JP2013136496A - 防眩性ガラス基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】防眩性能を十分に備えた防眩性ガラス基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１１と、その表面に形成された透明層１２からなり、前記表面が第一の凹凸面１３であり、透明層１２のガラス基板１１と接する表面の反対側の表面が第二の凹凸面１４であり、第一の凹凸面１３の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲にあり、第二の凹凸面１４の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある防眩性ガラス基板とする。透明層１２には、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子を添加してもよい。
【選択図】図１
【解決手段】ガラス基板１１と、その表面に形成された透明層１２からなり、前記表面が第一の凹凸面１３であり、透明層１２のガラス基板１１と接する表面の反対側の表面が第二の凹凸面１４であり、第一の凹凸面１３の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲にあり、第二の凹凸面１４の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある防眩性ガラス基板とする。透明層１２には、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子を添加してもよい。
【選択図】図１
Description
本発明は、防眩性を有するガラス基板およびその製造方法に関するものである。
液晶ディプレイやタッチパネルに用いられる透明基板には、その表面に蛍光灯等の照明機器や背景が映りこむことにより画面表示が見え難くなることを防止し、画面表示の視認性を向上させることが求められる。そのため、透明基板の表面に防眩（アンチグレア、ＡＧ等とも称される）や反射防止（アンチリフレクション、ＡＲ等とも称される）の機能を付与することが要求されている。
ガラス基板の表面に防眩機能を付与する方法として、従来よりすりガラスのようにサンドブラスト法等の機械加工処理によってガラス表面に凹凸を形成したり、ガラス表面をフッ酸等の薬液を用いるエッチング処理によってガラス表面に凹凸を形成したりする方法が広く知られている。さらに、処理液の液組成を最適化して石英ガラス表面の凹凸を制御する技術も公開されている（例えば特許文献１）。また、あらかじめエッチング処理やサンドブラスト処理によって凹凸を形成したガラス基板の表面に、過飽和状態の珪フッ化水素酸溶液からシリカを析出させて被覆を形成することによってガラス基板表面の凹凸を調整する技術も知られている（例えば特許文献２）。
さらに防眩性能およびその制御性を向上させることを目的として、平坦なガラス基板の表面に凹凸形状を有する被覆を形成して防眩性能を付与する技術も多数提案されており、例えば凹凸を有する樹脂フィルムをガラス基板表面に貼付することによって防眩機能を付与する技術（例えば特許文献３、４）や、ガラス基板表面に凹凸を有するシリカ被覆を形成して防眩機能を付与する技術（例えば特許文献５ないし８）が公開されている。またその目的は異なるが、類似の被覆構造を有するガラス基板を得る技術として、液晶ディスプレイパネル用のガラス基板表面に硬化性の透明樹脂を塗布することによってガラス表面に存在するピットを埋めて平坦化する技術（例えば特許文献９）や、所定範囲の表面粗さを有するガラス基板表面に撥水膜を形成することによって耐汚染性を有する粗面形成板ガラスを得る技術（例えば特許文献１０）も公開されている。
最近では、携帯電話や携帯端末等の小型の情報機器が普及しており、これらに搭載される液晶ディスプレイやタッチパネルに適した防眩性ガラス基板が求められている。このような事情に鑑み、本発明は、防眩性能を十分に備えた新たな防眩性ガラス基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、ガラス基板と前記ガラス基板の表面に形成された透明層とを備える防眩性ガラス基板であって、前記ガラス基板の前記表面が第一の凹凸面であり、前記透明層の前記ガラス基板と接する面の反対側の表面が第二の凹凸面であり、前記第一の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲にあり、前記第二の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある、防眩性ガラス基板を提供する。
また本発明は、別の側面から、ガラス基板の表面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲である、第一の凹凸面を形成する工程と、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲である第二の凹凸面を前記ガラス基板と接する面の反対側の表面に有する透明層を、前記第一の凹凸面上にコーティング液を塗布し、焼成することによって形成する工程と、を備える防眩性ガラス基板の製造方法を提供する。
本発明の防眩性ガラス基板は、防眩性能を十分に備えるという利点があり、また、本発明の防眩性ガラス基板の製造方法によれば、防眩性能を十分に備えた防眩性ガラス基板を容易に提供することができるという利点がある。
以下、この発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。
＜第１の実施形態＞
図１は、第１の実施形態に係る防眩性ガラス基板１０の断面構造を概念的に説明する図である。図１に示すように防眩性ガラス基板１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の表面に形成された透明層１２とを有する。透明層１２は例えばシリカ等を主成分とする均質な材質からなる透明薄膜である。ここで主成分とは、透明層に５０重量％（ｗｔ％）以上含まれる成分をいう。
図１は、第１の実施形態に係る防眩性ガラス基板１０の断面構造を概念的に説明する図である。図１に示すように防眩性ガラス基板１０は、ガラス基板１１と、ガラス基板１１の表面に形成された透明層１２とを有する。透明層１２は例えばシリカ等を主成分とする均質な材質からなる透明薄膜である。ここで主成分とは、透明層に５０重量％（ｗｔ％）以上含まれる成分をいう。
ガラス基板１１の表面は第一の凹凸面１３を形成している。また、透明層１２のガラス基板１１と接する表面の反対側の表面は第二の凹凸面１４を形成している。
第一の凹凸面１３は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下であり、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲となる凹凸面として形成されている。また、第二の凹凸面１４は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある凹凸面として形成されている。ここで、凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）およびピッチ（Ｓｍ）は日本工業規格（ＪＩＳ） Ｂ０６０１（１９９４）の定義による。第一の凹凸面１３の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍ以上０．３５μｍ以下が好ましい。第一の凹凸面１３のピッチ（Ｓｍ）は、１５μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、１８μｍ以上４８μｍ以下がさらに好ましい。第二の凹凸面１３のピッチ（Ｓｍ）は、５１μｍ以上２４５μｍ以下が好ましい。
第一の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ未満の場合には、第二の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が小さくなりすぎて十分な防眩性能を得ることが難しい。また、第一の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４μｍより大きい場合には、第一の凹凸面の凹凸を埋めるために透明層の厚みを過度に大きくする必要がある。第一の凹凸面のピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ未満の場合、透明層が第一の凹凸面の凹凸間に入り込めずに空隙欠点が形成される傾向が顕著となる。また、第一の凹凸面のピッチ（Ｓｍ）が５０μｍよりも大きい場合、所望の防眩性能は得られるが、液晶ディスプレイ等の画素サイズとの関係から、干渉やちらつき等が発生しやすく、ヘイズ率増加に伴い画面の視認性が低下する。
第二の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ未満の場合には、十分な防眩性能を得ることが難しい。また、第二の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１８μｍより大きい場合には、耐擦傷性が問題となる。第二の凹凸面のピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ未満の場合、ヘイズ率が高くなり画面の視認性が低下する。また、第二の凹凸面のピッチ（Ｓｍ）が２５０μｍよりも大きい場合、十分な防眩性能を得るのが難しい。
液晶ディスプレイやタッチパネルの用途においては、室内照明の映り込み等による視認性劣化を防ぐため、透明基板（防眩性ガラス基板）の光沢度を１００％以下とするように要求されることが一般的である。また、ヘイズ率が高いと画面表示の視認性が極端に悪くなるため、透明基板のヘイズ率を２５％以下にすることが一般的である。
第１の実施形態に係る防眩性ガラス基板１０は、第２の凹凸面１４についての光沢度が１００％以下で、かつ、ヘイズ率が２５％以下の好適な防眩性能を示す。ここで、防眩性ガラス基板の防眩性能はＪＩＳ Ｚ８７４１（１９９７）の定義による光沢度とＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）の定義によるヘイズ率である。なお、表面が平滑なガラス基板の光沢度は通常１５０％から１６０％である。
防眩性ガラス基板１０において、第二の凹凸面１４のピッチ（Ｓｍ）から第一の凹凸面１３のピッチ（Ｓｍ）を差し引いた差（ΔＳｍ）は２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲となっていることが好ましい。これにより、光沢度が１００％以下で、かつ、ヘイズ率が２５％以下の好適な防眩性能を実現しやすくなる。ΔＳｍは、２０μｍ以上１９７μｍ以下が好ましい。
ピッチ差（ΔＳｍ）が２０μｍ未満の場合、第二の凹凸面が実質的に機能せず、十分な防眩性能を有しつつ、画面の視認性を確保することが難しくなることがある。ピッチ差（ΔＳｍ）が２００μｍよりも大きい場合、十分な防眩性能を得るのが難しくなることがある。
液晶ディスプレイやタッチパネルの用途においては、４Ｈ以上の鉛筆硬度が望ましいとされ、これは、ガラス基板を保護するために貼付される樹脂フィルムの最も硬いものが４Ｈの鉛筆硬度であることが基準になっている。耐擦傷性の確保のためには、鉛筆硬度が５Ｈ以上あることがより望ましいとされる。ここで、鉛筆硬度とは、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に定義される鉛筆硬度のことをいう。
防眩性ガラス基板１０の透明層１２は特に限定されるものではないが、耐擦傷性の確保の観点からは透明層１２はシリカを主成分とする層であることが好ましい。ここで主成分とは、透明層１２に５０ｗｔ％以上含有される成分のことをいう。これによれば、防眩性ガラス基板１０の鉛筆硬度は５Ｈ以上が確保されやすくなる。
透明層１２の厚みは、第一の凹凸面１３の凸部において、０．２μｍ以上２μｍ以下の範囲であることが好ましい。これにより透明層１２の透明性とガラス基板１１との密着性とを確保できるので、鉛筆硬度は例えば５Ｈ以上７Ｈ以下の範囲となり、耐擦傷性が容易に確保される。凸部における透明層１２の厚みが０．２μｍ未満の場合には、所望の特性が容易には得られにくい。また、透明層１２の厚みが２μｍよりも大きい場合には、クラックや焼成時の収縮などで外観が損なわれたり、基板全体に反りが生じたりすることもある。
ここで、透明層１２の厚みとは、ガラス基板１１の面内方向と垂直な直線を想定したときに、第一の凹凸面１３が形成されているガラス基板１０の表面とその直線が交わる第一の点と、第二の凹凸面１４が形成されている透明層１２のガラス基板１１と接する表面の反対側の表面とその直線が交わる第二の点の二点間の距離をいう。すなわち、透明層１２の厚みはガラス基板１０上の位置に依存する。そして、透明層１２の厚みは第一の凹凸面１３の凸部、特に粗さ曲線（ＪＩＳ Ｂ０６０１の定義による）のピーク位置に対応する位置において最も小さくなることが通常であるから、その位置において十分な厚みを有することが好ましい。
第１の実施形態の防眩性ガラス基板１０の製造方法は、ガラス基板１１表面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲である、第一の凹凸面を形成する工程と、前記第一の凹凸面上に、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲である第二の凹凸面を前記ガラス基板と接する面の反対側の表面に有する透明層を、前記第一の凹凸面上にコーティング液を塗布し、焼成することによって形成する工程と、を備える。これにより、防眩性能を十分に備えた防眩性ガラス基板１０を得ることができる
ところで、透明なガラス基板に防眩性能を付与するために、その表面に機械的研磨やエッチングにより凹凸面を形成する手段が従来より用いられていた。しかし、凹凸面の再現性や制御性に問題があり、また部分的に大きな凹凸が形成されるという問題があった。また、平坦なガラス表面に樹脂フィルムやシリカ被覆等の凹凸を有する被覆を形成して防眩性能を向上させる場合は、被覆とガラス基板の接着強さや凹凸表面の機械的耐久性（特に、硬さの低下や摩擦係数の増加）に由来する耐擦傷性の低下が問題となりうる。
図１の防眩性ガラス基板１０は、例えば機械的研磨によってガラス基板１１の表面に粗さの大きな第一の凹凸面１３が形成され、その後に例えば第一の凹凸面１３上にコーティング液を塗布し、焼成することによって第二の凹凸面１４を有する透明層１２が形成されている。これによって、ガラス基板１１の表面に形成された大きな第一の凹凸面１３が埋められ、目的の表面粗さとピッチを有する表面をその再現性、制御性そして面内の均一性を確保しながら形成され、防眩性ガラス基板１０は目的の防眩性能を実現している。また、ガラス基板の凹凸表面上にコーティング液を塗布し、さらに焼成して形成した透明層１２からは、耐擦傷性においても有用な効果が得られやすい。
＜第２の実施形態＞
図３は、第２の実施形態に係る防眩性ガラス基板３０の断面構造を概念的に説明する図である。第２の実施形態に係る防眩性ガラス基板３０は、第１の実施形態に係る防眩性ガラス基板１０と同様の断面構造となっている。すなわち、防眩性ガラス基板３０は、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の表面に形成された透明層３２とを有する。透明層３２は例えばシリカを主成分とする透明な薄膜である。
図３は、第２の実施形態に係る防眩性ガラス基板３０の断面構造を概念的に説明する図である。第２の実施形態に係る防眩性ガラス基板３０は、第１の実施形態に係る防眩性ガラス基板１０と同様の断面構造となっている。すなわち、防眩性ガラス基板３０は、ガラス基板３１と、ガラス基板３１の表面に形成された透明層３２とを有する。透明層３２は例えばシリカを主成分とする透明な薄膜である。
防眩性ガラス基板３０は、第１の実施形態と同様に、ガラス基板３１の表面に第一の凹凸面３３を形成している。また、透明層３２のガラス基板３１と接する表面の反対側の表面に第二の凹凸面３４を形成している。
第一の凹凸面３３および第二の凹凸面３４は、第１の実施形態の第一の凹凸面１３および第二の凹凸面１４と同様の特性を有している。すなわち、第一の凹凸面３３は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲となる凹凸面として形成されている。また、第二の凹凸面３４は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある凹凸面として形成されている。本実施形態においても、各算術平均粗さ（Ｒａ）およびピッチ（Ｓｍ）の好ましい範囲は、第１の実施形態で記述したとおりである。本実施形態では加えて以下の範囲がさらに好ましい。第１の凹凸面３３の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．２５μｍ以上０．３μｍ以下が好ましく、０．２６μｍ以上０．２８μｍ以下がさらに好ましい。第一の凹凸面３３のピッチ（Ｓｍ）は、１５μｍ以上３５μｍ以下が好ましく、１８μｍ以上３１μｍ以下がさらに好ましい。第二の凹凸面３４の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５μｍ以上０．１５μｍ以下が好ましく、０．０６μｍ以上０．１１μｍ以下がさらに好ましい。第二の凹凸面３４のピッチ（Ｓｍ）は、５５μｍ以上１２０μｍ以下が好ましく、５７μｍ以上１１９μｍ以下がさらに好ましい。
また、防眩性ガラス基板１０において、第二の凹凸面１４のピッチ（Ｓｍ）から第一の凹凸面１３のピッチ（Ｓｍ）を差し引いた差（ΔＳｍ）は２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲となっているのが好ましい。本実施形態においても、ΔＳｍの好ましい範囲は、第１の実施形態で記述したとおりである。本実施形態では加えて以下の範囲がさらに好ましい。ΔＳｍは、３５μｍ以上９０μｍ以下が好ましく、３９μｍ以上８８μｍ以下がさらに好ましい。
第２の実施形態に係る防眩性ガラス基板３０では、第１の実施形態に係る防眩性ガラス基板１０と異なり、透明層３２は、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子３１１を含有している。微粒子３１１を含む透明層３２の母材は特に限定されないが、耐擦傷性の確保の観点からはシリカを主成分とすることが好ましい。なお、本明細書において「平均粒子径」とは、体積基準の粒度分布におけるメジアン径（積算粒度分布曲線の５０％粒径）を意味する。
防眩性ガラス基板３０では、第１の実施形態に係る防眩性ガラス１０と同等の防眩性能および耐擦傷性を示すことができる。すなわち、第二の凹凸面３４についての光沢度は１００％以下であり、かつ、ヘイズ率は２５％以下となっている。また、鉛筆硬度は５Ｈ以上を示す。
ゾルゲル法でガラス基板の表面上にシリカを主成分とする透明層を形成する場合、高温で焼成するほど層構造が緻密となり、透明層の屈折率は高くなる。しかし、焼成時の温度が高すぎるとガラス基板に反りや割れが生じたり、透明層にクラックが発生したりすることがある。このため現実に適用できる焼成温度には制限があり、適用可能な焼成温度は典型的には３００℃程度である。シリカを主成分とする透明層の屈折率は、３００℃程度の焼成では１．４１以下である。ガラス基板の屈折率はその組成によって相違はするものの、代表的なソーダライムガラスでは１．５１である。このため透明層とガラス基板との屈折率差の絶対値は０．１程度にも至る。ここで、屈折率は波長５５０ｎｍの光に対する屈折率のことをいう。
透明層とガラス基板との屈折率差の絶対値が大きいと、透明層とガラス基板との間に凹凸面が形成されている防眩性ガラス基板のヘイズ率を低減させるうえでは不利である。
第２の実施形態の防眩性ガラス基板３０では、透明層３２が金属酸化物の微粒子３１１を含有している。透明層に含有される金属酸化物の微粒子の粒子径が大きいと、金属酸化物の微粒子がコーティング液に均一に分散されにくくなり、透明層の屈折率が不均一な領域が形成されるおそれがある。透明層３２の金属酸化物の微粒子３１１は平均粒子径が１００ｎｍ以下であり、５０ｎｍ以下が特に適している。
防眩性ガラス基板３０は、透明層３２の屈折率をＮａ、ガラス基板３１の屈折率をＮｂとしたとき、ＮａからＮｂを差し引いた差Ｎａ−Ｎｂが−０．０７以上０．０７以下となっている。透明層３２とガラス基板３１との屈折率差の絶対値を０．０７以下とすることによって、光沢度やヘイズ率などの防眩性ガラス基板３０の性能を向上させることが容易になる。特に、ヘイズ率を低減することが容易となる。ヘイズ率低減の観点からは、Ｎａ−Ｎｂは、−０．０３以上０．０３以下が好ましく、−０．０２以上０．０２以下がさらに好ましい。
透明層３２に含まれる微粒子３１１としては、特に限定されないが、シリカ（ＳｉＯ2）の屈折率（１．４６）よりも高い屈折率を示す金属酸化物の微粒子が好ましい。例えば微粒子は、酸化スズ(IV）（ＳｎＯ2）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、チタニア（ＴｉＯ2）およびジルコニア（ＺｒＯ2）から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。酸化スズ(IV）の屈折率は１．９０〜２．００、アルミナの屈折率は１．６３、チタニアの屈折率は２．３０〜２．５５、ジルコニアの屈折率は２．００〜２．１０である。高屈折率の金属酸化物の微粒子は、少ない添加量で透明層３２の屈折率を高くすることができるという点で優れている。しかし、微粒子の価格やコーティング液調整時における溶媒との親和性等を考慮して、添加する金属酸化物の微粒子の種類を適宜選択すればよい。透明層３２に含まれる微粒子の量は特に限定されないが、例えば３０ｗｔ％以下とするのが好ましい。これにより、ヘイズ率の低減がより容易になる。
第一の凹凸面３３の算術平均粗さ（Ｒａ）、ピッチ（Ｓｍ）、第二の凹凸面３４の算術平均粗さ（Ｒａ）、ピッチ（Ｓｍ）、屈折率の差Ｎａ−Ｎｂ、透明層に含まれる金属酸化物の微粒子の含有量の組み合わせは特に限定されず、上記の範囲で様々な組み合わせが可能である。例えば、第一の凹凸面３３の算術平均粗さ（Ｒａ）を０．２７μｍ以上０．２９μｍ以下とし、ピッチ（Ｓｍ）を２５μｍ以上３５μｍ以下とし、第二の凹凸面３４の算術平均粗さ（Ｒａ）を０．０６μｍ以上０．１０μｍ以下とし、ピッチ（Ｓｍ）を７０μｍ以上１２０μｍ以下とし、屈折率の差Ｎａ−Ｎｂを−０．０２以上０．０２以下とすれば、防眩性ガラス基板３０のヘイズ率の低減がより容易になる。
図３の防眩性ガラス基板３０は、例えば機械的研磨によってガラス基板３１の表面に粗さの大きな第一の凹凸面３３が形成され、その後に第一凹凸面３３上に平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子を含有するコーティング液を塗布して１００℃以上５００℃以下で焼成することによって第二の凹凸面３４を有する透明層１２が形成されている。
＜第一の凹凸面の形成＞
第１の実施形態および第２の実施形態において、表面が平滑なガラス基板１１、３１に第一の凹凸面１３、３３を形成する方法としては、公知の湿式研磨法（ラップ研磨など）、乾式研磨法（サンドブラストなど）、エッチング法（希フッ酸等の薬液を用いるものなど）が利用できる。このうち、ラップ研磨による方法は、必要な凹凸面の形状を容易に得られるため好ましい。第一の凹凸面の形状は、研磨剤の粒度（番手）を変更することにより制御することができる。また、ガラス基板の強度を向上させるために、例えばソーダライムガラス基板を用いる場合には、第一の凹凸面を形成した後に化学強化を施してもよい。
第１の実施形態および第２の実施形態において、表面が平滑なガラス基板１１、３１に第一の凹凸面１３、３３を形成する方法としては、公知の湿式研磨法（ラップ研磨など）、乾式研磨法（サンドブラストなど）、エッチング法（希フッ酸等の薬液を用いるものなど）が利用できる。このうち、ラップ研磨による方法は、必要な凹凸面の形状を容易に得られるため好ましい。第一の凹凸面の形状は、研磨剤の粒度（番手）を変更することにより制御することができる。また、ガラス基板の強度を向上させるために、例えばソーダライムガラス基板を用いる場合には、第一の凹凸面を形成した後に化学強化を施してもよい。
＜透明層および第二の凹凸面の形成＞
第１の実施形態において、透明層１２を形成する方法としてはケイ素などの無機物質を含有するコーティング液を用いる公知の湿式成膜法（ゾルゲル法など）や真空成膜法などの公知の乾式成膜法が利用できるが、ガラス基板との接着性がよくまた第一の凹凸面の形状をいわばよりなめらかにした形状である第二の凹凸面を容易に得られる点から、ゾルゲル法による湿式の成膜法が好ましい。特に、シリコンアルコキシドにゲル化反応の触媒となる強酸（塩酸などの無機酸や蟻酸などの有機酸）を添加し、水とアルコールを混合したコーティング液を塗布して乾燥し、焼成したシリカを主成分とする透明層が、硬さ、接着性などの点から好ましく用いられる。シリコンアルコキシドに代えて、シリコンアルコキシドを予め加水分解したシリケート化合物を用いてもよい。塗布方法としてはディップ法やスピンコート法など公知の方法が利用でき、透明層の厚みを制御しやすいことからスピンコート法が好適であるが、特に限定されるものではない。コーティング液の塗布膜の焼成温度は、５００℃以下が適当である。
第１の実施形態において、透明層１２を形成する方法としてはケイ素などの無機物質を含有するコーティング液を用いる公知の湿式成膜法（ゾルゲル法など）や真空成膜法などの公知の乾式成膜法が利用できるが、ガラス基板との接着性がよくまた第一の凹凸面の形状をいわばよりなめらかにした形状である第二の凹凸面を容易に得られる点から、ゾルゲル法による湿式の成膜法が好ましい。特に、シリコンアルコキシドにゲル化反応の触媒となる強酸（塩酸などの無機酸や蟻酸などの有機酸）を添加し、水とアルコールを混合したコーティング液を塗布して乾燥し、焼成したシリカを主成分とする透明層が、硬さ、接着性などの点から好ましく用いられる。シリコンアルコキシドに代えて、シリコンアルコキシドを予め加水分解したシリケート化合物を用いてもよい。塗布方法としてはディップ法やスピンコート法など公知の方法が利用でき、透明層の厚みを制御しやすいことからスピンコート法が好適であるが、特に限定されるものではない。コーティング液の塗布膜の焼成温度は、５００℃以下が適当である。
第２の実施形態においても、透明層３２を形成する方法としては、第１の実施形態と同様の方法を利用することができる。第１の実施形態と異なるのは、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子３１１を含有するように透明層３２を形成することである。例えば、ゾルゲル法による湿式の成膜法により透明層３２を形成する場合には、コーティング液に平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子３１１が添加される。微粒子３１１をコーティング液の中で分散させることは困難な場合があることから、水に微粒子３１１を分散させたスラリー、または、エタノールやイソプロピルアルコール等のアルコールに微粒子３１１を分散させたスラリーをコーティング液に添加することが好ましい。このようにすれば、微粒子３１１が均一に分散したコーティング液を調整することができる。
以下、実施例により本発明に係る第１の実施形態および第２の実施形態をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例により制限されるものではない。
＜第１の実施形態＞
第１の実施形態の各実施例においては、一般的なソーダライムシリケート組成のガラス基板を所定の寸法に切断し、種々の研磨条件でラップ研磨した後、ブラシによる洗浄および純水によるすすぎ洗浄を行って、表面に第一の凹凸面を有するガラス基板を作製した。次いで、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、酸触媒、エタノールを原料とし、所定のモル比になるように混合して室温で４時間以上撹拌することによってコーティング液を調合した。そして、ガラス基板の表面に所定回転数のスピンコートによりコーティング液を塗布し、室温で乾燥させた後、３５０℃で２０分間焼成して、防眩性ガラス基板を作製した。ここで、第１の実施形態の各実施例、各比較例における各特性の評価・測定方法について、以下に示す。
第１の実施形態の各実施例においては、一般的なソーダライムシリケート組成のガラス基板を所定の寸法に切断し、種々の研磨条件でラップ研磨した後、ブラシによる洗浄および純水によるすすぎ洗浄を行って、表面に第一の凹凸面を有するガラス基板を作製した。次いで、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、酸触媒、エタノールを原料とし、所定のモル比になるように混合して室温で４時間以上撹拌することによってコーティング液を調合した。そして、ガラス基板の表面に所定回転数のスピンコートによりコーティング液を塗布し、室温で乾燥させた後、３５０℃で２０分間焼成して、防眩性ガラス基板を作製した。ここで、第１の実施形態の各実施例、各比較例における各特性の評価・測定方法について、以下に示す。
（表面粗さの測定方法）
第一の凹凸面を形成したガラス基板および作製した防眩性ガラス基板の表面粗さ（第二の凹凸面の表面粗さ）の測定方法は以下のとおりである。触針式粗さ計（小坂研究所製ＳＥ−３４００）を用い、カットオフ波長を０．０８ｍｍ、走査速度を０．０５ｍｍ／ｓとしてＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して算術平均粗さ（Ｒａ）、凹凸のピッチ（Ｓｍ）を測定した。測定試料の面内５点について測定を行い、その平均値を測定値とした。
第一の凹凸面を形成したガラス基板および作製した防眩性ガラス基板の表面粗さ（第二の凹凸面の表面粗さ）の測定方法は以下のとおりである。触針式粗さ計（小坂研究所製ＳＥ−３４００）を用い、カットオフ波長を０．０８ｍｍ、走査速度を０．０５ｍｍ／ｓとしてＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して算術平均粗さ（Ｒａ）、凹凸のピッチ（Ｓｍ）を測定した。測定試料の面内５点について測定を行い、その平均値を測定値とした。
（光沢度の測定方法）
防眩性ガラス基板の光沢度の測定方法は以下のとおりである。グロスチェッカ（ＨＯＲＩＢＡ製ＩＧ−３２０）を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７４１（１９９７）に準拠して６０°鏡面光沢度を測定した。測定試料の面内５点について測定を行い、その平均値を測定値とした。
防眩性ガラス基板の光沢度の測定方法は以下のとおりである。グロスチェッカ（ＨＯＲＩＢＡ製ＩＧ−３２０）を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７４１（１９９７）に準拠して６０°鏡面光沢度を測定した。測定試料の面内５点について測定を行い、その平均値を測定値とした。
（ヘイズ率の測定方法）
防眩性ガラス基板のヘイズ率の測定方法は以下の通りである。ヘイズメーター（スガ試験機社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準拠してヘイズ率を測定した。測定試料の面内５点について測定を行い、その平均値を測定値とした。
防眩性ガラス基板のヘイズ率の測定方法は以下の通りである。ヘイズメーター（スガ試験機社製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準拠してヘイズ率を測定した。測定試料の面内５点について測定を行い、その平均値を測定値とした。
（鉛筆硬度の評価方法）
防眩性ガラス基板の鉛筆硬度の評価方法は以下の通りである。ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠して鉛筆芯の硬さによるキズの有無を評価した。キズの付かない一番硬い鉛筆芯を鉛筆硬度とし、６Ｈ以上を○、５Ｈ以上を△として評価した。
防眩性ガラス基板の鉛筆硬度の評価方法は以下の通りである。ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に準拠して鉛筆芯の硬さによるキズの有無を評価した。キズの付かない一番硬い鉛筆芯を鉛筆硬度とし、６Ｈ以上を○、５Ｈ以上を△として評価した。
（透明層の厚みの評価）
本実施例の防眩性ガラス基板をガラス基板に垂直に切断し、その断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて観察して、透明層であるシリカ層の厚みを評価した。
本実施例の防眩性ガラス基板をガラス基板に垂直に切断し、その断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて観察して、透明層であるシリカ層の厚みを評価した。
（実施例１）
本実施例においては、第一の凹凸面１３のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるガラス基板を用いた。
本実施例においては、第一の凹凸面１３のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるガラス基板を用いた。
次いでメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、蟻酸およびエタノールを原料として、ＭＴＥＳ：ＴＥＯＳ：エタノール：蟻酸：水のモル比が４：１：１．６：０．０１：２０となるようにコーティング液を調合した。
第一の凹凸面を形成したガラス基板の表面に、スピンコート法により回転数１０００ｒ．ｐ．ｍ．の条件でコーティング液を塗布した。その後室温で乾燥させたガラス基板を前記の条件で焼成して、防眩性ガラス基板を作製した。本実施例においては、防眩性ガラス基板の表面に形成された第二の凹凸面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは１１０μｍとなり、ΔＳｍは７５μｍとなった。
本実施例の防眩性ガラス基板の光沢度は、８６．５％、ヘイズ率は９．６％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。本実施例および後述する各実施例、各比較例の評価結果をまとめて表１および表２に示す。また、第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例２）
本実施例においては、実施例１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるガラス基板を用いた。次いで、塗布時の回転数を２０００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１８μｍ、Ｓｍは１００μｍとなり、ΔＳｍは６５μｍとなった。
本実施例においては、実施例１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるガラス基板を用いた。次いで、塗布時の回転数を２０００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１８μｍ、Ｓｍは１００μｍとなり、ΔＳｍは６５μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は５５．０％、ヘイズ率は１４．５％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約０．５μｍであった。
（実施例３）
本実施例においては、実施例１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるガラス基板を用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０６μｍ、Ｓｍは１６７μｍとなり、ΔＳｍは１３２μｍとなった。
本実施例においては、実施例１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるガラス基板を用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０６μｍ、Ｓｍは１６７μｍとなり、ΔＳｍは１３２μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９４．７％、ヘイズ率は８．６％で、鉛筆硬度評価の結果は５Ｈで「△」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約２．０μｍであった。
（実施例４）
本実施例においては、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが４８μｍであるガラス基板を用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは２４５μｍとなり、ΔＳｍは１９７μｍとなった。
本実施例においては、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが４８μｍであるガラス基板を用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは２４５μｍとなり、ΔＳｍは１９７μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９９．４％、ヘイズ率は１０．５％で、鉛筆硬度評価の結果は５Ｈで「△」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約２．０μｍであった。
（実施例５）
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるものを用いた。次いでＭＴＥＳ：ＴＥＯＳ：エタノール：塩酸：水のモル比が１：１：２：０．２：１６となるように混合してコーティング液を調合した。そして、塗布時の回転数を１４００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１１μｍ、Ｓｍは５１μｍとなり、ΔＳｍは２０μｍとなった。
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるものを用いた。次いでＭＴＥＳ：ＴＥＯＳ：エタノール：塩酸：水のモル比が１：１：２：０．２：１６となるように混合してコーティング液を調合した。そして、塗布時の回転数を１４００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１１μｍ、Ｓｍは５１μｍとなり、ΔＳｍは２０μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は５８．５％、ヘイズ率は１７．２％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約０.６μｍであった。
（実施例６）
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１０μｍ、Ｓｍが４２μｍであるものを用いた。次いで、実施例５と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは１０４μｍとなり、ΔＳｍは６２μｍとなった。
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１０μｍ、Ｓｍが４２μｍであるものを用いた。次いで、実施例５と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは１０４μｍとなり、ΔＳｍは６２μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９９．５％、ヘイズ率は５．４％で、鉛筆硬度評価の結果は７Ｈで「○」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約０．６μｍであった。
（実施例７）
本実施例においては、実施例６と同様に、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１０μｍ、Ｓｍが４２μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を２５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例５と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは７６μｍとなり、ΔＳｍは３４μｍとなった。
本実施例においては、実施例６と同様に、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１０μｍ、Ｓｍが４２μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を２５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例５と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは７６μｍとなり、ΔＳｍは３４μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９２．９％、ヘイズ率は６．４％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約０.２μｍであった。
（実施例８）
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．２３μｍ、Ｓｍが１９μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０６μｍ、Ｓｍは１６０μｍとなり、ΔＳｍは１４１μｍとなった。
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．２３μｍ、Ｓｍが１９μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０６μｍ、Ｓｍは１６０μｍとなり、ΔＳｍは１４１μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９３．０％、ヘイズ率は２０．７％で、鉛筆硬度評価の結果は５Ｈで「△」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約２．０μｍであった。
（実施例９）
本実施例においては、実施例８と同様に、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．２３μｍ、Ｓｍが１９μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を１０００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０５μｍ、Ｓｍは１１４μｍとなり、ΔＳｍは９５μｍとなった。
本実施例においては、実施例８と同様に、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．２３μｍ、Ｓｍが１９μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を１０００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０５μｍ、Ｓｍは１１４μｍとなり、ΔＳｍは９５μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９２．２％、ヘイズ率は２１．５％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１０）
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を３００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０４μｍ、Ｓｍは１９２μｍとなり、ΔＳｍは１７４μｍとなった。
本実施例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を３００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０４μｍ、Ｓｍは１９２μｍとなり、ΔＳｍは１７４μｍとなった。
本実施例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は９１．３％、ヘイズ率は２２．５％で、鉛筆硬度評価の結果は５Ｈで「△」評価であった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約２．０μｍであった。
（比較例１）
本比較例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．０７μｍ、Ｓｍが５７μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０２μｍ、Ｓｍは２８０μｍとなり、ΔＳｍは２２３μｍとなった。
本比較例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．０７μｍ、Ｓｍが５７μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０２μｍ、Ｓｍは２８０μｍとなり、ΔＳｍは２２３μｍとなった。
本比較例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は１３０．２％、ヘイズ率は２．０％で、鉛筆硬度評価の結果は５Ｈで「△」評価であった。
（比較例２）
本比較例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．３５μｍ、Ｓｍが２０μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を１４００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１９μｍ、Ｓｍは３６μｍとなり、ΔＳｍは１６μｍとなった。
本比較例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．３５μｍ、Ｓｍが２０μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を１４００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１９μｍ、Ｓｍは３６μｍとなり、ΔＳｍは１６μｍとなった。
本比較例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は２６．０％、ヘイズ率は４８．１％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。
（比較例３）
本比較例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１９μｍ、Ｓｍが２０μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を１４００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０３μｍ、Ｓｍは４００μｍとなり、ΔＳｍは３８０μｍとなった。
本比較例においては、その表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板として第一の凹凸面のＲａが０．１９μｍ、Ｓｍが２０μｍであるものを用いた。次いで、塗布時の回転数を１４００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０３μｍ、Ｓｍは４００μｍとなり、ΔＳｍは３８０μｍとなった。
本比較例においては、得られた防眩性ガラス基板の光沢度は１０６．０％、ヘイズ率は１５．７％で、鉛筆硬度評価の結果は５Ｈで「△」評価であった。
（比較例４）
その表面に第一の凹凸面を形成され、第一の凹凸面上に透明層が形成されていないガラス基板について、比較のために、光沢度、ヘイズ率および鉛筆硬度を測定した。本比較例においては、第一の凹凸面のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるものを用いた。本比較例においては、ガラス基板の光沢度は１１．６％、ヘイズ率は６５．８％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。
その表面に第一の凹凸面を形成され、第一の凹凸面上に透明層が形成されていないガラス基板について、比較のために、光沢度、ヘイズ率および鉛筆硬度を測定した。本比較例においては、第一の凹凸面のＲａが０．３４μｍ、Ｓｍが３５μｍであるものを用いた。本比較例においては、ガラス基板の光沢度は１１．６％、ヘイズ率は６５．８％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。
（比較例５）
比較例４と同様に、その表面に第一の凹凸面を形成され、第一の凹凸面上に透明層が形成されていないガラス基板を用いた。本比較例においては、第一の凹凸面のＲａが０．２３μｍ、Ｓｍが１９μｍであるものを用いた。本比較例においては、ガラス基板の光沢度は５．１％、ヘイズ率は８０.８％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。
比較例４と同様に、その表面に第一の凹凸面を形成され、第一の凹凸面上に透明層が形成されていないガラス基板を用いた。本比較例においては、第一の凹凸面のＲａが０．２３μｍ、Ｓｍが１９μｍであるものを用いた。本比較例においては、ガラス基板の光沢度は５．１％、ヘイズ率は８０.８％で、鉛筆硬度評価の結果は６Ｈで「○」評価であった。
（比較例６）
第一の凹凸面の存在による効果を評価する目的で、表面が平滑なガラス基板の表面に実施例１の防眩性ガラス基板の表面形状を樹脂型により転写して、第二の凹凸面に相当する表面形状を有する透明層を形成して比較例６の試料を作製し、光沢度、ヘイズ率を測定した。実施例１の光沢度が８６．５％であったのに対して比較例６の光沢度は９９．４％となり、実施例１のヘイズ率が９．６％であったのに対して比較例６のヘイズ率は０．６％となって、比較例６の防眩性能は実施例１のそれに劣ることが確認された。また、比較例６の鉛筆硬度は３Ｈ以下であった。表面が平滑なガラス基板に透明層を形成しても、十分な耐擦傷性は得られ難いことが確認された。
第一の凹凸面の存在による効果を評価する目的で、表面が平滑なガラス基板の表面に実施例１の防眩性ガラス基板の表面形状を樹脂型により転写して、第二の凹凸面に相当する表面形状を有する透明層を形成して比較例６の試料を作製し、光沢度、ヘイズ率を測定した。実施例１の光沢度が８６．５％であったのに対して比較例６の光沢度は９９．４％となり、実施例１のヘイズ率が９．６％であったのに対して比較例６のヘイズ率は０．６％となって、比較例６の防眩性能は実施例１のそれに劣ることが確認された。また、比較例６の鉛筆硬度は３Ｈ以下であった。表面が平滑なガラス基板に透明層を形成しても、十分な耐擦傷性は得られ難いことが確認された。
（比較例７）
同様に、表面が平滑なガラス基板の表面に実施例８の表面形状を樹脂型により転写して第二の凹凸面に相当する表面形状を有する透明層を形成してその光沢度、ヘイズ率を測定した。実施例８の光沢度が９３．０％であったのに対して比較例７の光沢度は１１８．１％となり、実施例８のヘイズ率が２０．７％であったのに対して比較例７のヘイズ率は１．４％となって、比較例７の防眩性能は実施例８のそれに劣ることが確認された。また、比較例７の鉛筆硬度は３Ｈ以下であった。実施例１、８の結果と比較例６、７の結果を対比して表３に示す。
同様に、表面が平滑なガラス基板の表面に実施例８の表面形状を樹脂型により転写して第二の凹凸面に相当する表面形状を有する透明層を形成してその光沢度、ヘイズ率を測定した。実施例８の光沢度が９３．０％であったのに対して比較例７の光沢度は１１８．１％となり、実施例８のヘイズ率が２０．７％であったのに対して比較例７のヘイズ率は１．４％となって、比較例７の防眩性能は実施例８のそれに劣ることが確認された。また、比較例７の鉛筆硬度は３Ｈ以下であった。実施例１、８の結果と比較例６、７の結果を対比して表３に示す。
＜第２の実施形態＞
第２の実施形態の各実施例および各比較例においては、一般的なソーダライムシリケート組成のガラス基板を所定の寸法に切断し、種々の研磨条件でラップ研磨した後、ブラシによる洗浄および純水によるすすぎ洗浄を行って、表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板を作製した。次いで、４５０〜５００℃の硝酸カリウム塩に３０分浸漬することで、ガラス基板の化学強化を実施した。
第２の実施形態の各実施例および各比較例においては、一般的なソーダライムシリケート組成のガラス基板を所定の寸法に切断し、種々の研磨条件でラップ研磨した後、ブラシによる洗浄および純水によるすすぎ洗浄を行って、表面に第一の凹凸面を形成したガラス基板を作製した。次いで、４５０〜５００℃の硝酸カリウム塩に３０分浸漬することで、ガラス基板の化学強化を実施した。
次いで、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、酸触媒、エタノールおよび水を原料とし、所定のモル比になるように混合して１時間以上撹拌した後、金属酸化物の微粒子を水中に分散させた微粒子スラリー、あるいは、粉状の金属酸化物の微粒子を添加して、超音波（４５ｋＨｚ）を５分間照射し、室温で６時間以上撹拌してコーティング液を得た。コーティング液に添加する金属酸化物の微粒子の種類、酸触媒の種類、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、酸触媒、エタノール、水および金属酸化物の微粒子のモル比等を変化させて、下記表４記載のコーティング液Ａ〜Ｇ、Ｊを調整した。なお、コーティング液Ｊにおいては金属酸化物の微粒子がコーティング液中に沈降し、分散させることが困難であった。
また、コーティング液ＨおよびＩについては、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、酸触媒、エタノールおよび水を原料とし、所定のモル比になるように混合して室温で４時間以上撹拌することによってコーティング液を調合した。
そして、ガラス基板の表面に所定回転数のスピンコートによりコーティング液を塗布し、室温で乾燥させた後、３５０℃で２０分間焼成して、防眩性ガラス基板を作製した。
第２の実施形態の各実施例および各比較例における表面粗さ、光沢度、ヘイズ率、鉛筆硬度および透明層の厚みについては第１の実施形態について記載の方法と同様の方法で、評価または測定を行った。また、透明層の屈折率は以下に記載の方法で測定した。
（透明層の屈折率の測定方法）
シリコン基板の鏡面上に、所定回転数のスピンコートにより前記コーティング液Ａ〜Ｉを塗布し、室温で乾燥させた後、３５０℃で２０分間焼成して得たサンプルについて、シリコン基板の鏡面上に形成された透明層に対し、エリプソメトリー（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製 ＶＡＳＥ）を用いて波長５５０ｎｍの光における屈折率Ｎａを測定した。このようにして測定した透明層の屈折率Ｎａから下記の実施例・比較例で用いたガラス基板の屈折率Ｎｂの値１．５１を差し引いて、Ｎａ−Ｎｂを算出した。
シリコン基板の鏡面上に、所定回転数のスピンコートにより前記コーティング液Ａ〜Ｉを塗布し、室温で乾燥させた後、３５０℃で２０分間焼成して得たサンプルについて、シリコン基板の鏡面上に形成された透明層に対し、エリプソメトリー（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製 ＶＡＳＥ）を用いて波長５５０ｎｍの光における屈折率Ｎａを測定した。このようにして測定した透明層の屈折率Ｎａから下記の実施例・比較例で用いたガラス基板の屈折率Ｎｂの値１．５１を差し引いて、Ｎａ−Ｎｂを算出した。
（実施例１１）
本実施例においては、第一の凹凸面３３のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍである前記ガラス基板を用いた。
本実施例においては、第一の凹凸面３３のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍである前記ガラス基板を用いた。
次いで、第一の凹凸面を形成したガラス基板の表面に、スピンコート法により回転数８００ｒ．ｐ．ｍ．の条件でコーティング液Ａを塗布した。その後室温で乾燥させたガラス基板を前記の条件で焼成して、防眩性ガラス基板を作製した。本実施例においては、防眩ガラス基板の表面に形成された第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは９３μｍとなり、ΔＳｍは６２μｍとなった。また、第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層（透明層）の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１２）
本実施例においては、実施例１１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ａを用い、塗布時の回転数を２５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは８９μｍとなり、ΔＳｍは５８μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約０．３μｍであった。
本実施例においては、実施例１１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ａを用い、塗布時の回転数を２５００ｒ．ｐ．ｍ．とした他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは８９μｍとなり、ΔＳｍは５８μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約０．３μｍであった。
（実施例１３）
本実施例においては、実施例１１、実施例１２と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｂを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは８４μｍとなり、ΔＳｍは５３μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１１、実施例１２と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｂを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは８４μｍとなり、ΔＳｍは５３μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１４）
本実施例においては、第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ａを用いて、実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは５７μｍとなり、ΔＳｍは３９μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ａを用いて、実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０８μｍ、Ｓｍは５７μｍとなり、ΔＳｍは３９μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１５）
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｄを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１０μｍ、Ｓｍは７６μｍとなり、ΔＳｍは４５μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｄを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１０μｍ、Ｓｍは７６μｍとなり、ΔＳｍは４５μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１６）
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｅを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０６μｍ、Ｓｍは１１９μｍとなり、ΔＳｍは８８μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．４μｍであった。
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｅを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０６μｍ、Ｓｍは１１９μｍとなり、ΔＳｍは８８μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．４μｍであった。
（実施例１７）
本実施例においては、実施例１４と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｄを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは７１μｍとなり、ΔＳｍは５４μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１４と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｄを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０７μｍ、Ｓｍは７１μｍとなり、ΔＳｍは５４μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１８）
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｆを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１０μｍ、Ｓｍは８４μｍとなり、ΔＳｍは５３μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｆを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１０μｍ、Ｓｍは８４μｍとなり、ΔＳｍは５３μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例１９）
本実施例においては、実施例１１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｇを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１１μｍ、Ｓｍは７１μｍとなり、ΔＳｍは４１μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１１と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。次いで、コーティング液Ｇを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１１μｍ、Ｓｍは７１μｍとなり、ΔＳｍは４１μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例２０）
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍである前記ガラス基板を用いた。コーティング液として金属酸化物の微粒子が添加されていないコーティング液Ｈを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは６５μｍとなり、ΔＳｍは３４μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍである前記ガラス基板を用いた。コーティング液として金属酸化物の微粒子が添加されていないコーティング液Ｈを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０９μｍ、Ｓｍは６５μｍとなり、ΔＳｍは３４μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（実施例２１）
本実施例においては、実施例１４等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるガラス基板を用いた。コーティング液として金属酸化物の微粒子が添加されていないコーティング液Ｈを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０５μｍ、Ｓｍは９６μｍとなり、ΔＳｍは７９μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．４μｍであった。
本実施例においては、実施例１４等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２６μｍ、Ｓｍが１８μｍであるガラス基板を用いた。コーティング液として金属酸化物の微粒子が添加されていないコーティング液Ｈを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．０５μｍ、Ｓｍは９６μｍとなり、ΔＳｍは７９μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．４μｍであった。
（実施例２２）
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。コーティング液Ｃを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１０μｍ、Ｓｍは８０μｍとなり、ΔＳｍは４９μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
本実施例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。コーティング液Ｃを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。第二の凹凸面のＲａは０．１０μｍ、Ｓｍは８０μｍとなり、ΔＳｍは４９μｍとなった。第一の凹凸面の凸部に相当する位置でのシリカ層の厚みは約１．０μｍであった。
（比較例８）
本比較例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。コーティング液Ｊを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。コーティング液Ｊは、金属酸化物の微粒子が沈降し、分散状態が悪かったため第二の凹凸面の外観は不均一であった。
本比較例においては、実施例１１等と同様に、第一の凹凸面のＲａが０．２８μｍ、Ｓｍが３１μｍであるガラス基板を用いた。コーティング液Ｊを用いた他は実施例１１と同様にして、防眩性ガラス基板を作製した。コーティング液Ｊは、金属酸化物の微粒子が沈降し、分散状態が悪かったため第二の凹凸面の外観は不均一であった。
第２の実施形態の各実施例および比較例について、第一の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）とピッチ（Ｓｍ）、第二の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）とピッチ（Ｓｍ）および第二の凹凸面のピッチから第一の凹凸面のピッチを差し引いた差（ΔＳｍ）に関する測定結果、使用したコーティング液の種類を表５に示す。また、第２の実施形態の各実施例および比較例について光沢度、ヘイズ率および鉛筆硬度について評価結果を表６に示す。
表５に記載されている通り、実施例１１〜２２において、第１の凹凸面は、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチＳｍが１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲にあり、第２の凹凸面は、算術平均粗さＲａが０．０４以上０．１８以下、ピッチＳｍが５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある。そして、表６に記載されている通り、実施例１１〜２２のいずれも、第二の凹凸面についての光沢度が１００％以下、かつ、ヘイズ率２５％以下を示している。したがって、これらは好適な防眩性能を備えているといえる。また、これらの鉛筆硬度は５Ｈ以上を示している。
表４に記載の通り、実施例１１〜１９および実施例２２の透明層の屈折率とガラス基板の屈折率との差Ｎａ−Ｎｂは、−０．０７以上０．０７以下の範囲にある。つまり、透明層の屈折率とガラス基板の屈折率の差の絶対値は０．０７以下の範囲にある。一方、実施例２０及び２１の透明層の屈折率とガラス基板の屈折率との差Ｎａ−Ｎｂはいずれもこの範囲から外れている。
金属酸化物の微粒子を添加した以外は実施例２０と同様の条件で作製した実施例１１〜１３のヘイズ率は、実施例２０のヘイズ率より低い値である。また、金属酸化物の微粒子を添加した以外は実施例２１と同様の条件で作製した実施例１４のヘイズ率も、実施例２１のヘイズ率より低い値である。従って、防眩性ガラス基板の透明層が平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子を含有すると、透明層の屈折率とガラス基板の屈折率との差Ｎａ−Ｎｂが−０．０７以上０．０７以下の範囲となり、ヘイズ率の低減が容易となる。
実施例１５〜１９は、金属酸化物の微粒子の種類などを変更しているが、実施例２０および実施例２１に対して、低いヘイズ率を示している。
実施例２２においては、透明層に金属酸化物の微粒子を含有していない実施例２０および実施例２１と比べて、第二の凹凸面についての光沢度が低い。
実施例１１〜１９、および実施例２２では、実施例２０および実施例２１のヘイズ率よりも低いヘイズ率を示し、あるいは、実施例２０および実施例２１の光沢度よりも低い光沢度を示す。従って、透明層が平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子を含むことは、防眩性ガラス基板の性能を向上させるうえで有利である。
＜変形例＞
上記第２の実施形態では、金属酸化物の微粒子をコーティング液に分散させ、ゾルゲル法により透明層を形成して所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラス基板を得たが、所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラスの作製方法はこれに限られない。例えば、２種類のアルコキシドを出発原料としてゾルゲル法により透明層を形成することによって、所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラスを得ることができる。また、シリカ（ＳｉＯ2）とチタニア（ＴｉＯ2）の複合酸化物で、チタニア（ＴｉＯ2）の含有量を約１０ｍｏｌ％となるように作製したゾルゲル膜の屈折率がガラス基板の屈折率（１．５１）と同等となることが知られているが、このような知見に基づいても、所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラスを得ることができる。
上記第２の実施形態では、金属酸化物の微粒子をコーティング液に分散させ、ゾルゲル法により透明層を形成して所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラス基板を得たが、所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラスの作製方法はこれに限られない。例えば、２種類のアルコキシドを出発原料としてゾルゲル法により透明層を形成することによって、所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラスを得ることができる。また、シリカ（ＳｉＯ2）とチタニア（ＴｉＯ2）の複合酸化物で、チタニア（ＴｉＯ2）の含有量を約１０ｍｏｌ％となるように作製したゾルゲル膜の屈折率がガラス基板の屈折率（１．５１）と同等となることが知られているが、このような知見に基づいても、所定範囲の屈折率差Ｎａ−Ｎｂを示す防眩性ガラスを得ることができる。
本発明の防眩性ガラス基板は、防眩性能を十分に有するため、液晶ディプレイやタッチパネルの透明基板として好適に用いることができる。
１０ 防眩性ガラス基板
１１ ガラス基板
１２ 透明層
１３ 第一の凹凸面
１４ 第二の凹凸面
２１ ガラス基板
２２ 透明層
２３ 平滑面
２４ 凹凸面
３０ 防眩性ガラス基板
３１ ガラス基板
３２ 透明層
３３ 第一の凹凸面
３４ 第二の凹凸面
１１ ガラス基板
１２ 透明層
１３ 第一の凹凸面
１４ 第二の凹凸面
２１ ガラス基板
２２ 透明層
２３ 平滑面
２４ 凹凸面
３０ 防眩性ガラス基板
３１ ガラス基板
３２ 透明層
３３ 第一の凹凸面
３４ 第二の凹凸面
Claims (11)
- ガラス基板と前記ガラス基板の表面に形成された透明層とを備える防眩性ガラス基板であって、
前記ガラス基板の前記表面が第一の凹凸面であり、
前記透明層の前記ガラス基板と接する面の反対側の表面が第二の凹凸面であり、
前記第一の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲にあり、
前記第二の凹凸面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲にある、防眩性ガラス基板。 - 前記第一の凹凸面のピッチと前記第二の凹凸面のピッチの差（ΔＳｍ）が２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲にある、請求項１に記載の防眩性ガラス基板。
- 前記透明層がシリカを主成分とする、請求項１または２に記載の防眩性ガラス基板。
- 前記透明層の厚みが、前記第一の凹凸面の凸部において、０．２μｍ以上２μｍ以下の範囲内である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の防眩性ガラス基板。
- 前記透明層が、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子を含有し、シリカを主成分とする、請求項３または４に記載の防眩性ガラス基板。
- 前記透明層の屈折率をＮａ、前記ガラス基板の屈折率をＮｂとしたとき、
Ｎａ−Ｎｂが、−０．０７以上０．０７以下の関係を満たす、請求項１〜５のいずれか１項に記載の防眩性ガラス基板。 - 前記金属酸化物の微粒子が、酸化スズ（IV）（ＳｎＯ2）、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）、チタニア（ＴｉＯ2）およびジルコニア（ＺｒＯ2）から選ばれる少なくとも１種を含む、請求項６に記載の防眩性ガラス基板。
- 前記第２の凹凸面についての光沢度が１００％以下で、かつ、ヘイズ率が２５％以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の防眩性ガラス基板。
- ガラス基板の表面に、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上０．４μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲である、第一の凹凸面を形成する工程と、
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４μｍ以上０．１８μｍ以下、ピッチ（Ｓｍ）が５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲である第二の凹凸面を前記ガラス基板と接する面の反対側の表面に有する透明層を、前記第一の凹凸面上にコーティング液を塗布し、焼成することによって形成する工程と、を備える防眩性ガラス基板の製造方法。 - 前記コーティング液が、シリコンアルコキシドまたはその加水分解物を含有し、前記透明層がシリカを主成分とする、請求項９に記載の防眩性ガラス基板の製造方法。
- 前記コーティング液が、平均粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物の微粒子をさらに含有する、請求項１０に記載の防眩性ガラス基板の製造方法。
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