JP5419837B2 - 検査装置、検査方法及びプログラム - Google Patents
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Description
図1に、空間フィルタ設定方法の従来例を示す。まず、ウェーハ表面に照射した照射ビーム1000が検査対象チップを照射するように検査ステージを移動する。照射ビーム1000は、ウェーハ上に繰り返しパターンとして形成される複数のセル(Cell)部1001と複数のセンスアンプ(S/A)部1002を跨ぐように照射される。なお、図中の1020は、照射ビーム1000の走査によって取得されたビーム像を表している。
形態例1の場合には、ビーム像及びフーリエ像の画像データが入力されるプロセッサがそれらの強度プロファイルを生成し、当該2つの強度プロファイルの状態変化の組み合わせに基づいて、セル部の欠陥等の観察に適した空間フィルタの設定条件とセンスアンプ部の欠陥等の観察に適した空間フィルタの設定条件を自動的に決定する場合について説明した。すなわち、ビーム像、フーリエ像、ビーム像の強度プロファイル及びフーリエ像の強度プロファイルのオペレータへの提示は想定されていない。
続いて、空間フィルタの駆動機構例を説明する。形態例1において説明した手法を用いることにより、回折光の遮光に最適な空間フィルタの本数、幅、間隔(ピッチ)、座標位置を自動的に設定することができ。ただし、設定通りの効果が実現されるには、空間フィルタの本数、幅、間隔、座標位置を自由に設定できる空間フィルタの存在が必要となる。
以下では、前述した空間フィルタの自動設定機能及び空間フィルタの駆動機構を採用した検査装置の構成例を説明する。
図10に、形態例に係る検査装置の概略構成を示す。図10に示す検査装置は、照明部300、検出部400、Xスケール30、Yスケール40及び処理装置100により構成される。なお、必要に応じ、検査装置は、外部計算装置200を備えても良い。なお、形態例に係る検査装置は暗視野画像を用いた光学式の検査装置であるものとする。
管理装置140から入力された検査エリアの座標情報に対応付けられて保存される。
続いて、形態例に係る検査装置による検査動作の概要を説明する。なお、空間フィルタ21a及び21bの自動設定は既に完了しているものとする。
図13に、検査装置の他の構成例を説明する。図13には、図10との対応部分に同一符号を付して示している。本形態例と形態例4との違いは、空間フィルタ21a及び21bの設定条件を決定する際におけるビーム像の撮像にも検出器(TDI)50a、50bを使用する点である。このため、図13では、検出器(TDI)50a及び50bから空間フィルタ設定部60に対してビーム像(画像データ)を供給するための信号線を描いている。
本発明を実施するための態様は、前述の形態例には限られるものではなく、その技術思想の範囲において種々の変形が可能である。
(1)検査光を被検査物へ照射する照射部(300)と、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光の像(ビーム像)を観察する散乱光観察部(51)と、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光をフーリエ変換した回折光の像(フーリエ像)を観察する回折光観察部(52)と、回折光の一部を遮光する空間フィルタ部(21a,21b)と、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光の強度と位置を検出する検出部(400)と、被検査物を搭載し、移動速度を任意に可変できるステージ部(70)と、検出部にて検出された情報を処理する処理部(100)と、処理部にて処理された情報を表示する表示部(160)と、散乱光の像(ビーム像)の強度プロファイル及び回折光の像(フーリエ像)の強度プロファイルを同時に観察し、当該観察結果に基づいて被検査物表面の特定パターンに起因した回折光を選択的に遮光する空間フィルタの設定条件を決定する空間フィルタ設定部(60)とを有することを特徴とする検査装置。
2…チップ
10a、10b…照明光源
11a、11b…仰角
12a、12b…照明のXY面内の方向角
20a、20b…対物レンズ
21a、21b…空間フィルタ
22a、22b…結像レンズ
30…Xスケール
40…Yスケール
50a、50b…検出器
51…検出器(ビーム像)
52…検出器(フーリエ像)
53…検出器(フーリエ像)
54…検出器(フーリエ像)
60…空間フィルタ設定装置
70…XYステージ
100…処理装置
110…A/D変換器
120…画像処理装置
121…画像比較回路
122…しきい値演算回路
123…しきい値格納回路
130…欠陥判定装置
131…判定回路
132、133…係数テーブル
140…座標管理装置
150…検査結果記憶装置
160…検査結果表示装置
170…入力装置
180…結果処理装置
200…外部計算装置
300…照明部
400…検出部
800…瞳面
801A、801B…スライドレール
802…超音波モータ
803…空間フィルタ
804…リニアエンコーダ
806…空間フィルタ(棒型)
807…空間フィルタ(鍵型)
1000…照射ビーム
1001…セル部
1002…センスアンプ部
1003…フーリエ像
1004…回折光
1005、1005a〜g…フーリエ像内の空間フィルタの像
1010…ビーム像内のセンスアンプ部に対応する強度プロファイル
1011…ビーム像内のセル部に対応する強度プロファイル
1012…フーリエ像内の回折光の強度プロファイル
1012a…センスアンプ部からの回折光を遮光した時にフーリエ像内から消える強度プロファイル
1012b…セル部からの回折光を遮光した時にフーリエ像内から消える強度プロファイル
1013…セル部からの回折光を遮光した時のビーム像内の強度プロファイル
1014…センスアンプ部の回折光を遮光した時のビーム像内の強度プロファイル
1020…ビーム像
1030…ビーム像全体の強度プロファイル
1040…フーリエ像全体の強度プロファイル
1050…認識条件(セル部)
1051…認識条件(センスアンプ部)
Claims (9)
- 被検査物の表面を検査する検査装置において、
検査光を被検査物へ照射する照射部と、
被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光の像を観察する散乱光観察部と、
被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光をフーリエ変換した回折光の像を観察する回折光観察部と、
回折光の一部を遮光する空間フィルタ部と、
被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光の強度と位置を検出する検出部と、
被検査物を搭載し、移動速度を任意に可変できるステージ部と、
検出部にて検出された情報を処理する処理部と、
処理部にて処理された情報を表示する表示部と、
散乱光の像の強度プロファイル及び回折光の像の強度プロファイルを同時に観察し、当該観察結果に基づいて被検査物表面の特定パターンに起因した回折光を選択的に遮光する空間フィルタの設定条件を決定する空間フィルタ設定部と
を有し、
前記空間フィルタ設定部は、回折光の観察視野内を1本の空間フィルタ部で走査し、空間フィルタ部を挿入しない場合における散乱光の像の強度プロファイルと回折光の像の強度プロファイルに対する状態変化を同時に監視する
ことを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記空間フィルタ設定部は、散乱光の像の強度プロファイルの状態変化位置と回折光の像の強度プロファイルの状態変化が検出された位置を記憶し、2つの状態変化の組み合わせに基づいて空間フィルタの設定条件を決定する
ことを特徴とする検査装置。 - 請求項2に記載の検査装置において、
前記空間フィルタ設定部は、前記設定条件として、空間フィルタ部の本数、幅、間隔、配置を決定する
ことを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置において、
前記空間フィルタ設定部は、前記表示部の画面上に、散乱光の像、回折光の像、散乱光の像の強度プロファイル及び回折光の像の強度プロファイルを同時に表示する
ことを特徴とする検査装置。 - 検査装置を用いて被検査物の表面を検査する方法において、
検査装置が、検査光を被検査物へ照射する工程と、
検査装置が、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光の像を観察する工程と、
検査装置が、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光をフーリエ変換した回折光の像を観察する工程と、
検査装置が、散乱光の像の強度プロファイル及び回折光の像の強度プロファイルを同時に観察し、当該観察結果に基づいて被検査物表面の特定パターンに起因した回折光を選択的に遮光する空間フィルタの設定条件を決定する工程と、
検査装置が、回折光の観察視野内を1本の空間フィルタ部で走査し、空間フィルタ部を挿入しない場合における散乱光の像の強度プロファイルと回折光の像の強度プロファイルに対する状態変化を同時に監視する工程と
を有することを特徴とする検査方法。 - 請求項5に記載の検査方法において、
散乱光の像の強度プロファイルの状態変化位置と回折光の像の強度プロファイルの状態変化が検出された位置を記憶し、2つの状態変化の組み合わせに基づいて空間フィルタ部の設定条件を決定する工程
を更に有することを特徴とする検査方法。 - 請求項6に記載の検査方法において、
前記設定条件として、空間フィルタ部の本数、幅、間隔、配置を決定する
ことを特徴とする検査方法。 - 請求項5に記載の検査方法において、
表示部の画面上に、散乱光の像、回折光の像、散乱光の像の強度プロファイル及び回折光の像の強度プロファイルを同時に表示する
ことを特徴とする検査方法。 - 検査光を被検査物へ照射する照射部と、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光の像を観察する散乱光観察部と、被検査物の表面又は表面近傍で発生した散乱光をフーリエ変換した回折光の像を観察する回折光観察部と、回折光の一部を遮光する空間フィルタ部とを有し、被検査物の表面を検査する検査装置に搭載されるコンピュータに、
散乱光の像の強度プロファイル及び回折光の像の強度プロファイルを同時に観察し、当該観察結果に基づいて被検査物表面の特定パターンに起因した回折光を選択的に遮光する空間フィルタの設定条件を決定する処理と、
回折光の観察視野内を1本の空間フィルタ部で走査し、空間フィルタ部を挿入しない場合における散乱光の像の強度プロファイルと回折光の像の強度プロファイルに対する状態変化を同時に監視する処理と
を実行させることを特徴とするプログラム。
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