JP5196779B2 - 光伝導素子及びセンサ装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施例1について図1(a)、(b)を用いて説明する。本実施例による光伝導素子1では、半絶縁性(SI)GaAs基板6上に、AlAs層(不図示)及び低温成長(Low
temperature:LT)- GaAsから成るエピタキシャル成長膜5が形成されている。LT-GaAs表面には、ダイポールアンテナを兼ねた電極4が形成され、アンテナ中央には5μm程度のギャップ部(間隙部)2がある。ここで、AlAs層は0.1μmの厚さ、LT-GaAs層5は2μmの厚さであり、アンテナ部7のダイポールアンテナを形成している長さは30μmとなっている。ただし、これらの数値やアンテナ形状については、ここに記載したものに限るものではない。図示例では、一対の電極4とアンテナ部7はエピタキシャル成長膜5の同一面上に形成されているが、一対の電極とアンテナ部を、夫々、エピタキシャル成長膜を挟んでその両面上に形成し、ギャップ部をエピタキシャル成長膜中に設ける形態も可能である。
本発明による実施例2を説明する。図4に実施例2を示す。図4に示す基板50とエピタキシャル層51は、夫々、実施例1の基板6とエピタキシャル層5と構造は同じである。本実施例では、基板除去によりできた穴(開口部)に、テラヘルツ波を集光するために、球状、半球状、非球面などのレンズ52を集積化させている。レンズの材料としては、ポリエチレン、ポリオレフィン、テフロン(登録商標)等の樹脂や、石英などを用いることができる。従来は、基板があるために屈折率差(例えば、基板の屈折率3.5と低屈折率材料の屈折率1.5の差)による反射があり、低屈折率材料を用いにくかった。しかし、基板を除去したことで、テラヘルツ発生源の極近傍に低屈折率材料のレンズを配置することができる。こうして、低屈折率材料の低反射ロスの特長を活かせることになる。このレンズ52を固定するためにエポキシ樹脂等の接着剤を使用してもよい。
本発明による実施例3を図5に示す。図5において、基板60、エッチストップ層61、光伝導膜62、アンテナ63は、上記実施例と同じ構成のため説明を省略する。本実施例では、基板除去によりできた穴(開口部)に、テラヘルツ波や光に対して吸収の少ない樹脂などの材料64を適当な厚さで埋めることで、薄膜化した光伝導膜62を補強している。
2、72‥間隙部(ギャップ部)
3、24、73‥開口部(穴)
4、74‥電極
5、22、51、62‥光伝導膜
6、20、50、60‥基板
7、23、63‥アンテナ(アンテナ部)
21‥光伝導膜及び基板とは異なる組成の薄膜(AlAsエッチストップ層)
35‥検体
52‥光学素子(レンズ)
64‥基板とは異なる材料(樹脂)
Claims (7)
- 電磁波を発生または検出するための光伝導素子であって、
基板と、
前記基板の上部に設けられ、光照射により伝導性を示す光伝導膜と、
前記光伝導膜と前記基板とに挟まれ、前記光伝導膜及び前記基板とは異なる組成の薄膜と、
前記光伝導膜の上部に設けられ、間隙部を有したアンテナ部を含む一対の電極と、を備え、
前記薄膜の材料は、第1のエッチャントに対して前記基板よりもエッチングレートが遅く、第2のエッチャントに対して前記光伝導膜よりもエッチングレートが速い材料であって、
前記基板及び前記薄膜は、一部がそれぞれ前記第1のエッチャント及び前記第2のエッチャントで除去されることで前記間隙部の下部に設けられた開口部を含み構成されることを特徴とする光伝導素子。 - 前記間隙部の下部における前記光伝導膜は単結晶であり、
前記薄膜は単結晶であり、
前記薄膜と前記基板あるいは前記光伝導膜とが歪構造を有するように、該薄膜の格子定数と該基板あるいは該光伝導膜の格子定数とが異なっていることを特徴とする請求項1に記載の光伝導素子。 - 前記開口部に設けられ、前記電磁波を集光する光学素子を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の光伝導素子。
- 前記開口部は、前記電磁波の波長よりも大きな寸法を有し、
前記開口部を形成する前記基板の側壁が前記基板の下部に向かってテーパ形状になっていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光伝導素子。 - 前記電磁波は、30GHz以上30THz以下の周波数領域の少なくとも一部を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光伝導素子。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光伝導素子を含み、テラヘルツ波を用いて検体を検査するための検査装置であって、
テラヘルツ波を発生させる発生素子と、
前記発生素子から発生し、且つ前記検体と相互作用したテラヘルツ波を検出する検出素子と、を備え、
前記発生素子あるいは前記検出素子は、前記光伝導素子であることを特徴とする検査装置。 - 30GHz以上30THz以下の周波数領域の少なくとも一部を含む電磁波を発生または検出するための光伝導素子であって、
基板と、
前記基板の上部に設けられ、光照射により伝導性を示す光伝導膜と、
前記光伝導膜と前記基板とに挟まれ、第1のエッチャントに対して前記基板よりもエッチングレートが遅く、第2のエッチャントに対して前記光伝導膜よりもエッチングレートが速い材料である薄膜と、
前記光伝導膜の上部に設けられ、間隙部を有したアンテナ部を含む一対の電極と、を備え、
前記基板及び前記薄膜は、一部がそれぞれ前記第1のエッチャント及び前記第2のエッチャントで除去されることで前記間隙部の下部に設けられた開口部を含み構成されることを特徴とする光伝導素子。
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