JP2013172124A - Soiウエハおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るSOIウエハは、支持基板1と、支持基板1上に形成される絶縁層2と、を備え、絶縁層2が形成された支持基板1の一方主面には所定の空洞パターン3が形成されており、この空洞パターン3を塞いで絶縁層2上に形成される活性半導体層5をさらに備え、支持基板1の外周部には活性半導体層5が形成されておらず、支持基板1の前記一方主面側の前記外周部に形成され、空洞パターン3の位置を特定する複数の重ね合わせマークパターン4をさらに備える。
【選択図】図1
Description
<SOIウエハの構造>
図1は、本実施の形態におけるSOIウエハの構造を示す平面図(図1(a))と断面図(図1(b))である。本実施の形態におけるSOIウエハは、表面に絶縁層2としてのシリコン酸化膜が形成された支持基板1と、活性半導体層5用基板を、シリコン酸化膜を介して貼り合わせることで形成される。ここで、絶縁層2および支持基板1には、後述する方法にて空洞パターン3および複数の重ね合わせマークパターン4が形成されている。また、支持基板1の外周部には、活性半導体層5が形成されない領域を備える。なお、活性半導体層5の表面は、SOIウエハ表面であり、この面は半導体素子が形成される面である。また、支持基板1と活性半導体層5用基板はシリコン基板である。
以下では、前述した構造を持つSOIウエハの製造方法について説明する。図3に、本実施の形態におけるSOIウエハの製造工程を示す。まず、支持基板1としてシリコン基板を準備する(図3(a))。支持基板1に、熱酸化法又はCVD法を用いることにより、絶縁層2としてのシリコン酸化膜を形成する(図3(b))。次に、露光工程として、本実施の形態では等倍投影露光装置を用いて行う。絶縁膜2が形成された支持基板1の一方主面にレジストを塗布し、空洞パターン3と重ね合わせマークパターン4の両パターンを備える露光マスクを用いて、同時に露光を行う。露光されたレジストを現像し、レジスト6に空洞パターン3と重ね合わせマークパターン4に対応した開口部が形成される(図3(c))。
本実施の形態におけるSOIウエハは、支持基板1と、支持基板1上に形成される絶縁層2とを備え、絶縁層2が形成された支持基板1の一方主面には所定の空洞パターン3が形成されており、空洞パターン3を塞いで絶縁層2上に形成される活性半導体層5をさらに備え、支持基板1の外周部には活性半導体層5が形成されておらず、支持基板1の一方主面側の外周部に形成され、空洞パターン3の位置を特定する複数の重ね合わせマークパターン4をさらに備える。
<SOIウエハの製造方法>
本実施の形態におけるSOIウエハの構造は、実施の形態1と同じであるので、説明を省略する。また、本実施の形態に係るSOIウエハの製造方法における露光工程は、縮小投影露光装置を用いて行う。
本実施の形態のSOIウエハの製造方法において、絶縁層2が形成された支持基板1の一方主面に所定の空洞パターン3を形成する工程は、第1の露光マスクを用いて空洞パターン3の露光を行う工程を備え、支持基板1の前記一方主面側の前記外周部に、空洞パターン3の位置を特定する複数の重ね合わせマークパターン4を形成する工程は、第2の露光マスクを用いて重ね合わせマークパターン4の露光を行う工程を備える。つまり、空洞パターン用露光マスク(第1の露光マスク)と重ね合わせマークパターン用露光マスク(第2の露光マスク)とがそれぞれ異なる露光マスクとして用意される。
本実施の形態におけるSOIウエハの構造は、実施の形態2と同じであるので、説明を省略する。本実施の形態では、予め作製した基準ウエハを参照して、重ね合わせマークパターン4及び空洞パターン3の露光マスクの位置決めを行う。基準ウエハの平面図および断面図を図5に示す。この基準ウエハは、図5に示すように、図1のSOIウエハから、活性半導体層5を除いたウエハである。つまり、基準ウエハには、製品としてのSOIウエハと同じ重ね合わせマークパターン4および空洞パターン3が形成され、かつこれらのパターンが表面に露出した構成となっている。
本実施の形態に係るSOIウエハの製造方法において、第1の露光マスクを用いて空洞パターン3の露光を行う工程及び、第2の露光マスクを用いて重ね合わせマークパターン4の露光を行う工程は、同一の基準ウエハを参照して実行される。
図7は、本実施の形態におけるSOIウエハの特徴とする部分の構造を示すものであり、外周部を含む部分断面図である。実施の形態1(図1)と異なる点は、重ね合わせマークパターン内部がシリコン酸化膜により充填され、かつ空洞パターン内部にもシリコン酸化膜が形成されている点にある。それ以外は、図1と同じ構造であり、実施の形態1と同様、複数の重ね合わせマークパターンによって空洞パターンの位置が特定されている。
本実施の形態におけるSOIウエハに備わる絶縁層2は、空洞パターン3および重ね合わせマークパターン4内部にも形成されていることを特徴とする。従って、実施の形態1で述べた効果に加えて、重ね合わせマークパターン4内部は絶縁層2すなわちシリコン酸化膜で充填されているので、重ね合わせマークパターン4内部へのレジストの入り込みや、重ね合わせマークパターン4の段差部でのエッチング残渣の発生により、重ね合わせマークパターンが異物の発生源となることを避ける効果が期待できる。
Claims (7)
- 支持基板と、
前記支持基板上に形成される絶縁層と、
を備え、
前記絶縁層が形成された前記支持基板の一方主面には所定の空洞パターンが形成されており、
前記空洞パターンを塞いで前記絶縁層上に形成される活性半導体層をさらに備え、
前記支持基板の外周部には前記活性半導体層が形成されておらず、
前記支持基板の前記一方主面側の前記外周部に形成され、前記空洞パターンの位置を特定する複数の重ね合わせマークパターンをさらに備える、
SOIウエハ。 - 前記空洞パターンおよび前記重ね合わせマークパターンは、前記絶縁層を貫通して前記支持基板に至る深さに形成されていることを特徴とする、
請求項1に記載のSOIウエハ。 - 前記絶縁層は、前記空洞パターンおよび前記重ね合わせマークパターン内部にも形成されていることを特徴とする、
請求項1に記載のSOIウエハ。 - (a)支持基板を準備する工程と、
(b)前記支持基板上に絶縁層を形成する工程と、
(c)前記絶縁層が形成された前記支持基板の一方主面に所定の空洞パターンを形成する工程と、
(d)前記空洞パターンを塞いで前記絶縁層上に活性半導体層を形成する工程と、
を備え、
前記支持基板の外周部には前記活性半導体層が形成されておらず、
(e)前記支持基板の前記一方主面側の前記外周部に、前記空洞パターンの位置を特定する複数の重ね合わせマークパターンを形成する工程を、
さらに備える、
SOIウエハの製造方法。 - 前記工程(c)と前記工程(e)は同一露光マスクを用いて同時に行われることを特徴とする、
請求項4に記載のSOIウエハの製造方法。 - 前記工程(c)は、第1の露光マスクを用いて前記空洞パターンの露光を行う工程を備え、
前記工程(e)は、第2の露光マスクを用いて前記重ね合わせマークパターンの露光を行う工程を備える、
請求項4に記載のSOIウエハの製造方法。 - 前記工程(c)及び前記工程(e)は同一の基準ウエハを参照して実行される、
請求項6に記載のSOIウエハの製造方法。
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