JP2013137862A - 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013137862A JP2013137862A JP2013062981A JP2013062981A JP2013137862A JP 2013137862 A JP2013137862 A JP 2013137862A JP 2013062981 A JP2013062981 A JP 2013062981A JP 2013062981 A JP2013062981 A JP 2013062981A JP 2013137862 A JP2013137862 A JP 2013137862A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- grindstone
- end surface
- peripheral side
- grinding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】ガラス基板の端面に砥石を接触させて基板の端面を加工する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。砥石は、円筒状に形成されているとともにその内周側であってガラス基板の外周側端面と接触する面に溝形状を有し、該溝形状は、ガラス基板の端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取面との両方の面を同時に研削加工できるように形成される。ガラス基板の端面に当接する砥石の軌跡が一定とならないように、ガラス基板の端面と砥石とを接触させ且つガラス基板と砥石とを相対的に移動させ、ガラス基板の側壁面及び面取面の両方の面を研削加工する。
【選択図】図2
Description
磁気ディスク用ガラス基板は、通常、ディスク状に成形したガラス基板に、研削、研磨、化学強化等の工程を順次施して製造される。
また、上述のハードディスクドライブは、従来のパーソナルコンピュータなどに搭載されるものだけでなく、近年は、家庭用ビデオレコーダーやビデオカメラの記録媒体として大容量化が図られている。よって、磁気ディスクの記録密度を飛躍的に増大させる必要から、安価で高性能な磁気記録媒体が用いられてきている。
ところが、現状の端面加工プロセスでは研削加工時(電着砥石#325、#500などを用いた)に発生する基板へのダメージが大きくクラックが深いことから次の研磨工程での研磨取代が徒に多くなってしまうため、寸法精度が安定しにくい、端面に残留クラックが残りやすい、というプロセスが抱える問題点がある。
すなわち、本発明は、前記課題を解決するため、以下の構成としている。
構成4のように、量産性向上の観点から、前記ガラス基板の端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石の両方を回転させることにより研削加工することが好適である。
構成5にあるように、本発明においては、ガラス基板と砥石の両方を回転させながら研削加工する場合、砥石とガラス基板の周速度比A/Bが30以上であることがとりわけ好適である。
構成6にあるように、本発明のような磁気ディスク用ガラス基板の端面の仕上げ研削加工には、鏡面研削加工が行えるレジン砥石を用いるのが好適である。また、粗研削加工では従来の電着ボンド砥石以外にもダメージ軽減が可能なメタルボンド砥石やビトリファイドボンド砥石、あるいはそれらの複合砥石を用いることができる。
構成7にあるように、上述の本発明によるガラス基板の端面の研削加工を行った後、要求される鏡面品位によって、さらに同じく端面を鏡面研磨する工程を追加してもよい。
本発明によるガラス基板の端面の研削加工を行った後、さらに端面を鏡面研磨する場合、砥石及び研削液の種類と、砥石とガラス基板の周速度比を前記研削加工時とは変更して行うことができる。
(構成9)円板状のガラス基板の端面を構成1乃至8のいずれか一項に記載の加工方法により研削加工する工程を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。
本発明によれば、基板端面の2つの面取面のいずれにおいても面内の表面粗さRaのばらつきが±0.01μm以内と非常に小さな磁気ディスク用ガラス基板が提供され、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造される磁気ディスクのコロージョン対策に有効である。
なお、本発明においては、基板端面の表面粗さは、たとえばミツトヨ製微細輪郭形状測定器SV-624にスタイラス径5μmを用いて測定される。
また、この加工方法を適用した端面研削工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、基板端面が高品質に仕上げられた磁気ディスク用ガラス基板を低コストで安定して大量に提供することが可能になる。
[第1の実施の形態]
図1は、本発明が適用される磁気ディスク用ガラス基板1の全体図であり、(A)はその一部を断面で示した側面図、(B)はその平面図である。る。該ガラス基板1は、中心部に円孔を有する全体がディスク(円板)状に形成され、その表裏の主表面11,11と、これら主表面11,11間に形成される外周側の端面12と、内周側の端面13とを有する。
上記ガラス基板1の外周側の端面12は、その主表面11と直交する側壁面12aと、この側壁面12aと表裏の主表面11,11との間にそれぞれ形成されている2つの面取面(面取りした面)12b、12bとからなる形状に形成されている。また、上記ガラス基板1の内周側の端面13についても、その主表面11と直交する側壁面13aと、この側壁面13aと表裏の主表面11,11との間にそれぞれ形成されている2つの面取面(面取りした面)13b、13bとからなる形状に形成されている。
まず、上記ガラス基板(ガラスディスク)10の端面の研削工程について説明する。
図2を参照して説明すると、ガラス基板10はその中心O10を通る回転軸L10を有し、研削砥石2はその中心O2を通る回転軸L2を有しており、研削砥石2の内周側に形成された溝3形状の溝方向に対してガラス基板10を傾けた状態、つまり研削砥石2の回転軸L2に対してガラス基板10の回転軸L10を角度αだけ傾けた状態で、研削砥石2の内周側にガラス基板10の外周側端面12を接触させながら、ガラス基板10と研削砥石2の両方を回転させて研削加工を行う。
上述の研削砥石2の内周側の溝方向に対するガラス基板10の傾斜角度αは任意に設定することができるが、上述の作用効果をより良く発揮させるためには、例えば5〜30度の範囲内とすることが好適である。
なお、この場合、研削砥石2の円筒の大きさは、ガラス基板の例えば外径を考慮して適宜決定されればよい。
なお、研削砥石2とガラス基板10の回転方向は、同方向(カウンタ方向)、異方向(アンチカウンタ方向)のいずれでもよい。
図3は、(A)は研削砥石を用いて磁気ディスク用ガラス基板の内周側端面を研削加工している状態を示す側断面図、(B)は上記研削砥石の平断面図((A)図におけるIII−III線に沿った平断面図)である。
なお、内周側端面の研削加工に用いる研削砥石4及び研削液の種類は上述の外周側端面の研削加工の場合と同様のものを用いればよい。また、研削砥石4及びガラス基板10の各々の周速度、周速度比については内周側端面の研削加工に好適なように適宜設定されればよい。
また、この場合の研磨砥石の周速度は、50〜100m/分、ガラス基板10の周速度は、10m/分程度とすることが好適である。したがって、研磨砥石とガラス基板10の周速度比は、5以上、このましくは5〜10程度の範囲内であることが好適である。
以上のようにして、基板の外周側及び内周側端面の研削、研磨工程を終えたガラス基板に、続いて主表面の鏡面研磨工程、化学強化工程、等を施すことにより、図1に示すような磁気ディスク用ガラス基板1が得られる。
したがって、この加工方法を適用した端面研削加工工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、基板端面が高品質に仕上げられた磁気ディスク用ガラス基板を低コストで安定して大量に提供することが可能になる。
図4は、本発明の第2の実施の形態を示すもので、研削砥石を用いて磁気ディスク用ガラス基板の外周側端面を研削加工している状態を示す側面図である。
本実施の形態は、前述の第1の実施の形態におけるガラス基板10の外周側端面の研削加工工程において、所定の溝形状が形成された円筒状の研削砥石6の外周側にガラス基板10の外周側端面12を接触させながら(つまり研削砥石6とガラス基板10の外周側(端面)同士を接触させながら)研削加工を行う点が第1の実施の形態と異なる。
なお、本実施の形態において用いられる研削砥石6及び研削液の材質は前述の第1の実施の形態と同様のものを用いればよい。また、研削砥石6及びガラス基板10の各々の周速度、周速度比についても前述の第1の実施の形態の場合と同様に、あるいは異なる条件を適宜設定することができる。
すなわち、例えば上述の本発明に係る第1または第2の実施の形態により得られる磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することにより磁気ディスクが得られる。通常は、例えばガラス基板上に、付着層、軟磁性層、下地層、磁性層、保護層、潤滑層などを設けた磁気ディスクとするのが好適である。
保護層としては、例えば、炭素系保護層などが好ましく挙げられる。また、保護層上の潤滑層を形成する潤滑剤としては、PFPE(パーフロロポリエーテル)系化合物が挙げられる。
ガラス基板上に上記各層を成膜する方法については、公知のスパッタリング法などを用いることができる。炭素系保護層の成膜についてはプラズマCVD法も好ましく用いられる。また、潤滑層の成膜にはディップ法などを用いることができる。
(実施例1)
以下の(1)粗ラッピング工程(粗研削工程)、(2)精ラッピング工程(精研削工程)、(3)端面研削工程(4)端面研磨工程、(5)主表面第1研磨工程、(6)主表面第2研磨工程、(7)化学強化工程、を経て本実施例の磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
まず、溶融ガラスから上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスにより直径66mmφ、厚さ1.0mmの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板(ガラスディスク)を得た。なお、この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得てもよい。このアルミノシリケートガラスとしては、SiO2:58〜75重量%、Al2O3:5〜23重量%、Li2O:3〜10重量%、Na2O:4〜13重量%を含有する化学強化ガラスを使用した。次いで、ガラス基板に寸法精度及び形状精度を向上させるためラッピング工程を行った。このラッピング工程は両面ラッピング装置を用い、粒度#400の砥粒を用いて行なった。具体的には、はじめに粒度#400のアルミナ砥粒を用い、荷重を100kg程度に設定して、上記ラッピング装置のサンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラス基板の両面を面精度0〜1μm、表面粗さ(Rmax)6μm程度にラッピングした。
次に、砥粒の粒度を#1000に変え、ガラス基板表面をラッピングすることにより、表面粗さをRmaxで2μm程度、Raで0.2μm程度とした。上記ラッピング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽(超音波印加)に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。
次に、円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を空けると共に、前述の図2に示す方法によって基板の外周側端面の研削をして直径を65mmφとした後、外周側端面に所定の面取り加工を施した。この場合の研削砥石は、まず粗研削加工として粒度#600のダイヤモンド砥粒を金属質ボンドで結合したメタルボンド砥石を、そして仕上げ研削加工では粒度#3000のダイヤモンド砥粒をフェノール樹脂で結合して、それぞれ図2に示すような所定の円筒状に成形したものを使用した。なお、この研削砥石の内周側には所定の溝形状を形成した。また、研削液としては水溶性研削液(温度20℃)を使用した。
こうして、約30秒間の研削加工を行った。このときのガラス基板の外周側端面の表面粗さを前記方法で測定した結果、側壁面、面取面ともに、粗研削加工ではRaで0.2μm程度、仕上げ研削加工ではRaで0.05μm程度であった。なお、一般に、2.5インチ型HDD(ハードディスクドライブ)では、外径が65mmの磁気ディスクを用いる。
研削加工後のガラス基板の内周側端面の表面粗さは、側壁面、面取面ともに、粗研削加工ではRaで0.2μm程度、仕上げ研削加工ではRaで0.05μm程度であった。
次いで、ガラス基板の外周側端面の研磨を行った。研磨砥石として粒度1.2μmの酸化セリウム砥石、研磨液として酸化セリウムスラリーを用い、砥石の周速度を100m/分、ガラス基板の周速度を10m/分(したがって砥石とガラス基板の周速度比は10である)としたこと以外は、上述の外周側端面の研削加工に用いた図2の方法により行った。研磨時間は約12秒間とした。
次いで、ガラス基板の内周側端面についても、研削砥石と研削液の種類、砥石とガラス基板の周速度を外周側端面の場合と同様に変更したこと以外は、上述の内周側端面の研削加工に用いた図3の方法により行った。研磨時間は約10秒間とした。
そして、上記端面研磨加工を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
次に、上述したラッピング工程で残留した主表面の傷や歪みの除去するため第1研磨工程を両面研磨装置を用いて行なった。両面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間にキャリアにより保持したガラス基板を密着させ、このキャリアをサンギアとインターナルギアとに噛合させ、上記ガラス基板を上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラス基板の研磨面との間に研磨液を供給して回転させることによって、ガラス基板が定盤上で自転しながら公転して両面を同時に研磨加工するものである。具体的には、ポリシャとして硬質ポリシャ(硬質発泡ウレタン)を用い、研磨工程を実施した。研磨条件は、研磨液としては酸化セリウム(平均粒径1.3μm)を研磨剤として分散したRO水とし、荷重:100g/cm2、研磨時間:15分とした。上記第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
次に第1研磨工程で使用したものと同じタイプの両面研磨装置を用い、ポリシャを軟質ポリシャ(スウェードパット)に変えて、第2研磨工程を実施した。この第2研磨工程は、上述した第1研磨工程で得られた平坦な表面を維持しつつ、例えば表面粗さRaを1.0〜0.3μm程度以下まで低減させることを目的とするものである。研磨条件は、研磨液としては酸化セリウム(平均粒径0.8μm)を分散したRO水とし、荷重:100g/cm2、研磨時間を5分とした。上記第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
次に、上記洗浄を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合した化学強化液を用意し、この化学強化溶液を380℃に加熱し、上記洗浄・乾燥済みのガラス基板を約4時間浸漬して化学強化処理を行なった。化学強化を終えたガラス基板を硫酸、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄し、乾燥した。
次に、上記洗浄を終えたガラス基板表面の目視検査及び光の反射・散乱・透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラス基板表面に付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。また、上記工程を経て得られたガラス基板の主表面の表面粗さを原子間力顕微鏡(AFM)にて測定したところ、Ra=0.20nmと超平滑な表面を持つ磁気ディスク用ガラス基板を得た。また、ガラス基板の外径は65mm、内径は20mm、板厚は0.635mmに仕上がっていた。
上記付着層は、Ti系合金薄膜を膜厚100Åに形成した。上記軟磁性層は、Co系合金薄膜を膜厚600Åに形成した。上記第1下地層は、Pt系合金薄膜を膜厚70Åに形成し、第2下地層は、Ru合金薄膜を膜厚400Åに形成した。上記磁性層は、CoPtCr合金からなり、膜厚は200Åに形成した。また、上記保護層はダイヤモンドライク炭素保護層とした。また、上記潤滑層には、アルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑剤を用いた。
こうして得られた磁気ディスクは垂直磁気記録方式用の磁気ディスクである。
実施例1におけるガラス基板の外周側端面の研削工程及び研磨工程において、前述の図4に示す方法にしたがって、砥石の外周側に形成した溝方向に対して基板の回転軸を15度(α=15度)傾けた状態で、砥石とガラス基板の外周側(端面)同士を接触させながら、ガラス基板と砥石の両方を回転させることにより、ガラス基板の外周側端面の側壁面及び面取面の両方の面を研削及び研磨加工した。なお、この場合の砥石の材質と研削液(研磨液)の種類は実施例1と同様のものを使用した。また、この場合の砥石とガラス基板の夫々の周速度は実施例1と同様にした。
以上の点以外は、実施例1と同様にして磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
得られた磁気ディスクについて、実施例1と同様のLUL耐久試験を行ったところ、本実施例の磁気ディスクは、100万回のLUL動作に故障することなく耐久した。また、フライングスティクション障害も発生しなかった。
本比較例は、ガラス基板の外周側及び内周側端面の研削加工を従来の方法を用いて行った点が前述の実施例とは相違する。すなわち、円筒状の研削砥石の回転軸に対してガラス基板の主表面が垂直となるようにガラス基板の端面と研削砥石の外周面同士を接触させた状態で両者を回転させながら研削加工を行った。研削砥石には、電着ボンドを用いた粒度#325のダイヤモンド砥石(あるいは酸化セリウム砥石)を用いた。その他の研削条件については適宜調整して行った。
次いで、従来の研磨ブラシ、研磨装置を用いて、ガラス基板の外周側及び内周側端面の研磨を行った。この場合の研磨ブラシのブラシ毛の材質は6−6ナイロンを使用した。研磨剤は酸化セリウムを使用し、この酸化セリウムを含む約30℃の研磨液を供給した。その他の研磨条件については適宜調整して行った。
こうして100枚の研削、研磨加工を終えたガラス基板の外周側端面の表面粗さは、側壁面と面取面のいずれにおいても平均値でRaが0.06μm程度であったが、2つの面取面のいずれにおいても面内のRaのばらつきは±0.02μmと大きかった。また、外径寸法のばらつきは50μm程度と大きかった。
研磨後のガラス基板の外周側端面形状をコントレーサーで測定したところ、図1に示すような、端面12が、2つの面取面12bとその間の側壁面12aとからなる所定の面取り形状に仕上がっていた。そして、外周側端面の面取り角度のばらつきは45度に対して±5°と大きく、外周側端面の寸法形状精度は良好ではなかった。さらに面取面では研削加工時のダメージである残留クラックが顕微鏡観察によって確認された。
そして、本比較例においても、上記2.5インチ磁気ディスク用ガラス基板を約1万枚製造してロングランテストを行ったところ、1度目の端面研削、研磨加工により、所定の端面形状、寸法精度、表面粗さをクリアした良品率は平均70%以下であった。
2,6 外周側端面研削砥石
4 内周側端面研削砥石
3,5,7 溝
10 ディスク状ガラス基板(ガラスディスク)
11 ガラス基板の主表面
12 ガラス基板の外周側端面
12a 側壁面
12b 面取面
13 ガラス基板の内周側端面
Claims (13)
- 基板端面の研削加工工程を含む製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記ガラス基板の端面は、側壁面と、該ガラス基板の両方の主表面と側壁面との間の2つの面取面とから形成され、2つの面取面のいずれにおいても面内の表面粗さRaのばらつきが±0.01μm以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。 - 前記ガラス基板の端面は鏡面であって、表面粗さはRmaxで1μm以下、かつ、Raで0.1μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板。
- 円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、前記ガラス基板の外周側端面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の外周側端面を加工する工程を含む請求項1又は2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記砥石は、円筒状に形成されているとともにその内周側であって前記ガラス基板の外周側の端面と接触する面に溝形状を有し、該溝形状は、前記ガラス基板の外周側端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取面との両方の面を同時に研削加工できるように形成されており、
前記ガラス基板の外周側端面に当接する前記砥石の軌跡が一定とならないように、前記ガラス基板の外周側端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石とを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の外周側端面の前記側壁面及び面取面の両方の面を研削加工することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、前記ガラス基板の外周側端面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の外周側端面を加工する工程を含む請求項1又は2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記砥石は、円筒状に形成されているとともにその内周側であって前記ガラス基板の外周側の端面と接触する面に溝形状を有し、該溝形状は、前記ガラス基板の外周側端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取面との両方の面を同時に研削加工できるように形成されており、
前記ガラス基板の両方の主表面と側壁面との間の2つの面取面が同時に前記砥石と当接するとともに、2つの面取面と前記砥石とのそれぞれの当接位置がガラス基板の主表面と直交する同じ方向線上には位置しないように、前記ガラス基板の外周側端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石とを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の外周側端面の前記側壁面及び面取面の両方の面を研削加工することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記砥石に形成された溝形状の溝方向に対して前記ガラス基板を傾けた状態で研削加工することを特徴とする請求項3又は4に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板の端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石の両方を回転させることにより研削加工することを特徴とする請求項3乃至5のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記砥石の周速度をAとし、前記ガラス基板の周速度をBとしたときに、前記砥石と前記ガラス基板の周速度比A/Bが、30以上であることを特徴とする請求項6に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記砥石として、砥粒と樹脂とからなるレジン砥石、砥粒と金属結合材からなるメタル砥石、砥粒とガラス質結合材からなるビトリファイド砥石、及びそれらの結合材を混合させた複合砥石を用いることを特徴とする請求項3乃至7のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記ガラス基板の端面を研削加工した後、同じく端面を鏡面研磨することを特徴とする請求項3乃至8のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記鏡面研磨は、砥石及び研削液の種類と、砥石とガラス基板の周速度比を前記研削加工時とは変更して行うことを特徴とする請求項9に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、前記ガラス基板の外周側端面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の外周側端面を加工する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記砥石は、円筒状に形成されているとともにその内周側であって前記ガラス基板の外周側の端面と接触する面に溝形状を有し、該溝形状は、前記ガラス基板の外周側端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取面との両方の面を同時に研削加工できるように形成されており、
前記ガラス基板の外周側端面に当接する前記砥石の軌跡が一定とならないように、前記ガラス基板の外周側端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石とを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の外周側端面の前記側壁面及び面取面の両方の面を研削加工することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、前記ガラス基板の外周側端面に砥石を接触させて研削することにより前記ガラス基板の外周側端面を加工する工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記砥石は、円筒状に形成されているとともにその内周側であって前記ガラス基板の外周側の端面と接触する面に溝形状を有し、該溝形状は、前記ガラス基板の外周側端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取面との両方の面を同時に研削加工できるように形成されており、
前記ガラス基板の両方の主表面と側壁面との間の2つの面取面が同時に前記砥石と当接するとともに、2つの面取面と前記砥石とのそれぞれの当接位置がガラス基板の主表面と直交する同じ方向線上には位置しないように、前記ガラス基板の外周側端面と前記砥石とを接触させ且つ前記ガラス基板と前記砥石とを相対的に移動させることにより、前記ガラス基板の外周側端面の前記側壁面及び面取面の両方の面を研削加工することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の磁気ディスク用ガラス基板、もしくは請求項3乃至12のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013062981A JP5639215B2 (ja) | 2013-03-25 | 2013-03-25 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013062981A JP5639215B2 (ja) | 2013-03-25 | 2013-03-25 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008170996A Division JP2010005772A (ja) | 2008-06-30 | 2008-06-30 | 磁気ディスク用ガラス基板の加工方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板、並びに磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013137862A true JP2013137862A (ja) | 2013-07-11 |
JP5639215B2 JP5639215B2 (ja) | 2014-12-10 |
Family
ID=48913428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013062981A Active JP5639215B2 (ja) | 2013-03-25 | 2013-03-25 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5639215B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5983897B1 (ja) * | 2015-11-26 | 2016-09-06 | 旭硝子株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6364460U (ja) * | 1986-10-20 | 1988-04-28 | ||
JPH0857756A (ja) * | 1994-08-22 | 1996-03-05 | Kiyokuei Kenma Kako Kk | ドーナツ状基板の研削工具およびこの工具を利用した研削方法 |
JPH10154321A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-06-09 | Hoya Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、及びそれらの製造方法 |
JPH1133918A (ja) * | 1997-07-16 | 1999-02-09 | Nikon Corp | 磁気記録媒体用基板の内外径加工用砥石及び内外径加工方法 |
JP2000052212A (ja) * | 1998-06-05 | 2000-02-22 | Ngk Insulators Ltd | ガラスディスクのチャンファリング加工方法 |
JP2000167753A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-20 | Shiigu Kk | 研磨方法、研磨装置及び砥石の作製方法 |
JP2000296470A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-24 | Naoi Seiki Kk | 内周砥石及びそれを用いた円形ワ−クの研削装置 |
JP2007294073A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-11-08 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2008084521A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-04-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法もしくは製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク |
JP2008080482A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-04-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、ならびに磁気ディスク |
JP2008119809A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 円板状基板の製造方法 |
-
2013
- 2013-03-25 JP JP2013062981A patent/JP5639215B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6364460U (ja) * | 1986-10-20 | 1988-04-28 | ||
JPH0857756A (ja) * | 1994-08-22 | 1996-03-05 | Kiyokuei Kenma Kako Kk | ドーナツ状基板の研削工具およびこの工具を利用した研削方法 |
JPH10154321A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-06-09 | Hoya Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体、及びそれらの製造方法 |
JPH1133918A (ja) * | 1997-07-16 | 1999-02-09 | Nikon Corp | 磁気記録媒体用基板の内外径加工用砥石及び内外径加工方法 |
JP2000052212A (ja) * | 1998-06-05 | 2000-02-22 | Ngk Insulators Ltd | ガラスディスクのチャンファリング加工方法 |
JP2000167753A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-20 | Shiigu Kk | 研磨方法、研磨装置及び砥石の作製方法 |
JP2000296470A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-10-24 | Naoi Seiki Kk | 内周砥石及びそれを用いた円形ワ−クの研削装置 |
JP2007294073A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-11-08 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP2008084521A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-04-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法もしくは製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、および磁気ディスク |
JP2008080482A (ja) * | 2006-09-01 | 2008-04-10 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および製造装置、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法、ならびに磁気ディスク |
JP2008119809A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 円板状基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5639215B2 (ja) | 2014-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6215770B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5297549B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JPWO2005093720A1 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板 | |
CN108447507B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法、以及磨削工具 | |
JP5361185B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP2010005772A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の加工方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板、並びに磁気ディスクの製造方法 | |
JP5074311B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の加工方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法 | |
JP5991728B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP4994213B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5639215B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに磁気ディスクの製造方法 | |
JP5227132B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
CN108564970B (zh) | 玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法 | |
JP5787702B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及びガラス基板 | |
JP5781845B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP5235916B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク | |
JP5701938B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP5870187B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスクドライブ装置 | |
JP5492276B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク | |
JP5111818B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP2015069685A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
WO2012132073A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体 | |
CN109285565B (zh) | 磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法 | |
US20100247976A1 (en) | Glass substrate for a magnetic disk and method of manufacturing the same | |
WO2013146132A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体 | |
JP2011216166A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の加工方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130422 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140121 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140925 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141023 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5639215 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |