JP2013170899A5 - - Google Patents
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Description
即ち、電磁波パルスを検出する検出部と、電磁波パルスを集光位置に集光する集光部と、第１の反射部と第２の反射部とを備える前記測定物と前記集光部で集光された電磁波パルスの平行領域との電磁波パルスの光軸方向における相対位置を調整する位置調整部と、前記検出部で検出した電磁波パルスに関する信号から時間波形を取得する波形取得部であって、前記位置調整部により調整された前記第２の反射部が前記集光部で集光された電磁波パルスの集光過程領域に位置する第１の集光位置にて第１の時間波形を取得し、前記第１の集光位置と異なる第２の集光位置にて第２の時間波形を取得する波形取得部と、前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とに基づき測定波形を形成する波形形成部と、を有することを特徴とする。
即ち、電磁波パルスを集光位置に集光する集光部を有する測定装置を用いて、第１の反射部と第２の反射部とを備える測定物の物性を測定する測定方法であって、前記第２の反射部が前記集光部で集光された電磁波パルスの集光過程領域に位置する第１の集光位置にて第１の時間波形を取得するステップと、前記第１の集光位置と異なる第２の集光位置にて第２の時間波形を取得するステップと、前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とに基づいて測定波形を形成するステップと、を有することを特徴とする。
即ち、電磁波パルスを検出する検出部と、電磁波パルスを集光位置に集光する集光部と、第１の反射部と第２の反射部とを備える前記測定物と前記集光部で集光された電磁波パルスの平行領域との電磁波パルスの光軸方向における相対位置を調整する位置調整部と、前記検出部で検出した電磁波パルスに関する信号から時間波形を取得する波形取得部であって、前記位置調整部により調整された前記第２の反射部が前記集光部で集光された電磁波パルスの集光過程領域に位置する第１の集光位置にて第１の時間波形を取得し、前記第１の集光位置と異なる第２の集光位置にて第２の時間波形を取得する波形取得部と、前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とに基づき測定波形を形成する波形形成部と、前記測定物を保持し、前記測定物と前記平行領域との前記光軸方向と垂直な方向における相対位置を変更するステージと、前記ステージの位置と前記波形形成部が形成した前記測定波形とに基づき前記測定物のトモグラフィー像を構成する像構成部と、を有する。
Claims (12)
- 電磁波パルスを測定物に照射して前記測定物の物性を測定する測定装置であって、
電磁波パルスを検出する検出部と、
電磁波パルスを集光位置に集光する集光部と、
第１の反射部と第２の反射部とを備える前記測定物と前記集光部で集光された電磁波パルスの平行領域との電磁波パルスの光軸方向における相対位置を調整する位置調整部と、
前記検出部で検出した電磁波パルスに関する信号から時間波形を取得する波形取得部であって、前記位置調整部により調整された前記第２の反射部が前記集光部で集光された電磁波パルスの集光過程領域に位置する第１の集光位置にて第１の時間波形を取得し、前記第１の集光位置と異なる第２の集光位置にて第２の時間波形を取得する波形取得部と、
前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とに基づき測定波形を形成する波形形成部と、を有する
ことを特徴とする測定装置。 - 前記平行領域は、集光された電磁波パルスの焦点位置から光軸方向の前後に０．５ミリメートルの領域である
ことを特徴とする請求項１に記載の測定装置。 - 前記波形形成部は、前記第１の時間波形における前記第１の反射部から反射された第１の反射パルスの時間軸上の位置が基準位置に位置するように調整した第１の調整波形と、前記第２の時間波形における前記第１の反射パルスの時間軸上の位置が前記基準位置に位置するように調整した第２の調整波形と、を重ね合わせて前記測定波形を形成する
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の測定装置。 - 前記波形取得部は、前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とは別に１以上の時間波形を取得し、
前記波形形成部は、前記第１の時間波形と前記第２の時間波形と前記１以上の時間波形とに基づき前記測定波形を形成する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の測定装置。 - 前記第１の集光位置では、前記第１の反射部は前記平行領域に位置しており、前記第２の反射部は前記集光過程領域に位置しており、
前記第２の集光位置では、前記第１の反射部は前記平行領域に位置しており、前記第２の反射部は前記平行領域又は前記集光過程領域に位置している
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の測定装置。 - 前記位置調整部は、位置を固定された前記測定物に対して電磁波パルスの集光する集光位置を移動させる
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の測定装置。 - 前記位置調整部は、前記測定物を保持するステージである
ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の測定装置。 - 電磁波パルスは、周波数が３０ＧＨｚ以上３０ＴＨｚ以下のテラヘルツ波を含む
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の測定装置。 - 電磁波パルスを集光位置に集光する集光部を有する測定装置を用いて、第１の反射部と第２の反射部とを備える測定物の物性を測定する測定方法であって、
前記第２の反射部が前記集光部で集光された電磁波パルスの集光過程領域に位置する第１の集光位置にて第１の時間波形を取得するステップと、
前記第１の集光位置と異なる第２の集光位置にて第２の時間波形を取得するステップと、
前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とに基づいて測定波形を形成するステップと、を有する
ことを特徴とする測定方法。 - 抽出された前記測定波形をフーリエ変換して測定物のスペクトルを取得するステップを更に有する
ことを特徴とする請求項９に記載の測定方法。 - 測定物のトモグラフィー像を取得するトモグラフィー装置であって、
電磁波パルスを検出する検出部と、
電磁波パルスを集光位置に集光する集光部と、
第１の反射部と第２の反射部とを備える前記測定物と前記集光部で集光された電磁波パルスの平行領域との電磁波パルスの光軸方向における相対位置を調整する位置調整部と、
前記検出部で検出した電磁波パルスに関する信号から時間波形を取得する波形取得部であって、前記位置調整部により調整された前記第２の反射部が前記集光部で集光された電磁波パルスの集光過程領域に位置する第１の集光位置にて第１の時間波形を取得し、前記第１の集光位置と異なる第２の集光位置にて第２の時間波形を取得する波形取得部と、
前記第１の時間波形と前記第２の時間波形とに基づき測定波形を形成する波形形成部と、
前記測定物を保持し、前記測定物と前記平行領域との前記光軸方向と垂直な方向における相対位置を変更するステージと、
前記ステージの位置と前記波形形成部が形成した前記測定波形とに基づき前記測定物のトモグラフィー像を構成する像構成部と、を有する
ことを特徴とするトモグラフィー装置。 - 前記波形形成部は、前記第１の時間波形における前記第１の反射部から反射された第１の反射パルスの時間軸上の位置が基準位置に位置するように調整した第１の調整波形と、前記第２の時間波形における前記第１の反射パルスの時間軸上の位置が前記基準位置に位置するように調整した第２の調整波形と、を重ね合わせて前記測定波形を形成する
ことを特徴とする請求項１１に記載のトモグラフィー装置。
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