JP4834718B2 - パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 - Google Patents
パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4834718B2 JP4834718B2 JP2008304605A JP2008304605A JP4834718B2 JP 4834718 B2 JP4834718 B2 JP 4834718B2 JP 2008304605 A JP2008304605 A JP 2008304605A JP 2008304605 A JP2008304605 A JP 2008304605A JP 4834718 B2 JP4834718 B2 JP 4834718B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fiber
- pulse
- terahertz
- pulse laser
- wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000003325 tomography Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 139
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 57
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 33
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 18
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 15
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 14
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 claims description 10
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 238000001328 terahertz time-domain spectroscopy Methods 0.000 claims description 3
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 20
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 20
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 10
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 10
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000002547 anomalous effect Effects 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- CSJLBAMHHLJAAS-UHFFFAOYSA-N diethylaminosulfur trifluoride Substances CCN(CC)S(F)(F)F CSJLBAMHHLJAAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011066 ex-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009021 linear effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 description 1
- 229940127557 pharmaceutical product Drugs 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012306 spectroscopic technique Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3581—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation
- G01N21/3586—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation by Terahertz time domain spectroscopy [THz-TDS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/4795—Scattering, i.e. diffuse reflection spatially resolved investigating of object in scattering medium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S1/00—Masers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the microwave range
- H01S1/02—Masers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the microwave range solid
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
- H01S3/06754—Fibre amplifiers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Lasers (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Description
更に、前記ファイバ増幅部においてチャープされた前記レーザ光の波長スペクトルの内、前記希土類ドープファイバのゼロ分散波長の波長領域に対して損失を与える手段を設ける。
前記で述べた超短パルスレーザを用いてTHz時間領域分光測定系を構成することができる。図6は本発明によるパルスレーザを用いたテラヘルツ時間領域計測装置の構成図である。60は前記で述べた本発明によるファイバ増幅部を持つ超短パルスレーザの出力光で、波長1558nm、光出力約200mW、パルス幅17fsとなっている。図の中で破線部はレーザ光の伝播経路であり、実線はTHz波の伝播経路を表している。従来、光パルスの増幅部にファイバ増幅部を持つフェムト秒レーザにおいて、100mW以上の高出力でかつ時間領域でのペディスタルが少ない20fs以下の超短パルスを実現することは難しかったが、本実施例に示した構成により実現できる。
本発明による第2の実施例はファイバ増幅部の曲率半径Rを調整可能としたものである。上記実施例1のようなTHz−TDS系において必要になる波長帯や光パワー、スペクトル帯域はその測定系の仕様による。したがって、ファイバ増幅部での増幅度やゼロ分散波長よりも長波長側の光エネルギーの量もその仕様によって異なる。また、エルビウムドープファイバのロット毎のバラツキによっては増幅度やチャープ量に違いがある。
本発明による第3の実施例はファイバ増幅部にフィードバック制御による安定化装置を付加したものである。図11のようにファイバ増幅部において、エルビウムドープファイバの出力の一部を分岐器110で取り出して受光器111でその平均パワーをモニターし、偏波制御器8および励起レーザ12a〜12cの一部もしくは電流にフィードバックさせるものである。このとき励起レーザによるエルビウムドープファイバの出力変動は比較的早い時間成分(数10分オーダー以下)が多く、一方で偏波による出力変動は比較的遅い時間成分(時間オーダー以上)が多い。そこで、偏波制御器8へのフィーバック信号にはローパスフィルター(もしくは積分器)112を挿入し、励起レーザへのフィードバック信号にはハイパスフィルタ113を挿入してある。それぞれの帰還増幅率はアンプ114、115で行う。これらはフィルタの代わりに、イコライザー(不図示、信号周波数成分毎に帰還増幅率を調整する)でアクティブに制御を行ってもよい。
本発明による第4の実施例は、希土類ドープファイバの屈折率プロファイルを制御することで、長波長側のフィルタリング機能を向上させるものである。図12は一般にW型ファイバとよばれるものの屈折率プロファイルのパターンを示したものである。
本実施例は、実施例1におけるTDS装置をさらに性能向上させたものである。
本実施例では最良の形態で述べたものとは異なる部品を用いてパルスレーザを構成したものである。種光パルス発生部では、発振波長1561nm、繰り返し50.45MHz、パルス幅506.3fsec、平均出力4.78mWでああり、ファイバ増幅部の構成は表2のとおりである。
2 ファイバ増幅部
3 パルス圧縮部
5、63 波長板
6 シングルモードファイバ
7、10 WDMカップラー
8 偏波コントローラ
9、41、103 希土類ドープファイバ
11 結合器
12a、12b、12c 励起レーザ
13 アイソレータ
14 分散補償ファイバ
15 高非線形ファイバ
30、31 光パルスの波長スペクトル
32 ファイバの分散曲線
33、42 異常分散領域
40、100、101、102 ボビン
43a、43b、43c ファイバ曲げ損の波長依存性
60 レーザ出力
61 ハーフミラー
62 ダイクロイックミラー
64 高調波発生器
65 ミラー
66 遅延系
67a、67b レンズ
68、69 光伝導素子
70a、70b、70c、70d 放物面鏡
71 検体
110 分岐器
111 光検出器
112、113 フィルタ
114、115 アンプ
80 基板
81 光伝導膜
82 アンテナ
83 電極
90、91、92 紙
93、94 プリント
Claims (14)
- レーザ部からのパルス光を増幅及びチャープするファイバ増幅部と、前記ファイバ増幅部からの前記パルス光のパルス幅を圧縮するパルス圧縮部と、を備えるパルスレーザ装置において、
前記ファイバ増幅部は、前記レーザ部からの前記パルス光の中心波長に対して正常分散を示す希土類ドープファイバを有し、
前記希土類ドープファイバは、該希土類ドープファイバのゼロ分散波長より長い波長領域に前記パルス光がエネルギー成分を持つように、該パルス光をチャープし、
前記ファイバ増幅部は、前記エネルギー成分に損失を与えるように構成されている
ことを特徴とするパルスレーザ装置。 - 前記ファイバ増幅部は、前記エネルギー成分に損失を与える波長フィルタを有することを特徴とする請求項1に記載のパルスレーザ装置。
- 前記希土類ドープファイバの少なくとも一部は、屈曲部を持ち、前記エネルギー成分に損失を与えることを特徴とする請求項1に記載のパルスレーザ装置。
- 前記希土類ドープファイバの少なくとも一部は、W型の断面屈折率プロファイルを持ち、前記エネルギー成分に損失を与えることを特徴とする請求項1又は3に記載のパルスレーザ装置。
- 前記ファイバ増幅部は、前記エネルギー成分に損失を与えることで、前記希土類ドープファイバを前記パルスが伝播中に発生する高次非線形効果を抑圧することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のパルスレーザ装置。
- 前記パルスレーザ装置から発生するパルス光は、パルス幅20fsec以下、平均出力200mW以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のパルスレーザ装置。
- 前記高次非線形効果は、四光波混合現象であることを特徴とする請求項5に記載のパルスレーザ装置。
- 前記高次非線形効果は、誘導ラマン散乱であることを特徴とする請求項5に記載のパルスレーザ装置。
- 前記屈曲部の曲率が可変であり、波形をモニターしながら該曲率を調整する手段を有することを特徴とする請求項3記載のパルスレーザ装置。
- 前記ファイバ増幅部は、前記ゼロ分散波長及び該ゼロ分散波長より長い波長領域のエネルギー成分に損失を与えるように構成されていることを特徴とする請求項1記載のパルスレーザ装置。
- 光伝導素子または非線形結晶と、
請求項1乃至10のいずれか1項に記載のパルスレーザ装置と、を備え、
前記光伝導素子または前記非線形結晶に前記パルスレーザ装置からのレーザ光を照射してテラヘルツパルスを発生させる
ことを特徴とするテラヘルツ発生装置。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のパルスレーザ装置と、
分岐部と、を備え、
前記パルスレーザ装置からの光出力を前記分岐部により2つに分岐して、一方の光出力は第1の光伝導素子または第1の非線形結晶に照射してテラヘルツ発生させると共に、他方の光出力は第2の光伝導素子または第2の非線形結晶に照射して検出器として動作させて、ポンプ−プローブ測定によってテラヘルツ時間領域分光を行う
ことを特徴とするテラヘルツ計測装置。 - 請求項12に記載のテラヘルツ計測装置を備え、
検体からの反射パルス測定により前記検体の内部断面像データを取得し、取得されたデータを用いて内部断面画像を出力部に出力する
ことを特徴とするテラヘルツトモグラフィー装置。 - 請求項12に記載のテラヘルツ計測装置を備え、
検体からの反射パルス測定により前記検体の内部断面像データを取得する際の奥行き分解能は5μm以下である
ことを特徴とするテラヘルツトモグラフィー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008304605A JP4834718B2 (ja) | 2008-01-29 | 2008-11-28 | パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008017842 | 2008-01-29 | ||
JP2008017842 | 2008-01-29 | ||
JP2008304605A JP4834718B2 (ja) | 2008-01-29 | 2008-11-28 | パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009206484A JP2009206484A (ja) | 2009-09-10 |
JP2009206484A5 JP2009206484A5 (ja) | 2011-06-02 |
JP4834718B2 true JP4834718B2 (ja) | 2011-12-14 |
Family
ID=40626684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008304605A Expired - Fee Related JP4834718B2 (ja) | 2008-01-29 | 2008-11-28 | パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7953130B2 (ja) |
EP (1) | EP2086074A3 (ja) |
JP (1) | JP4834718B2 (ja) |
CN (2) | CN102208734B (ja) |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8120778B2 (en) * | 2009-03-06 | 2012-02-21 | Imra America, Inc. | Optical scanning and imaging systems based on dual pulsed laser systems |
JP5196779B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | 光伝導素子及びセンサ装置 |
JP4807707B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2011-11-02 | キヤノン株式会社 | 波形情報取得装置 |
JP5341488B2 (ja) | 2008-01-18 | 2013-11-13 | キヤノン株式会社 | テラヘルツ波を測定するための装置及び方法 |
JP4834718B2 (ja) * | 2008-01-29 | 2011-12-14 | キヤノン株式会社 | パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 |
JP5357531B2 (ja) * | 2008-02-05 | 2013-12-04 | キヤノン株式会社 | 情報取得装置及び情報取得方法 |
JP5665305B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2015-02-04 | キヤノン株式会社 | 分析装置 |
JP5472675B2 (ja) | 2009-02-03 | 2014-04-16 | アイシン精機株式会社 | 非接触膜厚測定装置 |
US8428409B2 (en) * | 2009-05-11 | 2013-04-23 | Ofs Fitel, Llc | Filter fiber for use in Raman lasing applications and techniques for manufacturing same |
US8837948B2 (en) * | 2009-06-24 | 2014-09-16 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Multimode optical amplifier as a receiver pre-amplifier for free-space optical communications |
JP5612842B2 (ja) | 2009-09-07 | 2014-10-22 | キヤノン株式会社 | 発振器 |
CN102576971A (zh) * | 2009-10-02 | 2012-07-11 | Imra美国公司 | 锁模激光器的光信号处理 |
JP5653722B2 (ja) * | 2009-11-06 | 2015-01-14 | 古河電気工業株式会社 | テラヘルツ波イメージング装置 |
RU2448399C2 (ru) * | 2009-12-16 | 2012-04-20 | Государственное учебно-научное учреждение физический факультет Московского государственного университета имени М.В. Ломоносова (Физический факультет МГУ) | Способ детектирования электромагнитных волн в терагерцовом диапазоне и устройство для его осуществления |
JP5648321B2 (ja) * | 2010-05-31 | 2015-01-07 | 富士通株式会社 | 波長変換装置、波長変換方法、及び、光分岐挿入装置 |
CN101876571B (zh) * | 2010-06-08 | 2011-09-14 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 用于提高纳秒脉冲单次测量动态范围的脉冲复制环装置 |
JP2012053450A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-03-15 | Canon Inc | テラヘルツ波発生素子、テラヘルツ波検出素子、テラヘルツ波発生装置、テラヘルツ波検出装置、テラヘルツ波測定装置、及びテラヘルツ波トモグラフィックイメージング装置 |
JP5885414B2 (ja) * | 2010-08-05 | 2016-03-15 | キヤノン株式会社 | 光周波数変換素子 |
JP2012068621A (ja) * | 2010-08-24 | 2012-04-05 | Canon Inc | テラヘルツ波発生素子、テラヘルツ波検出素子、及びテラヘルツ時間領域分光装置 |
JP5836683B2 (ja) * | 2010-08-24 | 2015-12-24 | キヤノン株式会社 | 電磁波発生素子、電磁波検出素子、時間領域分光装置 |
JP5675219B2 (ja) * | 2010-08-27 | 2015-02-25 | キヤノン株式会社 | 光パルス発生装置、テラヘルツ分光装置およびトモグラフィ装置 |
US9035258B2 (en) | 2011-01-08 | 2015-05-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Tomography apparatus and electromagnetic pulse transmitting apparatus |
JP5943594B2 (ja) | 2011-01-14 | 2016-07-05 | キヤノン株式会社 | テラヘルツ波素子、テラヘルツ波検出装置、テラヘルツ時間領域分光システム及びトモグラフィ装置 |
US9075243B2 (en) * | 2011-03-01 | 2015-07-07 | Ofs Fitel, Llc | Method and system for ultrashort pulse fiber delivery using higher order mode fiber |
JP5799538B2 (ja) | 2011-03-18 | 2015-10-28 | セイコーエプソン株式会社 | テラヘルツ波発生装置、カメラ、イメージング装置、計測装置および光源装置 |
US8804233B2 (en) * | 2011-08-09 | 2014-08-12 | Ofs Fitel, Llc | Fiber assembly for all-fiber delivery of high energy femtosecond pulses |
EP2756562A4 (en) | 2011-09-14 | 2015-06-17 | Fianium Inc | METHODS AND APPARATUS FOR PICOSECOND IMPULSE FIBER LASERS |
JP5818084B2 (ja) * | 2011-09-22 | 2015-11-18 | アイシン精機株式会社 | テラヘルツ波発生検出装置、およびフェムト秒レーザ発生装置 |
US20130222787A1 (en) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Roughness evaluating apparatus, and object evaluating apparatus and roughness evaluating method using the same |
CA2868355C (en) * | 2012-03-23 | 2020-02-25 | Picometrix, Llc | System and method to detect anomalies |
FR2989475B1 (fr) | 2012-04-12 | 2014-12-05 | Amplitude Systemes | Systeme et procede d'amplification optique d'impulsions lumineuses ultra-breves au-dela de la limite de la bande spectrale de gain |
KR101700779B1 (ko) * | 2012-09-21 | 2017-01-31 | 한국전자통신연구원 | 포토믹서 및 그의 제조방법 |
CN102967566A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-03-13 | 广东汉唐量子光电科技有限公司 | 一种高精密度快速痕量分析装置 |
DE102012113029A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Kurzpulslasersystem |
US8716685B1 (en) | 2012-12-27 | 2014-05-06 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for use in generating pulsed terahertz radiation |
US9601899B2 (en) * | 2014-01-07 | 2017-03-21 | Thorlabs, Inc. | Adjustable mid-infrared super-continuum generator using a tunable femtosecond oscillator |
WO2016102678A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | Selex Es Ltd | Down conversion system and method |
JP6363511B2 (ja) * | 2015-01-08 | 2018-07-25 | 浜松ホトニクス株式会社 | テラヘルツ波時間波形取得装置 |
US9774161B2 (en) * | 2015-02-18 | 2017-09-26 | Toptica Photonics Ag | Fiber delivery of short laser pulses |
CN105334182A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-02-17 | 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 | 一种全光纤太赫兹准时域实时光谱仪 |
CN105527306B (zh) * | 2016-01-15 | 2018-05-08 | 北京工业大学 | 一种基于面阵式探测器太赫兹层析三维成像的方法 |
CN106872800B (zh) * | 2017-02-15 | 2019-04-30 | 上海理工大学 | 石墨烯量子点荧光增强的太赫兹时域电场检测系统 |
IL254803B2 (en) | 2017-09-29 | 2023-09-01 | Prisma Photonics Ltd | Distributed amplification optimized for fiber sensing |
CN108267418B (zh) * | 2018-03-30 | 2023-12-05 | 北京农业信息技术研究中心 | 基于太赫兹层析技术的种子内部形态获取方法及装置 |
CN108692918B (zh) * | 2018-07-17 | 2023-12-15 | 中国人民解放军国防科技大学 | 用于评价高功率光纤激光系统时域稳定性的装置及方法 |
CN109149339B (zh) * | 2018-08-30 | 2020-06-30 | 中国人民解放军国防科技大学 | 可用于泵浦掺铥光纤的800nm波段高亮度光纤激光器 |
CN109301686B (zh) * | 2018-09-25 | 2020-04-24 | 电子科技大学 | 一种高重复频率的飞秒激光脉冲产生系统及方法 |
CN111129933A (zh) * | 2018-10-31 | 2020-05-08 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种全光纤风冷铥激光器 |
CN109883337A (zh) * | 2019-01-25 | 2019-06-14 | 北京航天计量测试技术研究所 | 基于太赫兹光谱技术的热障涂层厚度测量系统和测量方法 |
CN110274699B (zh) * | 2019-07-10 | 2024-01-19 | 中国人民解放军陆军工程大学 | 一种激光照射指示器综合性能检测设备 |
FR3098934B1 (fr) * | 2019-07-17 | 2022-03-25 | Alphanov | Système de génération d’impulsion lumineuse ultra-courte de forte énergie avec module de mise en forme spectrale |
CN112072451B (zh) * | 2020-08-04 | 2022-02-01 | 华南理工大学 | 一种1.7μm全光纤大能量飞秒激光系统 |
CN112038873B (zh) * | 2020-08-20 | 2021-12-03 | 华中科技大学 | 一种太赫兹任意波形的产生方法及系统 |
CN112152066B (zh) * | 2020-09-16 | 2021-09-10 | 飞秒激光研究中心(广州)有限公司 | 激光脉冲能量放大装置、方法及飞秒激光器 |
CN112505001B (zh) * | 2020-11-25 | 2022-02-15 | 华中科技大学 | 一种飞秒激光加载下透明材料动态测量装置及方法 |
CN112903624B (zh) | 2021-01-21 | 2022-12-13 | 上海理工大学 | 基于五能级里德堡量子态的太赫兹生物检测方法及装置 |
CN113970298B (zh) * | 2021-10-25 | 2024-08-23 | 北京航空航天大学 | 一种基于fbg的大型航天柔性结构的整体变形检测方法 |
US11876335B2 (en) * | 2021-11-03 | 2024-01-16 | National Yang Ming Chiao Tung University | Method and system to simultaneously generate tunable redshift and blueshift femtosecond laser pulses with adjustable spectral bandwidth and output power |
CN114885179A (zh) * | 2022-05-23 | 2022-08-09 | 浙大城市学院 | 一种太赫兹时域光谱透射成像数据压缩重构方法 |
CN115657081B (zh) * | 2022-12-29 | 2023-03-28 | 北京无线电测量研究所 | 一种机载太赫兹雷达系统自适应控制方法及装置 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5155621A (en) * | 1990-07-31 | 1992-10-13 | Fujitsu Limited | Optical fiber amplifier |
JP2998247B2 (ja) * | 1991-03-20 | 2000-01-11 | 富士通株式会社 | 光増幅器用エルビウムファイバ |
JP2711778B2 (ja) * | 1992-09-07 | 1998-02-10 | 国際電信電話株式会社 | 光パルス圧縮装置 |
US5880877A (en) | 1997-01-28 | 1999-03-09 | Imra America, Inc. | Apparatus and method for the generation of high-power femtosecond pulses from a fiber amplifier |
US5892615A (en) * | 1997-03-17 | 1999-04-06 | Sdl, Inc. | Output power enhancement in optical fiber lasers |
US6181463B1 (en) | 1997-03-21 | 2001-01-30 | Imra America, Inc. | Quasi-phase-matched parametric chirped pulse amplification systems |
WO2005022705A2 (en) * | 1997-03-21 | 2005-03-10 | Imra America, Inc. | High energy optical fiber amplifier for picosecond-nanosecond pulses for advanced material processing applications |
GB2359716B (en) * | 2000-02-28 | 2002-06-12 | Toshiba Res Europ Ltd | An imaging apparatus and method |
GB2371618B (en) * | 2001-01-30 | 2004-11-17 | Teraprobe Ltd | A probe, apparatus and method for examining a sample |
CN100480751C (zh) * | 2001-12-18 | 2009-04-22 | 古河电气工业株式会社 | 光放大器用的光纤 |
US7224518B2 (en) * | 2003-02-25 | 2007-05-29 | Toptica Photonics Ag | Fiber-optic amplification of light pulses |
US7330301B2 (en) * | 2003-05-14 | 2008-02-12 | Imra America, Inc. | Inexpensive variable rep-rate source for high-energy, ultrafast lasers |
GB2402471B (en) * | 2003-06-02 | 2006-01-18 | Teraview Ltd | An analysis method and apparatus |
US7414780B2 (en) * | 2003-06-30 | 2008-08-19 | Imra America, Inc. | All-fiber chirped pulse amplification systems |
JP2005157601A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Canon Inc | 電磁波による積層状物体計数装置及び計数方法 |
US6990270B2 (en) * | 2004-02-11 | 2006-01-24 | Fitel U.S.A. Corp. | Fiber amplifier for generating femtosecond pulses in single mode fiber |
JP4217646B2 (ja) | 2004-03-26 | 2009-02-04 | キヤノン株式会社 | 認証方法及び認証装置 |
JP4546326B2 (ja) | 2004-07-30 | 2010-09-15 | キヤノン株式会社 | センシング装置 |
JP4250603B2 (ja) | 2005-03-28 | 2009-04-08 | キヤノン株式会社 | テラヘルツ波の発生素子、及びその製造方法 |
JP2006275910A (ja) | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Canon Inc | 位置センシング装置及び位置センシング方法 |
JP2007005484A (ja) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Fujitsu Ltd | 光増幅装置及び光ファイバ |
JP4402026B2 (ja) | 2005-08-30 | 2010-01-20 | キヤノン株式会社 | センシング装置 |
JP4773839B2 (ja) | 2006-02-15 | 2011-09-14 | キヤノン株式会社 | 対象物の情報を検出する検出装置 |
JP5132146B2 (ja) | 2006-03-17 | 2013-01-30 | キヤノン株式会社 | 分析方法、分析装置、及び検体保持部材 |
JP4898472B2 (ja) | 2006-04-11 | 2012-03-14 | キヤノン株式会社 | 検査装置 |
JP4709059B2 (ja) | 2006-04-28 | 2011-06-22 | キヤノン株式会社 | 検査装置及び検査方法 |
JP5196750B2 (ja) | 2006-08-25 | 2013-05-15 | キヤノン株式会社 | 発振素子 |
US7869036B2 (en) | 2007-08-31 | 2011-01-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Analysis apparatus for analyzing a specimen by obtaining electromagnetic spectrum information |
JP5144175B2 (ja) | 2007-08-31 | 2013-02-13 | キヤノン株式会社 | 電磁波を用いる検査装置及び検査方法 |
JP4834718B2 (ja) * | 2008-01-29 | 2011-12-14 | キヤノン株式会社 | パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 |
JP5357531B2 (ja) | 2008-02-05 | 2013-12-04 | キヤノン株式会社 | 情報取得装置及び情報取得方法 |
-
2008
- 2008-11-28 JP JP2008304605A patent/JP4834718B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-01-15 US US12/354,716 patent/US7953130B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-01-16 EP EP09150747.5A patent/EP2086074A3/en not_active Withdrawn
- 2009-01-23 CN CN2011101145288A patent/CN102208734B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-01-23 CN CN2009100097082A patent/CN101498879B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-04-25 US US13/093,804 patent/US8179932B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2086074A2 (en) | 2009-08-05 |
CN102208734A (zh) | 2011-10-05 |
CN102208734B (zh) | 2013-07-31 |
US20090213880A1 (en) | 2009-08-27 |
US8179932B2 (en) | 2012-05-15 |
US20110210252A1 (en) | 2011-09-01 |
EP2086074A3 (en) | 2016-11-09 |
JP2009206484A (ja) | 2009-09-10 |
CN101498879A (zh) | 2009-08-05 |
US7953130B2 (en) | 2011-05-31 |
CN101498879B (zh) | 2011-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4834718B2 (ja) | パルスレーザ装置、テラヘルツ発生装置、テラヘルツ計測装置及びテラヘルツトモグラフィー装置 | |
Gebhardt et al. | Impact of atmospheric molecular absorption on the temporal and spatial evolution of ultra-short optical pulses | |
US8971358B2 (en) | Broadband generation of mid IR, coherent continua with optical fibers | |
Cadroas et al. | All-fiber femtosecond laser providing 9 nJ, 50 MHz pulses at 1650 nm for three-photon microscopy | |
US8165178B2 (en) | Method and apparatus for pumping and operating optical parametric oscillators using DFB fiber lasers | |
Dixneuf et al. | Ultra-low intensity noise, all fiber 365 W linearly polarized single frequency laser at 1064 nm | |
US7898731B2 (en) | Fiber optical parametric oscillator with high power and bandwidth | |
JP2008122278A (ja) | テラヘルツ分光・イメージング装置 | |
US8912508B2 (en) | Multiphoton-excited measuring device | |
JP5045161B2 (ja) | 光ファイバおよび広帯域光源 | |
Butler et al. | Multi-octave spanning, Watt-level ultrafast mid-infrared source | |
Mukhopadhyay et al. | All-fiber low-noise high-power femtosecond Yb-fiber amplifier system seeded by an all-normal dispersion fiber oscillator | |
Cleff et al. | Femtosecond OPO based on LBO pumped by a frequency-doubled Yb-fiber laser-amplifier system for CARS spectroscopy | |
Tan et al. | High-speed wavelength-swept source at 2.0 μm and its application in imaging through a scattering medium | |
Ahmad et al. | 2 µm mode-locked thulium-doped fiber laser using Mach–Zehnder interferometer tuning capability | |
Szewczyk et al. | Dual-wavelength pumped highly birefringent microstructured silica fiber for widely tunable soliton self-frequency shift | |
Nose et al. | Stimulated Raman spectral microscope using synchronized Er-and Yb-fiber lasers | |
US20170170620A1 (en) | Light source device and information acquisition apparatus | |
Ahmad et al. | Tunable passively Q-switched thulium-fluoride fiber laser in the S+/S band (1450.0 to 1512.0 nm) region using a single-walled carbon-nanotube-based saturable absorber | |
CN115764533B (zh) | 一种高重频高能量的飞秒激光产生系统及方法 | |
Krauß et al. | Fiber-coupled high-speed asynchronous optical sampling with sub-50 fs time resolution | |
Ahmad et al. | S-band Q-switched thulium fluoride fiber laser using graphene saturable absorber | |
Cooper et al. | Spectral shaping of an ultrafast ytterbium fiber laser via a passive intracavity optical filter: a simple and reliable route to sub-45 fs pulses | |
Tiess et al. | Discretely tunable thulium-doped fiber-based polarization-maintaining master oscillator power amplifier using fiber Bragg grating arrays as spectral filters | |
CN114946090A (zh) | 光纤激光器系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110408 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110415 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20110415 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20110509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110830 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110926 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4834718 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |