JP2013129075A - インモールド転写用ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

【課題】従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与できると共に印刷適性に優れ、かつインモールド転写箔用として十分な成形性を有しており、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間で帯電防止性能にも優れたインモールド転写用ポリエステルフィルムの提供。
【解決手段】艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した３層を含むポリエステルフィルムにおいて、該艶消し層の艶消し面側の光沢度（Ｇ₆₀）が５以上２５以下であり、該艶消し層は平均粒径２．５μｍ以上５．５μｍ以下、かつ最大粒子径が１６μｍ以下の粒子を該層の重量を基準として５重量％以上２５重量％以下の範囲で含有し、帯電防止層側の表面抵抗が１×１０¹¹Ω／□以下であるインモールド転写用ポリエステルフィルム。
【選択図】なし

Description

本発明はインモールド転写用ポリエステルフィルムに関し、更に詳しくは射出成形等において成形と同時に転写印刷するインモールド成形転写用の転写箔の支持フィルムとして有用なフィルムに関する。

従来、インモールド成形転写用の転写箔（以下、インモールド成形転写箔と称することがある）として、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルムをベースフィルムとし、このベースフィルムの表面に離型層（以下、メジューム層と称することがある）を設け、更にその上に印刷層を塗工した積層フィルムが用いられている。
このインモールド成形転写箔は、インモールド成形法を用いて成形品に転写した後に、離型層面と印刷層面との間で剥がされ、分離される。すなわち、成形転写の後に印刷層は成形品の表面に接着して製品として取出され、離型層はベースフィルムに積層した状態で成形後取り除かれる。

インモールド成形転写箔は、取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が発生し、生産性を落とすことがあるため、ベースフィルムの離型層と反対面に帯電防止層を設けたり、さらに帯電防止層中に離型剤を用いる試みがなされている（特許文献１）。
また、従来のインモールド成形転写箔は、クリアな成形品外観を得るために平坦なベースフィルムが用いられていたが、近年、艶消し外観を有する成形品の表面外観についてもインモールド転写法を用いて付与する試みがなされつつある。それに伴い、転写箔のベースフィルムに対して、艶消し外観転写性に優れ、成形性を兼ね備えたベースフィルムが求められるようになってきた。
艶消し外観を得る方法として、例えば特許文献２にはフィルムの片面に光沢度Ｇｓ（６０°）が１０〜４５％であり、かつ１５０℃、１００％伸張時のフィルム強度が０．５〜３．０ｋｇ／ｍｍ²である成形用艶消し積層ポリエステルフィルムが提案されており、艶消し効果が大きいほどフィルムの成形性が悪化する課題を解決する方法として、共押出法により２層以上積層した複合フィルムの一方の層を艶消し層とする構成が提案されている。一方、特許文献２の具体例に係るフィルムは２８〜３０程度のフィルム光沢度であり、更に艶消し性の高い転写が可能な転写用フィルムが求められている。

また、特許文献３には良好な艶消し性と透明性を有する二軸延伸共押出し艶消しポリエステルフィルムが開示されており、積層フィルムの片面に粒径が２〜５μｍの粒子を１〜１０重量％添加することが開示されているものの、具体的に例示されているフィルム光沢度（Ｇ₆₀）は５０〜７０程度であり、成形加工に用いる検討はなされておらず、その際の帯電防止性能についても検討されていない。
特許文献４には艶消しインモールド転写用のベースフィルムとして、Ｒａが２０〜５０ｎｍのベースフィルムが例示されているが、例示されているフィルム光沢度（Ｇ₆₀）は１４０〜１６０である。

このように従来も艶消しフィルムや艶消しインモールド転写用ベースフィルムが検討されているものの、成形品の表面外観に対して従来よりもさらにマットな光沢度４０以下の艶消し外観を付与できるインモールド転写箔はいまだ得られていないのが現状である。
同時に、従来よりもさらにマットな艶消し外観を付与する際に印刷抜けがなく、また艶消し転写用フィルムでありながらインモールド用転写箔の作成過程から成形加工に至る間で帯電防止性能にも優れたインモールド転写箔はいまだ得られていないのが現状である。

特開２００６−１８７９５１号公報 特開平０４−１１０１４７号公報 特開２００２−２００７２３号公報 特開２００７−２６８７０８号公報

本発明の目的は、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与できると共に印刷適性に優れ、かつインモールド転写箔用として十分な成形性を有しており、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間で帯電防止性能にも優れたインモールド転写用ポリエステルフィルムを提供することにある。

本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、インモールド転写法を用いて艶消し外観性を成形品に付与する場合、インモールド転写により従来よりもさらにマットな艶消し外観を成形品表面に付与するべく転写箔フィルム中の粒子径を大きくしたり粒子含有量を増やすと、今度は印刷層を形成する際に印刷抜けが生じること、さらに艶消し層の表面粗化の影響により帯電防止層の帯電防止性能が影響を受けることを見出し、艶消し層に用いる粒子の最大粒子径や、帯電防止層と接する層の表面形状に着目して本発明を完成するに至ったものである。

すなわち本発明の目的は、艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した３層を含むポリエステルフィルムにおいて、該艶消し層の艶消し面側の光沢度（Ｇ₆₀）が５以上２５以下であり、該艶消し層は平均粒径２．５μｍ以上５．５μｍ以下、かつ最大粒子径が１６μｍ以下の粒子を該層の重量を基準として５重量％以上２５重量％以下の範囲で含有し、帯電防止層側の表面抵抗が１×１０¹¹Ω／□以下であるインモールド転写用ポリエステルフィルムによって達成される。

また本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、好ましい態様として、基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として０重量％を超えて３．０重量％以下であること、ポリエステルフィルムの固有粘度（η）が０．５０ｄｌ／ｇ以上０．７０ｄｌ／ｇ以下の範囲であること、艶消し層に含まれる粒子は、ＴＧ−ＤＴＡ法による３００℃での重量変化が０％以上３．０％以下であること、艶消し層中に含まれる粒子が不定形シリカもしくは合成ゼオライトのいずれかであること、帯電防止層中の離型成分の含有量が帯電防止層の重量を基準として１重量％以上５０重量％以下であること、艶消し面側にさらに易接着層を有してなること、工程材用途に用いられること、の少なくともいずれか１つを具備するものも包含する。

本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層の表面形状および積層構成により、転写箔として用いた場合に従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与でき、印刷適性にも優れ、インモールド転写箔用として十分な成形性を有し、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間での帯電防止性能にも優れていることから、艶消し転写に適したインモールド転写箔を提供することができる。

以下、本発明を詳しく説明する。
＜ポリエステルフィルム＞
本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した３層を含むポリエステルフィルムである。以下、基材層及び艶消し層を構成するポリエステルおよび各層について説明する。

（ポリエステル）
本発明において、基材層及び艶消し層はポリエステルで構成されており、かかるポリエステルは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される結晶性の線状飽和ポリエステルである。該ポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが例示される。

ポリエステルはこれらポリエステルのうちの１つを主たる成分とする共重合体であってもよく、またはブレンドしたものであってもよい。ここで「主たる成分」とは、ポリエステルの繰り返し単位のモル数を基準として８０モル％以上である。主たる成分の割合は、好ましくは８５モル％以上、さらに好ましくは９０モル％以上である。また、従たる成分はポリエステルの繰り返し単位のモル数を基準として２０モル％以下であり、好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下である。かかるポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが好ましく、さらにポリエチレンテレフタレートが力学的物性と成形性のバランスがよいので特に好ましい。

（艶消し層）
本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、基材層の一方に艶消し層を有しており、該艶消し層の基材層とは反対側の艶消し面（以下、艶消し層の艶消し面、艶消し層表面などと称することがある）の光沢度（Ｇ₆₀）が５以上２５以下であることが必要である。ここで本発明の光沢度はＪＩＳ規格Ｚ８７４１に準拠し、入射角、受光角ともに６０°で測定した値で定義される。本発明のポリエステルフィルムが該光沢度の艶消し層を有することにより、インモールド転写法により光沢度の低い艶消し表面外観を成形品表面に付与することができる。

光沢度の下限値は好ましくは７であり、より好ましくは９である。また光沢度の上限値は好ましくは２３であり、さらに好ましくは２２である。光沢度を下限値より下げようとすると、過剰に粒子を含むことにより、フィルム製膜性やインモールド成形性が十分でなく、またかかる範囲まで光沢度を低くすることは技術的な困難を伴う。また光沢度が上限値を超える場合、光沢度３０以下の表面外観を成形品表面に形成することが困難である。
艶消し層は上述のポリエステルで構成されており、また本発明の光沢度を得るために艶消し層中に平均粒径が２．５μｍ以上５．５μｍ以下の粒子を艶消し層の重量を基準として５重量％以上２５重量％以下の範囲で含有することが必要である。同時に、艶消し層に含有する粒子の最大粒子径を１６μｍ以下にする必要がある。

粒子の含有量が下限値に満たない場合は成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができない。他方、粒子の含有量が上限値を超えると著しく製膜性が低下し破れが発生しやすくなり、フィルムの製膜自体が困難となる。粒子の含有量は好ましくは５重量％以上２０重量％以下であり、さらに好ましくは１０重量％以上２０重量％以下である。
粒子の平均粒径は、好ましくは３．０μｍ以上５．５μｍ以下、さらに好ましくは３．０μｍ以上５．３μｍ以下である。粒子の平均粒径が下限に満たない場合、光沢度を下げる効果が低下し、光沢度を下げるためにさらに粒子の添加量を増やすと十分な成形性を得ることができない。また粒子の平均粒径が上限値を超える場合、成形品表面に印刷抜けが生じる。

また、粒子の最大粒子径は、好ましくは１５μｍ以下、さらに好ましくは１２μｍ以下である。本発明における最大粒子径は累積粒径分布曲線の９８％における粒径（ｄ₉₈）で表わされる。
粒子の最大粒子径が上限を超える場合は成形品表面に印刷抜けが生じ、印刷適性が低下する。粒子の最大粒子径はかかる範囲にするためには、粒子の平均粒径が本発明の上限を超えないようにする必要がある。

本発明の艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚは５０００ｎｍ以上８０００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは５０００ｎｍ以上７８００ｎｍ以下、さらに好ましくは５２００ｎｍ以上７８００ｎｍ以下である。
艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚがかかる範囲であることにより、転写後の成形品の艶消し外観性を高めつつ印刷抜けをなくすことができる。艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚが下限値に満たない場合、成形品表面に十分な艶消し外観を付与することができないことがある。また、艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚが上限値を超える場合、艶消し外観性は良好であるものの表面の凹凸が激し過ぎるために、印刷抜けのような不具合が生じることがある。
艶消し層表面の１０点平均粗さＲｚは、上述の平均粒径および最大粒子径を有する粒子を上述の範囲内で用いることにより得られる。
また、艶消し層の厚みは３〜１０μｍであることが好ましい。

艶消し層に用いられる粒子は、ＴＧ−ＤＴＡ法による３００℃での重量変化が０％以上３．０％以下であることが好ましく、さらには１．５％以上３．０％以下であることが好ましい。粒子の高温重量変化は、具体的にはＴＧ−ＤＴＡ装置により３０℃〜５００℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際の３００℃における重量変化を測定したものである。
該重量変化が上限値を超えると、ポリエステルフィルムの製造工程や成形加工工程で発泡を引き起こしたり分子量を低下させ、フィルムの製膜性や成形加工性を低下させる場合があり、特に粒子を多量に含有させた場合にフィルムの製膜性や成形加工性を著しく低下させることがある。

粒子の種類としては、無機粒子、有機粒子のどちらでもよく、不定形シリカ（コロイドシリカ）、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子の中で、さらに好ましくは不定形シリカもしくは合成ゼオライトのうちの少なくとも１種であり、いずれか１種を用いても併用してもよい。また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。

また、不定形シリカの場合は水分吸着性を低下させるために、シランカップリング剤で表面処理をしたものが好ましい。
特に好ましい粒子は合成ゼオライトであり、合成ゼオライトの吸着性、特に水分吸着性を低下させるために、ｐＨが５以上の酸で粒子形状を崩さない程度の酸処理をしたものが好ましく、さらに３００℃以上の温度で熱処理したものが好ましい。

粒子の形状は特に規定するものではないが、不定形であると粒度分布が広くなり、凝集による粗大突起を引き起こしやすく、印刷抜けが生じることがある。したがって粒子の形状は球状もしくは多面状であることが好ましい。好ましい粒子として、球状もしくは多面状の合成ゼオライトが例示される。また多面形状の粒子の場合は艶消し効果が得られやすい。多面形状の粒子の中でも、特に立方体形状の粒子が好ましい。
これらの粒子の添加方法は特に制限されないが、例えばポリエステルの重縮合中のグリコール分散系に添加する方法、または押出中マスターバッチを介して艶消し層に添加する方法が挙げられる。

（基材層）
本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層と帯電防止層との間に基材層を有する。基材層を有することにより、十分なインモールド成形性が得られ、また基材層上に設けられた帯電防止層の表面抵抗特性を高めることができる。基材層を有していない場合、粒子を多量に含む艶消し層と帯電防止層だけでは十分なインモールド成形性が得られず、また艶消し層の粗い表面上に直接帯電防止層を設けると、帯電防止層も平坦でないために十分な帯電防止性を得ることが困難となる。

基材層はポリエステルで構成されており、また基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として０重量％を超えて３．０重量％以下である。粒子を含む場合、基材層中の粒子の濃度は、より好ましくは２．５重量％以下、さらに好ましくは２．０重量％以下の範囲である。
基材層中の粒子の含有量が上限値を超える場合、インモールド成形性や帯電防止層の表面抵抗特性が低下することがある。

基材層に用いられる粒子の種類は、通常フィルムに添加される粒子であれば特に限定されず、無機粒子、有機粒子のいずれでもよい。具体的には不定形シリカ（コロイドシリカ）、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが挙げられる。これらの粒子のうちの１種、または２種以上の異なる粒子を含有させてもよく、また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。

基材層には、本発明の目的を損なわない範囲であればポリエステル以外の他の樹脂、着色剤、帯電防止剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を必要に応じて含有することもできる。
基材層の厚みは４０μｍ〜５０μｍであることが好ましい。

（帯電防止層）
本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、基材層の一方に帯電防止層を有し、帯電防止層の表面抵抗が１×１０¹¹Ω／□以下であることが必要であり、１×１０¹⁰Ω／□以下であることが好ましい。
かかる帯電防止層を有することにより、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。
ここで表面抵抗とは、固有抵抗測定器を用いて測定温度２３℃、測定湿度６０％の条件で印加電圧１００Ｖで１分後の表面固有抵抗値（Ω／□）を意味する。

かかる帯電防止性能を得るためには、帯電防止層中に帯電防止剤を所定量用いることに加え、帯電防止層を設ける基材層の表面に一定の平坦性が求められ、基材層が粒子を含有しないか、粒子を含有する場合は３．０重量％以下の範囲の含有量であることにより得られる。
帯電防止層には帯電防止成分および離型成分が含有されていることが好ましい。帯電防止成分を含むことで優れた表面抵抗特性が得られ、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。また離型成分を含むことにより、フィルム同士の貼付きなどのブロッキングを防止することができる。

（離型成分）
帯電防止層に含まれる離型成分は、フィルム背面への転写が発生しない種類のものが好ましく、反応基を有するシリコーンや炭素数６以上の炭化水素基を有するシリコーンが例示される。このようなシリコーンを離型成分として用いることにより、フィルム背面への転写が発生せず、印刷層の成型物への転写不具合が生じにくくなる。
反応基を有するシリコーンは、好ましくはケイ素原子に直接結合した反応基を有し、アミノ基を含む有機基、エポキシ基を含む有機基、カルボン酸基を含む有機基、シラノール基もしくは加水分解によりシラノール基を生成する有機基から選ばれる反応基を１種以上含有する。

この反応基を有するシリコーンは、種類の異なる反応基を有するシリコーンの混合体でもよい。かかる反応基を有するシリコーンは分子量が１０００〜５０００００であることが好ましい。１０００未満であると背面へ転写しやすくなることがあり、５０００００を超えると粘性が高くなりハンドリングしにくくなることがある。
炭素数６以上の炭化水素基を有するシリコーンとして、炭素数６以上のアルキル変性シリコーン、炭素数６以上のアラルキル変性シリコーン、炭素数６以上のアルキルアラルキル共変性シリコーン、アリール変性シリコーンが例示される。

離型成分には、かかるシリコーン成分以外にワックスなどの通常離型剤として用いられる剤を従たる成分として使用してもよいが、シリコーン以外の離型剤はシリコーン成分より少ない範囲で本発明の目的を損なわない範囲内で用いられる。
かかる離型成分は、帯電防止層の重量を基準として１重量％以上５０重量％以下の範囲で含有されることが好ましい。また離型成の含有量の下限値は、より好ましくは５重量％、さらに好ましくは７重量％であり、離型成の含有量の上限値は、より好ましくは４０重量％、さらに好ましくは３０重量％、特に好ましくは２０重量％、最も好ましくは１５重量％である。離型成分の含有量が下限値に満たないと印刷層との貼付きが発生することがあり、一方、上限値を超える場合は塗膜均一性が低下することがある。

（帯電防止成分）
帯電防止層は、帯電防止成分としてカチオンポリマーを含むことが好ましい。カチオンポリマーとして、以下のモノマー成分（ａ）、非反応モノマー成分（ｂ）、反応性モノマー成分（ｃ）を含むカチオンポリマーが例示される。

カチオンポリマーを構成するモノマー成分（ａ）として、下記式（１）で表されるモノマー成分（ａ）が挙げられる。

（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれＨまたはＣＨ_３、Ｒ^３は炭素数が２〜１０のアルキレン基、Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ炭素数が１〜５の飽和炭化水素基、Ｒ^６はＨまたは炭素数が２〜１０のヒドロキシアルキレン基、Ｙ⁻はハロゲンイオン、ナイトレートイオン、サルフェートイオン、アルキルサルフェートイオン、スルホネートイオン又はアルキルスルホネートイオンである。）

モノマー成分（ａ）は、カチオンポリマーあたり３０〜９０モル％の範囲で用いることが好ましい。モノマー成分（ａ）の割合が下限値に満たないと十分な表面抵抗値が得られないことがある。一方、モノマー成分（ａ）の割合が上限値を超えると塗膜の耐水性が低下し、水洗浄後の帯電防止性が低下することがある。

カチオンポリマーを構成する非反応モノマー成分（ｂ）としては、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、スチレン、αーメチルスチレンを例示することができる。
非反応性モノマー成分（ｂ）は、カチオンポリマーあたり１０〜６９モル％の範囲で用いることが好ましい。非反応性モノマー成分（ｂ）の割合が下限値に満たないと基材層との密着性や塗膜の凝集性が低くなることがある。一方、非反応性モノマー成分（ｂ）の割合が上限値を超えると帯電防止性が低くなることがある。

カチオンポリマーを構成する反応性モノマー成分（ｃ）としては、２ーヒドロキシエチルアクリレート、２ーヒドロキシエチルメタクリレート、２ーヒドロキシプロピルアクリレート、２ーヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基またはその塩を含有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎーアルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート等のイソシアネート含有モノマーを例示することができる。

かかる反応性モノマー成分（ｃ）は、カチオンポリマーあたり１〜４０モル％の範囲で用いることが好ましい。反応性モノマー成分（ｃ）の割合が下限値に満たないと耐水帯電防止性が低下し、水洗浄後の帯電防止性が低下することがある。一方、反応性モノマー成分（ｃ）の割合が上限値を越えると架橋点が多くなり塗膜の造膜性が低下することがある。
帯電防止成分は、帯電防止層の重量を基準として５０重量％以上９９重量％以下の範囲で含有されることが好ましい。

（架橋剤）
帯電防止層には、塗膜の凝集力向上や加熱時の析出オリゴマー抑制させるためにさらに架橋剤を添加させることが好ましい。架橋剤としては、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、メラミン化合物、イソシアネート化合物を例示することができ、その他カップリング剤を用いることもできる。取り扱い易さや塗液のポットライフが長いことからエポキシ化合物、オキサゾリン化合物を用いることが好ましく、カップリング剤を用いることも好ましい。

架橋剤として、さらに具体的には、以下のものが例示される。
エポキシ化合物は、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物、グリシジルアミン化合物等が挙げられる。
オキサゾリン化合物としては、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作成できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン等を挙げることができ、これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に制限されない。

メラミン化合物は、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等を反応させてエーテル化した化合物及びそれらの混合物が好ましい。メチロールメラミン誘導体としては、例えば、モノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。

イソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、１，６−ジイソシアネートヘキサン、トリレンジイソシアネートとヘキサントリオールの付加物、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ポリオール変性ジフェニルメタン−４、４´−ジイソシアネート、カルボジイミド変性ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３´−ビトリレン−４，４´ジイソシアネート、３，３´ジメチルジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。

カップリング剤は、例えばシランカップリング剤が挙げられ、一般式ＹＲＳｉＸ_３で示される化合物である。ここで、Ｙはビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基といった有機官能基、Ｒはメチレン、エチレン、プロピレン基といったアルキレン基、Ｘはメトキシ基、エトキシ基といった加水分解基及びアルキル基である。Ｙ部分がエポキシ基であることが特に好ましい。好ましいシランカップリング剤は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランである。
またシランカップリング剤以外のカップリング剤としては、ジルコニウム、チタン、アルミニウムといった金属を含む有機金属化合物を用いることができる。

架橋剤を用いる場合、架橋剤の添加量は帯電防止層の重量を基準として５〜３０重量％であることが好ましい。架橋剤の添加量が下限値に満たないと塗布層の凝集力が低くなり耐久性が低下することがある。一方、架橋剤の添加量が上限値を超えると塗布層の造膜性が悪くなり塗布外観が低下することがある。
帯電防止層は、塗布により基材層の一方の面で艶消し層と反対側の面上に設けられることが好ましい。帯電防止層の厚みは、乾燥後の厚みとして、好ましくは０．０１〜０．１μｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．０６μｍである。帯電防止層の厚みが下限値に満たないと帯電防止性が不十分となることがあり、また上限を超えると転写箔同士のブロッキングを起こし易くなることがある。

（易接着層）
本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、離型層（メジューム層）との接着性を高める目的でさらに艶消し面側に易接着層を有することが好ましい。易接着層は塗布により設けられた易接着性の塗布層であることが好ましい。易接着層には、インモールド用転写箔として用いるときに設けられる離型層との高い接着性を得るために共重合ポリエステルを使用することが好ましい。

（共重合ポリエステル）
易接着層を構成する共重合ポリエステルは、二次転移点（Ｔｇ）が４０℃以上８５℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは４５℃以上８０℃以下である。共重合ポリエステルのＴｇが下限値に満たない場合、易接着層の耐熱性が十分でないことがあり、また耐ブロッキング性が十分でないことがある。他方、共重合ポリエステルのＴｇが上限値を超えるとポリエステルフィルムと離型層との接着性が十分でないことがある。

さらに、この共重合ポリエステルはジカルボン酸成分とポリオール成分からなり、共重合ポリエステルの全酸成分を基準として金属塩基を有するジカルボン酸成分を９ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下の範囲で共重合した線状ポリエステルであることが好ましい。金属塩基を有するジカルボン酸成分の共重合割合が下限値に満たない場合、易接着層の耐溶剤性が十分に向上しないことがあり、他方、上限値を超えると離型層と易接着層との接着性が低下することがある。
前記金属塩基を有するジカルボン酸は、酸化合物中にＳＯ₃Ｍ基やＣＯＯＭ基（ＭはＮａ、Ｋ、Ｌｉ、ＮＨ₄等）等の官能基を有するものであることが好ましく、中でもスルホン酸の金属塩基を有するものが好ましい。

本発明の共重合ポリエステルを形成する金属塩基を有するジカルボン酸成分以外のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、フェニルインダンジカルボン酸、ダイマー酸を例示することができる。これらの成分は２種以上を用いることができる。
更にこれらの成分とともに、不飽和多塩基酸やヒドロキシカルボン酸を少割合用いることができ、共重合ポリエステルを構成する全酸成分を基準として１０モル％以下の範囲で用いることが好ましく、５モル％以下で用いることがさらに好ましい。

また、共重合ポリエステルを形成するポリオール成分として、エチレングリコール、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、１，４−ブタンジオールが好ましく、二次転移点をかかる範囲にするために２種以上を用いることが好ましい。
また共重合ポリエステル樹脂として、変性ポリエステル共重合体、例えば前記ポリエステル共重合体をアクリル、ポリウレタン、シリコーン、エポキシ、フェノール樹脂等で変性したブロック重合体、あるいはグラフト重合体を用いることもできる。

共重合ポリエステルの含有量は、易接着層の重量を基準として６５重量％以上９８重量％以下であることが好ましく、さらに７０重量％以上９５重量％以下であることが好ましい。
共重合ポリエステルの含有量が６５重量％未満の場合、離型層と易接着層との密着性が低下することがある。また共重合ポリエステルの含有量が９８重量％を超える場合、金属塩基を有するジカルボン酸成分が相対的に増えることで耐溶剤性は向上するものの接着性が低下することがある。

（架橋剤）
易接着層には前述した帯電防止層と同様の架橋剤を加えることが好ましい。中でもオキサゾリン基を有するアクリル共重合体が特に好ましい。

（他添加剤）
易接着層には、その他の添加剤として粒子や界面活性剤を添加してもよい。粒子は公知の粒子を用いることができ、酸化珪素、酸化アルミニウム、架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子が特に好ましい。また、本易接着層にはバインダー成分として前記共重合ポリエステルとともにアクリル共重合体を本発明の課題を損なわない範囲で少量用いてもよい。

（フィルム特性）
＜固有粘度＞
ポリエステルフィルムの固有粘度（η）は０．５０ｄｌ／ｇ以上０．７０ｄｌ／ｇ以下の範囲であることが好ましい。かかる固有粘度は３５℃のｏ−クロロフェノール溶液での測定値で表わされる。フィルムの固有粘度の下限値は、好ましくは０．５２ｄｌ／ｇである。またフィルムの固有粘度の上限値は、好ましくは０．６５ｄｌ／ｇであり、さらに好ましくは０．６０ｄｌ／ｇである。フィルムの固有粘度が下限値に満たない場合、インモールド成形の際に著しく破れが発生し易くなる。他方、フィルムの固有粘度が上限値を超えるようになると粘度が高くなりすぎ、フィルムの製造工程での負荷が増大し、生産性が低下する。

＜フィルム厚み＞
本発明のポリエステルフィルムはインモールド転写箔用フィルムとして使用される厚さを有していれば良く、好ましくは１０〜１５０μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍ、特に好ましくは４５〜７０μｍである。
本発明のポリエステルフィルムは、ｄＦ１０／ｄＳが０．１０Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以上、０．３０Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以下であることが好ましく、０．１５Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以上、０．２５Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以下であることがさらに好ましい。ここで、ｄＦ１０／ｄＳとは、フィルムの荷伸曲線における１０％伸長時の曲線勾配のことである。このｄＦ１０／ｄＳが上限値を超えると成形時の応力が高くなり、破れなどのトラブルの原因となることがある。他方、このｄＦ１０／ｄＳが下限値に満たないとフィルムの表面性や耐熱性、寸法安定性が低下することがある。
かかるｄＦ１０／ｄＳ特性を有するポリエステルフィルムは、製造方法に記載の延伸温度、延伸倍率および熱固定処理により製造することができる。

（フィルム製造方法）
本発明のポリエステルフィルムは、例えば次の方法で製造することができる。すなわち艶消し層および基材層を共押出法により積層押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて非晶未延伸フィルムとし、次いで縦方向（以下、機械軸方向、連続製膜方向、長手方向またはＭＤ方向と称することがある）および横方向（以下、幅方向、ＴＤ方向と称することがある）に延伸する。
縦方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で縦方向に２．０〜４．０倍、好ましくは２．５〜３．５倍延伸する。横方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で２．０〜４．０倍、好ましくは３．０〜４．０倍延伸する。なお、二軸延伸後の面積倍率は１３以下であることが好ましい。また、一方向の延伸は２段以上の多段で行う方法を用いることもできるが、最終的な延伸倍率は前述の範囲内にあることが好ましい。

なお、フィルムの延伸後には熱固定処理を行なうことが好ましい。熱固定処理は、最終延伸温度より高く融点以下の温度範囲で１〜３０秒間行なうことが好ましい。例えばポリエチレンテレフタレートフィルムでは１５０〜２５０℃の温度、２〜３０秒の時間の範囲で選択して熱固定することが好ましい。その際、２０％以内の制限収縮もしくは伸長、または定長下で行ない、また２段以上で行なってもよい。
帯電防止層は、基材層の艶消し層と反対側の面に、帯電防止層の形成成分を含む塗剤を塗布することにより設けられる。塗布時のフィルムとして結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムが好ましい。この場合、塗布後はフィルムに結晶配向を完了させる延伸処理、更には熱固定処理を施すことが好ましい。

また、易接着層を設ける場合、易接着層の形成成分を含む塗剤をポリエステルフィルムの艶消し層上に塗布することが好ましく、帯電防止層を設ける時に易接着層も設けることが好ましい。
この結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとしては、ポリエステルを熱溶融してそのままフィルム状となした未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に延伸せしめた一軸延伸フィルム、縦方向及び横方向の二方向に低倍率で延伸せしめたもの（最終的に縦方向または横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）を例示することができる。
ポリエステルフィルムへの塗剤の塗布方法としては、任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法を単独または組合せて適用すると良い。

本発明における塗剤は、帯電防止層および易接着層を形成させるために、水溶性液、あるいは水分散液、乳化液等の形態、すなわち水性塗剤であることが好ましいが、有機溶剤を溶媒とすることも可能である。水性塗剤には、塗剤の安定性または塗剤の塗工性を助ける目的で若干量の有機溶剤を含ませてもよい。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ｎ−ヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパンノール、イソプロパノールを例示することができる。これらは単独で、もしくは２種以上を組合せて用いることができる。

本発明における塗剤、特に水性液には、本発明の目的を損なわない範囲において、ポリエステルフィルムへの濡れ性を向上させるために界面活性剤を組み合せることができる。かかる界面活性剤は、公知の界面活性剤、例えばアルキレンオキサイド系重合体などノニオン系界面活性剤、４級アンモニウム塩を有する化合物、アルキルピリジニウム塩を有する化合物、スルホン酸塩を有する化合物などのカチオン系またはアニオン系界面活性剤を用いることができる。界面活性剤を添加する場合、該塗剤の表面張力を５０dyne/cm以下、好ましくは４０dyne/cm以下にすることが好ましい。
塗剤の固形分濃度は、通常、塗剤の重量を基準として０．５〜３０重量％であることが好ましい。かかる固形分組成は、ポリエステルフィルムに形成される帯電防止層、易接着層のそれぞれの組成と一致する。

塗剤の塗布量は走行しているフィルム１ｍ²当たり３〜５０ｇ、さらには５〜４０ｇが好ましい。最終的に乾燥して得られる塗膜（易接着層）の厚さは、０．０１〜０．３μｍであることが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜０．２μｍである。塗膜の厚さが０．０１μｍ未満であると接着性が不十分となることがあり、他方０．３μｍを超えるとブロッキングを起こし易くなることがある。塗布後、乾燥することにより、均一な塗膜となる。
本発明においては、ポリエステルフィルムに塗剤を塗布した後、乾燥、好ましくは延伸処理を行なうが、この乾燥は９０〜１３０℃で２〜２０秒間行なうのが好ましい。この乾燥は延伸処理の予熱処理ないし延伸時の加熱処理を兼ねることができる。

（インモールド転写箔）
本発明の艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した３層を含むポリエステルフィルムはインモールド転写用途に用いられ、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与できると共に印刷適性に優れ、かつインモールド転写箔用として十分な成形性を有しており、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間で帯電防止性能、さらには耐ブロッキング性能にも優れるものである。
具体的には本発明のポリエステルフィルムを転写箔として用い、インモールド転写を行うことにより、成形品表面に３０以下の光沢度の艶消し外観を付与することができる。

本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し面側にさらに易接着層を有することが好ましく、易接着層上にさらに離型層（メジューム層）および印刷層を形成した態様で用いることができ、これらの積層フィルムがインモールド転写箔として用いられる。インモールド成形を行う際は、印刷層が成形品の表面と接するよう金型に配置し、通常用いられる方法によってインモールド成形を行い、印刷層を成形転写した後に印刷層は成形品表面に接着して製品として取り出され、その他の部分は製品から取り除かれる形で使用され、インモールド転写による成形品製造の工程材用途として好適に使用される。

以下、実施例をあげて本発明をさらに説明する。なお、例中の特性は、次の方法で求めた。

１．光沢度（Ｇ₆₀）
ＪＩＳ規格（Ｚ８７４１）に準拠し、日本電色工業（株）製のグロスメーター「ＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲ」を用いて測定した。入射角、受光角ともに６０°にてＮ＝５づつ測定し、その平均値を用いた。さらに以下の基準で艶消し性を判断した。
◎：５以上１８以下 ・・・艶消し性極めて良好
○：１８を超え２５以下 ・・・艶消し性良好
×：２５を超える ・・・艶消し性不良

２．粒子の平均粒径、最大粒子径(d₉₈)
粒子をエチレングリコール中に３％の濃度になるようにミキサーで攪拌し、島津製作所製レーザー散乱式粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７０００を用いて測定を行った。粒度分布測定結果から５０％体積粒径（Ｄ５０）を求め、これを平均粒径とした。
また、最大粒子径はメジアン粒径d₉₈とした。なおd₉₈の値は累積粒径分布曲線の９８％における粒径である。

３．粒子の含有量
ポリエステル樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、フィルムサンプルを溶解処理した後、粒子をポリエステル樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって粒子の含有量とする。

４．帯電防止性
サンプルフィルムの帯電防止層表面の表面固有抵抗を、タケダ理研社製・固有抵抗測定器を使用し、測定温度２３℃、測定湿度６０％の条件で、印加電圧１００Ｖで１分後の表面固有抵抗値（Ω／□）を測定し、以下の基準にて判断した。
○：１×１０¹¹Ω／□以下 ・・・・帯電防止性良好
×：１×１０¹¹Ω／□を超える ・・・帯電防止性不良

５．フィルムの各層厚み
サンプルを三角形に切り出し、包埋カプセルに固定後、エポキシ樹脂にて包埋した。そして、包埋されたサンプルをミクロトーム（ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｓ）で縦方向に平行な断面を５０ｎｍ厚の薄膜切片にした後、透過型電子顕微鏡を用いて、加速電圧１００ｋｖにて観察撮影し、写真から各層の厚みを１０点ずつ測定し、それぞれの層について平均厚みを求めた。艶消し層については、粒子の存在しない部分について測定した。

６．１０点平均粗さＲｚ
ＪＩＳ−Ｂ０６０１、Ｂ０６５１に従い、３次元表面粗さ計（（株）小坂研究所製、商品名：ＳＵＲＦ ＣＯＲＤＥＲ ＳＥ−３ＣＫ）を使用して、触針先端Ｒ２μｍ、走査ピッチ２μｍ、走査長１ｍｍ、走査本数１００本、カットオフ０．２５ｍｍ、倍率５０００倍の条件にて、１０点平均粗さＲｚを測定した。

７．艶消し層に含まれる粒子の加熱後の重量変化
ＴＧ−ＤＴＡ装置（ＳＩＩ社製、ＳＳＣ５２００ ＴＧ／ＤＴＡ２２０）を用い、３０℃〜５００℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際の３００℃における粒子の重量減少率（％）より求めた。

８．固有粘度
固有粘度（［η］）（単位：ｄｌ／ｇ）は、３５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。表２に記載の値はフィルムについての測定値である。

９．成形性
金型にインモールド転写箔を絵柄層（インク）側が射出側となるように設置し、１０ｃｍ角の大きさで、立ち上がり１５ｍｍ、コーナー部のＲが２ｍｍのトレー状成形品を射出成形した。この時、成形用の樹脂には、ポリカーボネート／ＡＢＳ樹脂アロイを用い、樹脂温度２６０℃、金型温度５０℃、樹脂圧力約３５０ＭＰａとした。トレー状成形品から、離型層と絵柄層の界面で転写箔を剥離し、加飾された成形部品を得た。
本工程における状況を、以下の指標により評価した。
○：フィルムが破れず、シワも無い
×：フィルムが破れた、もしくは大量のシワが発生

１０．成形品の艶消し性
成型性評価と同様の方法にて成型部品を得て、成型部品の光沢度（Ｇ₆₀）の結果を以下のような指標により評価をおこなった。
○：３０以下・・・成型部品の艶消し性良好
×：３０を超える・・・成型部品の艶消し性不良

１１．印刷適性
フィルムの艶消し層上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン／トルエン溶液を塗布し、１μｍ厚さの離型層の膜を形成した。ここで、１μｍ厚さの調整は、粒子を含まない平滑なポリエチレンテレフタレートフィルム上で厚み１μｍになるように溶液濃度を調整し、厚みを確認した上で、同条件で艶消し層側に塗布する方法で行った。
その上にウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化型ハードコート層（厚さ５μｍ）を全面にグラビア印刷法により印刷し、さらにそのうえにアクリル樹脂系インキにて図柄層をグラビア印刷法により印刷した。結果を以下のような基準にて評価した。なお、艶消し層上にさらに易接着層を有する場合は、易接着層上に上記離型層の膜を形成して印刷適性を評価した。
○：印刷外観良好
×：図柄層が不鮮明（抜け等が発生）

１２．接着力評価
フィルムの艶消し層上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン／トルエン溶液を塗布し、１μｍ厚さの離型層の膜を形成させ、縦１００ｍｍ×横２０ｍｍの短冊状としたサンプルを、引張試験機を用いて１６０℃の加熱雰囲気下で長手方向に５０％伸長させた後、室温に１分放置した後に、離型層上にセロハンテープ（ニチバン社製登録商標）を貼り付けて親指で１０回擦り、その後セロハンテープを９０°の剥離角度で急激にはがすセロテープ剥離試験を行い、表面状態を観察した。○の状態が実用性能を満足する。なお、易接着層を有する場合は易接着層上にメラミン樹脂離型層を形成した。
○：変化無し
△：一部分が剥離

１３．耐ブロッキング性
サンプルフィルムの帯電防止層面とインモールド用転写箔の印刷面との耐ブロッキング性を評価するためスタンピングホイルの顔料箔（COLORIT）Ｐタイプ（クルツ社製）を使用して、帯電防止面と印刷面を合わせ、温度６０℃、圧力１ｋｇ／ｃｍ²を加えて、２４時間その環境に保持した後、帯電防止層面とラベルのシール面のブロッキング状態を観察し、下記の基準で評価した。
○：変化無し
△：一部分が剥離

［実施例１〜９、比較例１〜８］
ポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．６３ｄｌ／ｇ）に表１に示す通りの粒子を艶消し層（Ａ）、基材層（Ｂ）にそれぞれ添加し、２８０℃に加熱された押出機から供給し、Ａ層ポリマー、Ｂ層ポリマーをＡ／Ｂとなるような２層フィードブロック装置を用い（ただし、比較例１ではＡ／Ｂ／Ａの３層になるようなフィードブロックを用いた）合流させ、その積層状態を維持したままダイスよりシートを２０℃に維持した回転冷却ドラム上に溶融押出して未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを縦方向に３．４倍延伸し、その後、表１に記載の塗布層成分（易接着層：４重量％、帯電防止層３重量％）をそれぞれロールコーターで均一に塗布した。この塗布フィルムを引き続いて１０５℃で乾燥し、１４０℃で横方向に３．５倍に延伸し、更に２３０℃で熱固定して表に示す塗布膜を有する２軸延伸ポリエステルフィルム（厚さ５０μｍ）を得た。各々のフィルムの評価結果を表２に示す。

表１で用いた成分は以下の通りである
共重合ポリエステル： 酸成分がテレフタル酸５０モル％／イソフタル酸４５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝４０℃）。ポリエステルは、下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル３０部、イソフタル酸ジメチル２７部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル５部、エチレングリコール３６部、ジエチレングリコール３部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．０５部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に２５５℃まで上昇させ系内を１ｍｍＨｇの減圧にして重縮合反応を行い、共重合ポリエステルを得た。なおかかる共重合ポリエステルの製造方法は、特開平０６−１１６４８７号公報の実施例１に記載の方法に準じたものである。

カチオンポリマー： 下記式（１）に示す構造が８０モル％／メチルアクリレート１５モル％／Ｎ−メチロールアクリルアミド５モル％からなる共重合体である。

（上式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれＨであり、Ｒ^３は炭素数が３のアルキレン基であり、Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ炭素数が１の飽和炭化水素基であり、Ｒ^６は炭素数が３のヒドロキシアルキレン基であり、Ｙ⁻はメチルスルホネートイオンである。）

離型剤１： アミノ基含有シリコーン（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 商品名ＴＳＦ４７００）
離型剤２： ポリエチレンワックス（中京油脂株式会社製 商品名ポロリンＬ−６１８）
架橋剤： オキサゾリン化合物（株式会社日本触媒製 商品名エポクロスＷＳ−７００）
界面活性剤： ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成株式会社製 商品名ナロアクティーＮ−７０）

実施例のフィルムは、従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品に付与することができ、かつ成形品の印刷適性および極めて優れた帯電防止性能を有し、耐ブロッキング性能、インモールド成形性にも優れた艶消しインモールド転写箔用ベースフィルムが得られた。

一方、比較例１のフィルムは、艶消し性に優れていたものの、表面の粗い艶消し層上に帯電防止層が設けられており、帯電防止性が十分ではなかった。
また、比較例２、６のフィルムは艶消し性が十分ではなく、得られた成形品の艶消し性も十分ではなかった。比較例６は帯電防止層を有していないために、帯電防止性、耐ブロッキング性も十分ではなかった。

比較例３のフィルムは艶消し層の粒子濃度が高すぎたため、フィルム製膜時に破れなどが生じフィルムを製膜することが困難であった。
比較例４は、フィルムでの艶消し性は良好であったものの、離型層を介して転写された成形品は、フィルムの艶消し表面が十分に転写されておらず、得られた成形品の艶消し性は十分ではなかった。

比較例５のフィルムは艶消し性、成型性は良好であったが、艶消し層の最大粒子径が大きすぎるため、印刷適性が不十分であった。
比較例７、８のフィルムは、艶消し性は良好であったが、基材層中に粒子を多く含み、その表面粗さに起因して帯電防止性、成形性が十分ではなかった。

本発明のインモールド転写用ポリエステルフィルムは、艶消し層の表面形状および積層構成により、転写箔として用いた場合に従来よりもさらに優れた艶消し外観を成形品表面に付与でき、印刷適性にも優れ、インモールド転写箔用として十分な成形性を有し、インモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間での帯電防止性能にも優れていることから、艶消し転写に適したインモールド転写箔を提供することができる。

Claims (8)

1. 艶消し層、基材層、帯電防止層をこの順で積層した３層を含むポリエステルフィルムにおいて、該艶消し層の艶消し面側の光沢度（Ｇ₆₀）が５以上２５以下であり、該艶消し層は平均粒径２．５μｍ以上５．５μｍ以下、かつ最大粒子径が１６μｍ以下の粒子を該層の重量を基準として５重量％以上２５重量％以下の範囲で含有し、帯電防止層側の表面抵抗が１×１０¹¹Ω／□以下であることを特徴とするインモールド転写用ポリエステルフィルム。
2. 基材層は粒子を含有しないか、または粒子の含有量が基材層の重量を基準として０重量％を超えて３．０重量％以下である請求項１に記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。
3. ポリエステルフィルムの固有粘度（η）が０．５０ｄｌ／ｇ以上０．７０ｄｌ／ｇ以下の範囲である請求項１または２に記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。
4. 艶消し層に含まれる粒子は、ＴＧ−ＤＴＡ法による３００℃での重量変化が０％以上３．０％以下である請求項１〜３のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。
5. 艶消し層中に含まれる粒子が不定形シリカもしくは合成ゼオライトのいずれかである請求項１〜４のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。
6. 帯電防止層中の離型成分の含有量が帯電防止層の重量を基準として１重量％以上５０重量％以下である請求項１〜５のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。
7. 艶消し面側にさらに易接着層を有してなる請求項１〜６のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。
8. 工程材用途に用いられる請求項１〜７のいずれかに記載のインモールド転写用ポリエステルフィルム。