JP2013200299A5 - - Google Patents

Description

上記課題に鑑み、本発明の粗さ評価装置は、電磁波パルスを発生する発生手段と、電磁波パルスが照射されたサンプルからの電磁波パルスを検出する検出手段と、前記検出手段により検出されるサンプルからの電磁波パルスの時間波形を算出するための時間波形算出手段と、前記時間波形からサンプルの内部界面の粗さ情報を取得する処理手段と、を備える。そして、前記処理手段は、前記内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を前記時間波形から抽出して前記内部界面の粗さ情報を取得する。

また、上記課題に鑑み、電磁波パルスを用いてサンプルの内部界面の粗さ情報を取得する本発明の粗さ評価方法は、以下のステップを有する。すなわち、前記サンプルに電磁波パルスを照射するステップと、前記サンプルからの電磁波パルスを検出して時間波形を算出するステップと、前記内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を前記時間波形から抽出するステップと、前記内部界面からの電磁波パルスから、前記内部界面の粗さ情報を取得するステップと、を有する。

Claims (17)

1. 電磁波パルスを発生する発生手段と、電磁波パルスが照射されたサンプルからの電磁波パルスを検出する検出手段と、前記検出手段により検出されるサンプルからの電磁波パルスの時間波形を算出するための時間波形算出手段と、前記時間波形からサンプルの内部界面の粗さ情報を取得する処理手段と、を有し、
   前記処理手段は、前記内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を前記時間波形から抽出して前記内部界面の粗さ情報を取得する
   ことを特徴とする粗さ評価装置。
2. 粗さ情報を取得する対象である前記内部界面以外の面で反射される電磁波パルスの一部を抽出して、電磁波パルスが通過する物質の屈折率または吸収係数または形状を取得する
   ことを特徴とする請求項１に記載の粗さ評価装置。
3. 前記処理手段は、前記内部界面以外の物質の影響を補正するように前記時間波形の内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を処理する
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の粗さ評価装置。
4. 電磁波パルスが通過する物質の屈折率または吸収係数または形状の情報を予め保持しているデータベースを有し、前記処理手段は前記データベースを用いて前記内部界面以外の物質の影響を補正するように前記時間波形の前記内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を処理する
   ことを特徴とする請求項１に記載の粗さ評価装置。
5. 前記補正は、電磁波パルスが通過する物質の屈折率または吸収係数または形状を用いる
   ことを特徴とする請求項３または４に記載の粗さ評価装置。
6. 前記処理手段は、前記内部界面からの電磁波パルスのスペクトルを利用して、前記内部界面の粗さ情報を取得する
   ことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の粗さ評価装置。
7. 前記処理手段は、前記内部界面からの電磁波パルスのスペクトルと参照データとを比較して前記内部界面の粗さを評価する機能を備え、
   前記参照データは、前記内部界面の粗さと前記電磁波パルスのスペクトルとの関係を保持する
   ことを特徴とする請求項６に記載の粗さ評価装置。
8. 前記処理手段における補正は、前記内部界面からの電磁波パルスのスペクトルを、前記内部界面以外の物質の吸収係数スペクトルを用いて補正する
   ことを特徴とする請求項６または７に記載の粗さ評価装置。
9. 前記検出手段は、複数の角度でサンプルに入射またはサンプルから反射された電磁波パルスを検出し、
   前記処理手段は、前記内部界面からの電磁波パルスの反射角度分布を利用して、前記内部界面の粗さ情報を取得する
   ことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の粗さ評価装置。
10. 前記処理手段は、前記内部界面からの電磁波パルスの反射角度分布を参照データと比較して前記内部界面の粗さを評価する機能を備え、
    前記参照データは、前記内部界面の粗さと電磁波パルスの反射角度分布との関係を保持する
    ことを特徴とする請求項９に記載の粗さ評価装置。
11. 前記処理手段における補正は、前記内部界面からの電磁波パルスの反射角度分布における反射角度を、前記内部界面以外の物質の屈折率または形状または吸収係数を用いて補正する
    ことを特徴とする請求項９または１０に記載の粗さ評価装置。
12. 請求項１から１１の何れか１項に記載の粗さ評価装置を含み、
    前記処理手段は、サンプルの前記内部界面の粗さ情報とともに、粗さ以外の情報をも取得する
    ことを特徴とする物体評価装置。
13. 前記処理手段は、取得された前記内部界面の粗さ情報を用いて、前記内部界面が電磁波パルスに与える影響を補正して粗さ以外の情報を取得する
    ことを特徴とする請求項１２に記載の物体評価装置。
14. 請求項１から１１の何れか１項に記載の粗さ評価装置を含み、
    前記処理手段は、サンプルの前記内部界面の粗さ情報を用いて皮膚の状態を評価する物体評価装置であって、
    電磁波パルスはテラヘルツ波帯の周波数を含み、
    前記内部界面の粗さと電磁波パルスのスペクトルとの関係、または、前記内部界面の粗さと電磁波パルスの反射角度分布との関係を保持する参照データは皮膚の健康状態や疾病に関するデータを含み、
    前記参照データと前記内部界面の粗さ情報とを比較して皮膚の状態を推定する
    ことを特徴とする物体評価装置。
15. 前記処理手段は、取得された前記内部界面の粗さ情報を用いて、前記内部界面が電磁波パルスに与える影響を補正して前記内部界面の粗さ情報以外の情報を取得する
    ことを特徴とする請求項１４に記載の物体評価装置。
16. 電磁波パルスを用いてサンプルの内部界面の粗さ情報を取得する粗さ評価方法であって、
    前記サンプルに電磁波パルスを照射するステップと、
    前記サンプルからの電磁波パルスを検出して時間波形を算出するステップと、
    前記内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を前記時間波形から抽出するステップと、
    前記内部界面からの電磁波パルスから、前記内部界面の粗さ情報を取得するステップと、を有する
    ことを特徴とする粗さ評価方法。
17. 前記粗さ情報を取得するステップの前に、前記内部界面以外の物質の影響を補正するように前記時間波形の前記内部界面からの電磁波パルスに対応する部分を処理するステップをさらに有する
    ことを特徴とする請求項１６に記載の粗さ評価方法。