する際には、第１領域（Ｒ１）での吸引の作動を停止させ真空吸着を解除する。また、スリットノズル（２３）が開口部第１列（Ｋ１）の上方を離れた際には、第１領域（Ｒ１）での吸引の作動を再開し開口部第１列（Ｋ１）での真空吸着を継続する。

同様に、前記図９に示すように、スリットノズル（２３）が開口部第２列（Ｋ２）の上方に達する直前の段階で、開口部第２列（Ｋ２）の開口部（３４）の吸引を中断する際には、第２領域（Ｒ２）での吸引の作動を停止させ真空吸着を解除する。また、スリットノズル（２３）が開口部第２列（Ｋ２）の上方を離れた際には、第２領域（Ｒ２）での吸引の作動を再開し開口部第２列（Ｋ２）での真空吸着を継続する。

上記のように、本発明による着色フォトレジストの塗布装置は、スリットノズル（２３）が各列の上方に達する直前から通過した直後の間は、開口部からの吸引を中断できるので、ガラス基板の吸引を中断した開口部上の部分には凹部は生じることはなく、従って、ガラス基板がバキュームテーブルに接触した部分の塗布膜の膜厚と、バキュームテーブルに接触していない開口部の位置に対応した部分の塗布膜の膜厚との間に膜厚差が生じることのない塗布膜を設けることができる。

スリットコータの一例の概略を模式的に示す平面図である。 図１に示すスリットコータの側面図である。 図１に示す塗布ステージの一例の平面図である。 図３のＸ−Ｘ線での断面図である。 （ａ）、（ｂ）は、塗布ステージを用いた際の、ガラス基板をバキュームテーブル上に載置する動作を説明する断面図である。（ｃ）は、ガラス基板上に着色フォトレジストが塗布された状態を表した断面図である。 本発明による着色フォトレジストの塗布装置の一例におけるバキュームテーブルの平面図である。 スリットノズルが、開口部第１列の上方に達する直前の状態を示す平面図である。 （ａ）、（ｂ）は、図７におけるＸ−Ｘ線での拡大した断面図である。 スリットノズルが開口部第１列の上方を通過し、開口部第２列の上方に達する直前の平面図である。 本発明による着色フォトレジストの塗布装置の一例における塗布ステージの平面図である。 図１０のＸ−Ｘ線での断面図である。

符号の説明

２０・・・スリットコータ
２２・・・ガラス基板
２３・・・スリットノズル
２４・・・フレーム
２５・・・吐出調整機構
２８・・・凹部
３０・・・塗布ステージ
３１・・・バキュームテーブル
３２・・・筐体
３３・・・リフトピン
３４・・・開口部
３４Ｂ・・・吸引を中断した開口部
３５・・・中空部
３５−１〜３５−４・・・第１中空部〜第４中空部
３６・・・排気口
３６−１〜３６−４・・・第１排気口〜第４排気口
３６・・・排気口
３８・・・空気の吸引
５０・・・本発明における塗布ステージ
５７・・・筐体内の隔壁
ΔＴ・・・膜厚差
Ｄ１・・・バキュームテーブルの上面から突出したリフトピンの高さ
Ｋ１〜Ｋ４・・・開口部第１列〜開口部第４列
Ｐ１・・・待機位置
Ｒ１〜Ｒ４・・・塗布ステージの第１領域〜第４領域

Claims (4)

1. ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態で、スリットノズルを移動させながら該ガラス基板上に着色フォトレジストを塗布する着色フォトレジストの塗布方法において、
   前記スリットノズルが、バキュームテーブルの開口部上方に達する直前に該開口部からの吸引を中断して、該開口部での真空吸着を解除し、前記スリットノズルが、該開口部上方を通過した後に該開口部からの吸引を再開して、該開口部での真空吸着を継続することを特徴とする着色フォトレジストの塗布方法。
2. 前記バキュームテーブルの開口部が、スリットノズルの進行方向（Ｘ軸方向）と直角方向（Ｙ軸方向）に一直線状に複数個設けられ、この開口部の一直線状の列が進行方向（Ｘ軸方向）に複数列設けられており、前記スリットノズルが、該開口部の一直線状の列上方に達する直前に、該列の開口部からの吸引を中断して該開口部での真空吸着を解除し、前記スリットノズルが、該列の開口部上方を通過した後に該列の開口部からの吸引を再開して該開口部での真空吸着を継続することを特徴とする請求項１記載の着色フォトレジストの塗布方法。
3. ガラス基板を真空吸着によってバキュームテーブル上に密着させた状態で、スリットノズルを移動させながら該ガラス基板上に着色フォトレジストを塗布する着色フォトレジストの塗布装置において、
   前記スリットノズルが、バキュームテーブルの開口部上方に達する直前に該開口部からの吸引を中断し、前記スリットノズルが、該開口部上方を通過した後に該開口部からの吸引を再開する機能を具備することを特徴とする着色フォトレジストの塗布装置。
4. 前記バキュームテーブルの開口部が、スリットノズルの進行方向（Ｘ軸方向）と直角方向（Ｙ軸方向）に一直線状に複数個設けられ、この開口部の一直線状の列が進行方向（Ｘ軸方向）に複数列設けられており、前記スリットノズルが、該開口部の一直線状の列上方に達する直前に、該列の開口部からの吸引を中断し、前記スリットノズルが、該列の開口部上方を通過した後に該列の開口部からの吸引を再開する機能を具備することを特徴とする請求項３記載の着色フォトレジストの塗布装置。

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