JP2016020867A5 - - Google Patents

Claims (17)

1. 照射条件または試料の条件または検出条件のうち少なくとも一つの条件のみを変化させた
   異なる複数の光学条件にて該試料を照射し該試料からの複数の光を検出する光取得ステッ
   プと、
   該検出した複数の光に基づく複数の信号を取得する信号取得ステップと、
   該複数の信号を用いて作成した波形特徴量または画像特徴量または値特徴量により、欠陥
   とノイズとを判別し、該欠陥の座標を求める処理ステップと、を備えた欠陥観察方法。
2. 請求項１記載の欠陥観察方法であって、
   該波形特徴量または該画像特徴量または値特徴量は、前記複数の光学条件の変化による相
   対変化情報を含むことを特徴とする欠陥観察方法。
3. 請求項１記載の欠陥観察方法であって,
   前記光取得ステップでは、該試料の欠陥からの散乱光の輝点を含む前記複数の光を検出することを特徴とする欠陥観察方法。
4. 請求項１記載の欠陥観察方法であって,
   前記光取得ステップでは、該試料に対して異なる高さで前記複数の光を検出することを特徴とする欠陥観察方法。
5. 請求項１記載の欠陥観察方法であって,
   前記光取得ステップでは、予め標準試料を用いて取得された信号に基づき予め決定された前記複数の光学条件を用いて前記複数の光を検出することを特徴とする欠陥観察方法。
6. 請求項１記載の欠陥観察方法であって,
   さらに、該欠陥と判別された欠陥の確からしさを出力する出力ステップを備える欠陥観察
   方法。
7. 請求項１記載の欠陥観察方法であって、
   前記信号取得ステップでは、偏光子の回転角を変えて該複数の光を検出することを特徴と
   する欠陥観察方法。
8. 照射条件または試料の条件または検出条件のうち少なくとも一つの条件のみを変化させた
   異なる複数の光学条件にて該試料を照射し該試料からの複数の光を検出する光取得部と、
   該検出した複数の光に基づく複数の信号を取得する信号取得部と、
   該複数の信号を用いて作成した波形特徴量または画像特徴量または値特徴量により、欠陥
   とノイズとを判別し、該欠陥の座標を求める処理部と、を備えた欠陥観察装置。
9. 請求項８記載の欠陥観察装置であって、
   該波形特徴量または該画像特徴量または値特徴量は、前記複数の光学条件の変化による相
   対変化情報を含むことを特徴とする欠陥観察装置。
10. 請求項８記載の欠陥観察装置であって,
    前記光取得部では、該試料の欠陥からの散乱光の輝点を含む前記複数の光を検出することを特徴とする欠陥観察装置。
11. 請求項８記載の欠陥観察装置であって,
    前記光取得部では、該試料に対して異なる高さで前記複数の光を検出することを特徴とする欠陥観察装置。
12. 請求項８記載の欠陥観察装置であって,
    前記光取得部では、予め標準試料を用いて取得された信号に基づき予め決定された前記複数の光学条件を用いて前記複数の光を検出することを特徴とする欠陥観察装置。
13. 請求項８記載の欠陥観察装置であって,
    さらに、該欠陥と判別された欠陥の確からしさを出力する出力部を備える欠陥観察装置。
14. 請求項８記載の欠陥観察装置であって、
    前記信号取得部では、偏光子の回転角を変えて該複数の光を検出することを特徴とする欠
    陥観察装置。
15. 請求項８記載の欠陥観察装置であって,
    前記処理部では検査レシピのパラメータ調整または該欠陥とラフネスとを判別するレシピ
    調整とを行うことを特徴とする欠陥観察装置。
16. 請求項８記載の欠陥観察装置であって,
    前記処理部では、前記複数の信号に基づく複数の画像の間の相対変化を含む特徴量は、ラ
    フネス散乱光像を用いて位置合わせされ、作成された特徴量であることを特徴とする欠陥
    観察装置。
17. 請求項１６記載の欠陥観察装置であって,
    前記処理部では、ラフネス散乱光の相関値または差分を用いて該位置合わせを行うを特徴
    とする欠陥観察装置。