JP2011173372A - インモールド転写用積層フィルムおよびそれからなるインモールド転写工程部材 - Google Patents

Abstract

【課題】優れた艶消し外観を有し、かつインモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間における優れた帯電防止性能を備え、印刷層とのブロッキングのない、艶消し性インモールド用転写箔の基材フィルムとして有用なインモールド転写用フィルムを提供する。
【解決手段】ポリエステルフィルムおよびその片面に帯電防止層が設けられた積層フィルムであり、該ポリエステルフィルムが平均粒径１μｍ以上５μｍ以下の粒子をポリエステルフィルムの重量を基準として１．０重量％以上３．５重量％以下含み、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面側の表面光沢度（Ｇ₆₀）が２５以上７０以下であり、該帯電防止層が反応基を有するシリコーン成分及び帯電防止成分を含有するインモールド転写用積層フィルムにより達成される。
【選択図】なし

Description

本発明はインモールド転写用積層フィルムおよびそれからなるインモールド転写工程部材に関し、更に詳しくは艶消し外観を有し、同時に優れた帯電防止性能を備え、印刷層とのブロッキングのないインモールド転写用積層フィルムおよびそれからなるインモールド転写工程部材に関する。

従来、インモールド用転写箔として、ポリエステルフィルムをベースフィルムとし、そのうえに離型層（メジューム層）を設け、さらにこの離型層のうえに印刷層を塗工したものが用いられている。
このインモールド用転写箔は、成形転写後に離型層面と印刷層面との間で剥がされ、分離される。すなわち、成形転写後に印刷層は成形品の表面に接着して製品として取出され、離型層は転写箔のベースフィルムのうえに設けられた状態で製品から取り除かれる。

従来は成形品として表面光沢性のあるクリアな外観が求められることが多く、そのためインモールド成形転写箔には平坦なベースフィルムが用いられていた。近年、艶消し外観を有する成形品の表面外観についてもインモールド転写法を用いて付与する試みがなされつつある。それに伴い、転写箔のベースフィルムに対しても艶消し外観と成形性を兼ね備えたベースフィルムが求められてきている。
艶消し外観を得る方法として、例えば特許文献１には積層フィルムの片面に粒径が２−５μｍで粒径分布が１．９以下の粒子を１〜１０重量％含有する艶消し層を有する共押出し積層フィルムが開示されている。また特許文献２には、艶消しインモールド転写箔用のベースフィルムとして、Ｒａが２０〜５０nmのベースフィルムが例示されているが、例示されている光沢度（Ｇ₆₀）は１４０〜１６０程度であり、十分な艶消し外観には到達していない。

一方、インモールド用転写箔を取り扱う際に、基材のポリエステルフィルムが静電気を帯び、帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面にゴミや埃付着が発生し、印刷図柄に影響を与えたり生産性を落とすことがあり、転写材用ポリエステルフィルムには帯電防止性が付与されることが多い。また、印刷層を塗工したインモールド用転写箔は、生産工程でいったんロール状に巻き取られるため、転写材用ポリエステルフィルムの片面に設けた帯電防止層がロール状態で反対側の印刷層と接することがあり、印刷層とのはりつき防止のために帯電防止層には、帯電防止性、印刷層との離型性も求められる。
しかしながら、優れた艶消し外観を有するインモールド転写に適した転写箔ベースフィルムの開発が進められているものの、同時に優れた帯電防止性能を備え、印刷層とのブロッキングのない艶消し性のインモールド用転写箔は得られていないのが現状である。

特開２００２−２００７２３号公報 特開２００７−２６８７０８号公報

本発明の目的は、優れた艶消し外観を有し、かつインモールド用転写箔作成過程から成形加工に至る間における優れた帯電防止性能を備え、印刷層とのブロッキングのない、艶消し性インモールド用転写箔の基材フィルムとして有用なインモールド転写用フィルムおよびそれからなるインモールド転写工程部材を提供することにある。

本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定粒径の粒子をポリエステルフィルム中に所定量添加して艶消し外観性を得るとともに、該ポリエステルフィルムの片面に反応基を有するシリコーン成分を含む帯電防止層を設けることにより、かかる課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明の目的は、ポリエステルフィルムおよびその片面に帯電防止層が設けられた積層フィルムであり、該ポリエステルフィルムが平均粒径１μｍ以上５μｍ以下の粒子をポリエステルフィルムの重量を基準として１．０重量％以上３．５重量％以下含み、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面側の表面光沢度（Ｇ₆₀）が２５以上７０以下であり、該帯電防止層が反応基を有するシリコーン成分及び帯電防止成分を含有するインモールド転写用積層フィルムによって達成される。

また本発明のインモールド転写用積層フィルムは、好ましい態様として、反応基を有するシリコーン成分がアミノ基を含む有機基、エポキシ基を含む有機基、カルボン酸基を含む有機基、シラノール基および加水分解によりシラノール基を生成する有機基からなる群から選ばれる少なくとも１種の反応基を有するシリコーン成分であること、帯電防止層の表面抵抗が１×１０¹³Ω／□以下であること、帯電防止層中のシリコーン成分の含有量が帯電防止層の重量を基準として１重量％以上５０重量％以下であること、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面にさらに易接着層を設けてなること、の少なくともいずれか１つを具備するものも包含する。
また本発明は、本発明のインモールド転写用積層フィルムからなるインモールド転写工程部材を包含するものである。

本発明のフィルムは優れた艶消し外観を有し、しかも帯電防止性及び離型性に優れるため、インモールド用転写箔を取り扱う際に帯電やブロッキングによる転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着の発生がなく、しかも印刷層とのブロッキングがないことから、高速成形性および高品位な印刷性に適したインモールド転写用フィルムとして好適に用いることができる。また、本発明のインモールド転写用フィルムからなるインモールド転写工程部材を好適に提供できる。

以下、本発明を詳しく説明する。
＜ポリエステルフィルム＞
（ポリエステル）
本発明においてベースフィルムを形成するポリエステルとは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを例示することができる。

ポリエステルは、これらポリエステルのうちの１つを主たる成分とする共重合体であってもよく、またはブレンドしたものであってもよい。ここで「主たる成分」とは、ポリエステルの繰り返し単位のモル数を基準として８０モル％以上である。また主たる成分の割合は、８５モル％以上であることが好ましく、９０モル％以上であることがさらに好ましい。また、従たる成分はポリエステルの繰り返し単位のモル数を基準として２０モル％以下であり、好ましくは１５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下である。
かかるポリエステルの中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが好ましく、さらにポリエチレンテレフタレートが力学的物性と成形性のバランスがよいので特に好ましい。

ポリエステルは、一般に知られたポリエステルの製造方法によって製造できる。例えば、ジオールとジカルボン酸および必要に応じて共重合成分をエステル化反応させ、次いで得られる反応生成物を重縮合反応させてポリエステルとする方法で製造することができる。また、これらの原料モノマーの誘導体をエステル交換反応させ、次いで得られる反応生成物を重縮合反応させてポリエステルとする方法で製造してもよい。

（粒子）
本発明のポリエステルフィルムは、ポリエステルフィルムの重量を基準として平均粒径が１μｍ以上５μｍ以下の粒子を１．０重量％以上３．５重量％以下含むことが必要である。かかる範囲内で粒子を含有することにより、本発明の光沢度、すなわち艶消し性を得ることができる。ここで、本発明の粒子の平均粒径は、走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、商品名：Ｓ−２４００）により、フィルム厚み方向の切断面における粒子を撮影（倍率：２０００倍）し、粒子２０個の粒子径の平均値で表わされる。

粒子の平均粒径は、好ましくは１．１μｍ以上４．０μｍ以下、さらに好ましくは１．２μｍ以上３．５μｍ以下、特に好ましくは２．０μｍ以上３．５μｍ以下である。平均粒径が下限に満たない場合、光沢度を下げる効果が低下するため、本発明の光沢度を得ようとするとさらに粒子の添加量を増やす必要が生じ、成形性の低下につながる。また、平均粒径が上限を超えると成形性の低下につながる。

粒子の含有量は、好ましくは１．１重量％以上３．０重量％以下、より好ましくは１．２重量％以上２．５重量％以下、さらに好ましくは１．２重量％以上２．０重量％以下である。本発明のフィルムはポリエステルベースフィルム中に粒子を含むため、ポリエステルフィルム層自体がインモールド成形性と艶消し性を兼備する必要があるところ、粒子の含有量が下限に満たない場合は本発明の光沢度が得られない。他方、粒子の含有量が上限を越えると十分なインモールド成形性が得られない。

粒子の種類は、無機粒子、有機粒子のうちの少なくとも１種が好ましく、具体的には不定形シリカ（コロイドシリカ）、球状シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。
これらの粒子のうち、２種以上の異なる粒子を含有させてもよく、また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。
これらの粒子は、ポリエステルの重縮合中またはフィルム製膜時に通常用いられる方法で添加することができる。特に、重縮合中のグリコール分散系に添加する方法または押出中にマスターバッチを介して添加する方法が好ましく例示される。

（その他添加剤）
本発明のポリエステルフィルムには、本発明の効果を損なわない範囲内でポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレンターポリマー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂、着色剤、帯電防止剤、触媒、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を必要に応じて含有することもできる。

（光沢度（Ｇ₆₀））
本発明のポリエステルフィルムの表面光沢度Ｇ₆₀）は、帯電防止層と反対面側の表面において２５以上７０以下である。また、かかる表面光沢度の上限値は５０であることが好ましい。ここで本発明の表面光沢度はＪＩＳ規格Ｚ８７４１に準拠し、入射角、受光角ともに６０°で測定した値で定義される。本発明のポリエステルフィルムがかかる光沢度の艶消し外観を有することにより、インモールド転写法を用いて光沢度の低い艶消し表面外観を成形品表面に付与することができる。

表面光沢度はより低い方が艶消し性が向上するが、光沢度を下限値より低くするとインモールド成形性の低下につながる。また光沢度が上限値を超える場合、成形品が用いられる用途によっては艶消し外観が十分でなく、光の反射光が問題となることがある。
かかる表面光沢度は、ポリエステルフィルム中の粒子の平均粒径および含有量を上述の特定範囲にすることにより達成される。

＜帯電防止層＞
本発明のインモールド転写用積層フィルムは、ポリエステルフィルムの片面に帯電防止層が設けられた積層フィルムであり、該帯電防止層は帯電防止成分を含有することに加え、離型剤として反応基を有するシリコーン成分を含有する。かかる層を有することにより、インモールド用転写箔を取り扱う際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着の発生を抑えつつ、同時に印刷層とのブロッキングがなく、高品位な印刷性が得られる。

（帯電防止成分）
本発明の帯電防止層は帯電防止成分を含み、かかる帯電防止成分としてカチオンポリマーを含有することが好ましい。カチオンポリマーは下記式（Ｉ）で表されるモノマー成分（ａ）、非反応性モノマー成分（ｂ）、および反応性モノマー（ｃ）等から構成される。

（上式（Ｉ）中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれＨまたは炭素数１〜３の飽和炭化水素基であり、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ⁴およびＲ⁵はそれぞれ炭素数１〜３の飽和炭化水素基であり、Ｒ⁶はＨまたは炭素数２〜４のヒドロキシアルキレン基であり、Ｙ^-はハロゲンイオン、ナイトレートイオン、サルフェートイオン、アルキルサルフェートイオン、スルホネートイオンまたはアルキルスルホネートイオンである）

なお、Ｒ¹およびＲ²の炭素数１〜３の飽和炭化水素基は、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基であり、Ｒ³の炭素数１〜１０のアルキレン基は、例えばエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基であり、Ｒ⁴およびＲ⁵の炭素数１〜３の飽和炭化水素基は、メチル基、エチル基、プロピル基であり、Ｒ⁶の炭素数２〜４のヒドロキシアルキレン基は、ヒドロキシエチレン基、ヒドロキシトリメチレン基、ヒドロキシテトラメチレン基である。

式（Ｉ）で表わされるモノマー成分（ａ）は、カチオンポリマーあたり好ましくは３０〜９０モル％の範囲で用いることが好ましい。３０モル％未満であると帯電防止性が１×１０^１３Ω／□よりも高くなることがある。一方、９０モル％を超えると塗膜の耐水性が悪くなり水洗浄後の帯電防止性が低下することがある。

非反応性モノマー成分（ｂ）としては、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、スチレン、αーメチルスチレン等を例示することができる。
また、他の非反応性モノマー成分として、ポリアルキレンオキシド鎖を有する非反応性モノマー成分が挙げられ、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付加させたものが例示される。ポリアルキレンオキシド鎖はポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド等を挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は３〜１００であることが好ましい。シリコーン成分との相溶性を向上させるには、ポリアルキレンオキシド鎖を有する非反応性モノマー成分が特に好ましい。

非反応性モノマー成分（ｂ）は、カチオンポリマーあたり好ましくは７０モル％以下の範囲で用いることが好ましい。７０モル％を超えると帯電防止性が低下することがある。また、ポリエステルフィルムとの密着性、塗膜の凝集性の観点から、非反応性モノマー成分は１０モル％以上含まれることが好ましい。

反応性モノマー成分（Ｃ）としては、２ーヒドロキシエチルアクリレート、２ーヒドロキシエチルメタクリレート、２ーヒドロキシプロピルアクリレート、２ーヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基またはその塩を含有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎーアルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、 Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート等のイソシアネート含有モノマーを例示することができる。

反応性モノマー成分（ｃ）は、カチオンポリマーあたり好ましくは１〜４０モル％の範囲で用いることが好ましい。１モル％未満であると耐水帯電防止性が低くなり、５０℃温水に１０時間浸漬した後の表面固有抵抗変化率が１００を越えてしまうことがある。一方、４０モル％を越えると架橋点が多くなり塗膜の造膜性が低下することがある。

帯電防止成分がこれらの条件を満たす成分から構成されることにより、特定の帯電防止性能を有するとともに、塗膜の造膜性、凝集力や塗膜の耐水性、耐薬品に優れる塗膜を得ることができる。
かかる成分を含む帯電防止成分は、帯電防止層の重量を基準として２０重量％以上９０重量％以下の範囲で含有することが好ましい。また帯電防止成分は、３０重量％以上８０重量％以下の範囲で含有することがさらに好ましく、４０重量％以上７０重量％以下の範囲で含有することが特に好ましい。帯電防止成分の含有量が下限に満たないと十分な帯電防止性能が発現しないことがあり、一方、帯電防止成分の含有量が上限を超えると離型剤の離型性が十分に発現しない場合がある。

（シリコーン成分）
本発明のインモールド転写用積層フィルムの帯電防止層は離型剤として反応基を有するシリコーン成分を含有する。反応基を有するシリコーン成分として、好ましくはケイ素原子に直接結合した反応基を有し、さらに詳しくは、アミノ基を含む有機基、エポキシ基を含む有機基、カルボン酸基を含む有機基、シラノール基および加水分解によりシラノール基を生成する有機基からなる群から選ばれる少なくとも１種の反応基を有するシリコーン成分が例示される。また、これらのシリコーン成分は、１種類を単独で使用してもよく、２種類以上を混合して使用してもよい。

アミノ基を含む有酸基としては、３−アミノプロピル基、３−アミノ−２−メチル−プロピル基、２−アミノエチル基といった１級アミノアルキル基、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル基、Ｎ−（２−アミノエチル）−２−アミノエチル基といった１級および２級アミノ基を有する有酸基を例示することができる。

エポキシ基を含む有酸基としては、γ−グリシドキシプロピル基、β−グリシドキシエチル基、γ−グリシドキシ−β−メチル−プロピル基といったグリシドキシアルキル基、２−グリシドキシカルボニル−エチル基、２−グリシドキシカルボニル−プロピル基といったグリシドキシカルボニルアルキル基を例示することができる。

加水分解によりシラノール基を生成する有機基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、２−エチルヘキシロキシ基といったアルコキシ基、メトキシ−β−エトキシ基、エトキシ−β−エトキシ基、ブトキシ−β−エトキシ基といったアルコキシ−β−エトキシ基、アセトキシ基、プロポキシ基等のアシロキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基といったＮ−アルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基といったＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、イミダゾール基、ピロール基といった窒素を含有する複素環基を例示することができる。

シリコーン成分の置換基に占める反応基の割合は、５％以上５０％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１０％以上４５％以下、特に好ましくは２０％以上４０％以下である。反応基数の割合が下限値に満たないと、印刷層と接する際に印刷層にシリコーン成分が転写したり移行しやすいことがある。一方、反応基数の割合が上限値を超えると塗液のポットライフが短くなったり、シリコーン成分同士が寄り集まりやすく、帯電防止剤との相溶性が低下し、塗布斑が目立ち易くなることがある。

かかる反応基を有するシリコーンは平均分子量が１０００〜５０００００であることが好ましい。シリコーンの平均分子量が１０００未満であると、インモールド転写用積層フィルムもしくはインモールド用転写箔における反対側の面に転写しやすくなることがあり、一方、シリコーンの平均分子量が５０００００を超えると粘性が高くなりハンドリングしにくくなることがある。

該シリコーン成分は、帯電防止層中に、帯電防止層の重量を基準として１重量％以上５０重量％以下の範囲で含有されることが好ましい。該シリコーン成分の含有量の下限値は５重量％であることがさらに好ましく、１０重量％であることが特に好ましい。また該シリコーン成分の含有量の上限値は４０重量％以下であることがより好ましく、さらに好ましくは３０重量％、特に好ましくは２０重量％である。該シリコーン成分が下限値に満たないと印刷層との貼付きが発生することがあり、一方、上限値を超えると塗膜均一性が低下することがある。

（架橋剤）
また、帯電防止層には架橋剤を添加させることが塗膜の凝集力向上や加熱時の析出オリゴマー抑制させるために好ましい。架橋剤としては、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、メラミン化合物、イソシアネート化合物を例示することができ、その他一般的にカップリング剤と称される化合物を用いることもできる。取り扱い易さや塗液のポットライフが長いことからエポキシ化合物、オキサゾリン化合物を用いることが好ましく、カップリング剤を用いることも好ましい。

さらに具体的には、以下のように例示することができる。
エポキシ化合物は、ポリエポキシ化合物、ジエポキシ化合物、モノエポキシ化合物などが挙げられ、さらに詳しくはそれらのグリシジルエーテル化合物、グリシジルアミン化合物が例示される。
オキサゾリン化合物として、オキサゾリン基を含有する重合体が好ましい。具体的には付加重合性オキサゾリン基含有モノマー単独もしくは他のモノマーとの重合によって作成できる。付加重合性オキサゾリン基含有モノマーは、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン等を挙げることができ、これらの１種または２種以上の混合物を使用することができる。これらの中でも２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが工業的にも入手しやすく好適である。他のモノマーは、付加重合性オキサゾリン基含有モノマーと共重合可能なモノマーであれば制限なく、例えばアルキルアクリレート、アルキルメタクリレート等のア（メタ）クリル酸エステル類；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等の不飽和カルボン酸類；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアルキルメタクリレート等の不飽和アミド類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類；エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル等の含ハロゲンα、β−不飽和モノマー類；スチレン、α−メチルスチレン、等のα、β−不飽和芳香族モノマー等を挙げることができ、これらの１種または２種以上のモノマーを使用することができる。

なお、アルキル基を含む化合物におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２ーエチルヘキシル基、シクロヘキシル基が例示される。

メラミン化合物は、メラミンとホルムアルデヒドを縮合して得られるメチロールメラミン誘導体に、低級アルコールとしてメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等を反応させてエーテル化した化合物及びそれらの混合物が好ましい。メチロールメラミン誘導体としては、例えば、モノメチロールメラミン、ジメチロールメラミン、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、ヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。

イソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレン−１，６−ジイソシアネート、トリレンジイソシアネートとヘキサントリオールの付加物、トリレンジイソシアネートとトリメチロールプロパンの付加物、ポリオール変性ジフェニルメタン−４、４´−ジイソシアネート、カルボジイミド変性ジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３´−ビトリレン−４，４´ジイソシアネート、３，３´ジメチルジフェニルメタン−４，４´−ジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネート等が挙げられる。

カップリング剤は、例えばシランカップリング剤が挙げられ、一般式ＹＲＳｉＸ_３で示される化合物である。ここで、Ｙはビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基といった有機官能基、Ｒはメチレン、エチレン、プロピレン基といったアルキレン基、Ｘはメトキシ基、エトキシ基といった加水分解基及びアルキル基である。Ｙ部分はエポキシ基であることが特に好ましい。
好ましいシランカップリング剤は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランである。

シランカップリング剤以外のカップリング剤として、ジルコニウム、チタン、アルミニウムといった金属を含む有機金属化合物を用いることができ、具体的にはジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムアセテート、チタンアセチルアセトネート、トリエタノールアミンチタネート、チタンラクテートを例示することができる。

架橋剤を用いる場合、架橋剤の添加量は帯電防止層の重量を基準として好ましくは５〜５０重量％とする。また架橋剤の添加量の上限値は４０重量％であることがより好ましく、３０重量％であることがさらに好ましく、２０重量％であることが特に好ましい。架橋剤の添加量が下限値に満たないと塗布層の凝集力が低くなり耐久性が悪化する場合がある。一方、架橋剤の添加量が上限値を超えると塗布層の造膜性が悪くなり塗布外観が悪化することがある。

本発明において、帯電防止層はポリエステルフィルムの一方の面に設けられてなり、易接着層が設けられる場合は易接着層を有しないポリエステルフィルム面上に設けることが好ましい。また、帯電防止層は塗布により設けられることが好ましい。
帯電防止層の厚みは、乾燥後の厚みとして好ましくは０．０１〜０．１μｍ、さらに好ましくは０．０１〜０．０６μｍである。帯電防止層の厚みが下限に満たない場合は帯電防止性が不十分となることがあり、また上限を超えるとインモールド用転写箔においてブロッキングを起こし易くなることがある。

（表面抵抗）
本発明のインモールド転写用積層フィルムは、ポリエステルフィルムの片面に帯電防止層を有しており、帯電防止層の表面抵抗が１×１０¹³Ω／□以下であることが好ましい。帯電防止層がかかる帯電防止性能を有することにより、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が抑制される。
ここで表面抵抗とは、固有抵抗測定器を用いて測定温度２３℃、測定湿度６０％の条件で印加電圧１００Ｖで１分後の表面固有抵抗値（Ω／□）を意味する。

帯電防止層面の表面抵抗が上限値を超える場合、インモールド用転写箔の取り扱いの際に帯電による転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着が発生し、生産性の低下につながることがある。
かかる帯電防止性能を得るためには、帯電防止層中に帯電防止剤を所定量用いることにより達成される。

＜易接着層＞
本発明のインモールド転写用積層フィルムは、離型層（メジューム層）との接着性を高める目的でポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面にさらに易接着層を設けてもよい。易接着層は塗布により設けられた易接着性の塗布層であることが好ましい。易接着層には、インモールド用転写箔として用いるときに設けられる離型層との高い接着性を得るために共重合ポリエステルを使用することが好ましい。
なお、易接着層を形成した場合は、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面側の表面光沢度とは易接着層を有する状態でのフィルム表面光沢度を意味する。

（共重合ポリエステル）
易接着層を構成する共重合ポリエステルは、二次転移点（Ｔｇ）が４０℃以上８５℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは４５℃以上８０℃以下である。共重合ポリエステルのＴｇが下限値に満たない場合、易接着層の耐熱性が十分でないことがあり、また耐ブロッキング性が十分でないことがある。他方、共重合ポリエステルのＴｇが上限値を超えるとポリエステルフィルムと離型層との接着性が十分でないことがある。

さらに、この共重合ポリエステルはジカルボン酸成分とポリオール成分からなり、共重合ポリエステルの全酸成分を基準として金属塩基を有するジカルボン酸成分を９ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下の範囲で共重合した線状ポリエステルであることが好ましい。金属塩基を有するジカルボン酸成分を有することにより、離型層を塗工する際に使用される溶剤に対する耐溶剤性を高めることができる。この金属塩基を有するジカルボン酸成分の共重合割合が下限値に満たない場合、易接着層の耐溶剤性が十分に向上しないことがあり、他方、上限値を超えると離型層と易接着層との接着性が低下することがある。

前記金属塩基を有するジカルボン酸は、酸化合物中にＳＯ₃Ｍ基やＣＯＯＭ基（ここでＭはＮａ、Ｋ、Ｌｉ、ＮＨ₄等を表わす）等の官能基を有するものであることが好ましい。これらの中でも、スルホン酸の金属塩基を有するものが好ましく、さらにスルホン酸のアルカリ金属塩基を有するものが好ましい。これらの中でも５−ナトリウムスルホイソフタル酸が好ましい。

本発明の共重合ポリエステルを形成する金属塩基を有するジカルボン酸成分以外のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６ーナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、フェニルインダンジカルボン酸、ダイマー酸を例示することができる。これらの成分は２種以上を用いることができる。
更にこれらの成分とともに、不飽和多塩基酸やヒドロキシカルボン酸を少割合用いることができ、共重合ポリエステルを構成する全酸成分を基準として１０モル％以下の範囲で用いることが好ましく、５モル％以下で用いることがさらに好ましい。

また、共重合ポリエステルを形成するポリオール成分としては、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシリレングリコール、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチロールプロパン、ポリ（エチレンオキシ）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシ）グリコール、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物を例示することができる。これらの成分は二次転移点をかかる範囲にするために２種以上を用いることが好ましい。かかるポリオール成分の中でもエチレングリコール、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物、１，４−ブタンジオールが好ましい。

また共重合ポリエステル樹脂として、変性ポリエステル共重合体、例えば前記ポリエステル共重合体をアクリル、ポリウレタン、シリコーン、エポキシ、フェノール樹脂等で変性したブロック重合体、あるいはグラフト重合体を用いることもできる。
共重合ポリエステルの含有量は、易接着層の重量を基準として６５重量％以上９８重量％以下であることが好ましく、さらに７０重量％以上９５重量％以下であることが好ましく、特に８０重量％以上９０重量％以下であることが好ましい。
共重合ポリエステルの含有量が下限値に満たない場合、離型層と易接着層との密着性が低下することがある。また共重合ポリエステルの含有量が上限値を超える場合、金属塩基を有するジカルボン酸成分が相対的に増えることで耐溶剤性は向上するものの接着性が低下することがある。

（架橋剤）
前述した帯電防止層と同様の架橋剤を加えることが好ましい。中でもオキサゾリン基を有するアクリル共重合体が特に好ましい。

（他添加剤）
易接着層にはフィルムのハンドリング性を向上させるために、フィラー粒子を添加してもよい。フィラー粒子の種類としては、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム等のような無機フィラーや、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂等のような耐熱性樹脂からなる有機フィラーを挙げることができる。これらのうち、酸化珪素、酸化アルミニウム、架橋ポリスチレン樹脂粒子、架橋アクリル樹脂粒子が特に好ましい。

本易接着層は、バインダー成分として、前記共重合ポリエステルとともにアクリル共重合体を本発明の課題を損なわない範囲で少量用いてもよい。更に本発明の目的を損なわない範囲において、界面活性剤、紫外線吸収剤、顔料、潤滑剤、ブロッキング防止剤、帯電防止剤等の添加剤を易接着層中に含めることができる。

＜フィルム厚み＞
本発明の積層フィルムは、インモールド転写用フィルムとして使用される厚さを有していれば良く、好ましくは１０〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１００μｍである。

＜その他特性＞
本発明のポリエステルフィルムは、ｄＦ１０／ｄＳが０．１０Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以上、０．３０Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以下であることが好ましく、０．１５Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以上、０．２５Ｋｇ／ｍｍ²／伸度％以下であることがさらに好ましい。ここで、ｄＦ１０／ｄＳとは、フィルムの荷伸曲線における１０％伸長時の曲線勾配のことである。このｄＦ１０／ｄＳが上限値を超えると成形時の応力が高くなり、破れなどのトラブルの原因となることがある。他方、このｄＦ１０／ｄＳが下限値に満たないとフィルムの表面性や耐熱性、寸法安定性が低下することがある。
かかるｄＦ１０／ｄＳ特性を有するポリエステルフィルムは、製造方法に記載の延伸温度、延伸倍率および熱固定処理により製造することができる。

＜フィルム製造方法＞
本発明のポリエステルフィルムは、例えば次の方法で製造することができる。すなわち、乾燥させたポリエステル原料、および押出工程で粒子を添加する場合は粒子または粒子のマスターバッチを押出機に投入してフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて非晶未延伸フィルムとし、次いで縦方向（以下、機械軸方向、連続製膜方向、長手方向またはＭＤ方向と称することがある）および横方向（以下、幅方向、ＴＤ方向と称することがある）に延伸する。

縦方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で縦方向に２．０〜４．０倍、好ましくは２．５〜３．５倍延伸する。横方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で２．０〜４．０倍、好ましくは３．０〜４．０倍延伸する。なお、二軸延伸後の面積倍率は１３以下であることが好ましい。また、一方向の延伸は２段以上の多段で行う方法を用いることもできるが、最終的な延伸倍率は前述の範囲内にあることが好ましい。

なお、フィルムの延伸後には熱固定処理を行なうことが好ましい。熱固定処理は、最終延伸温度より高く融点以下の温度範囲で１〜３０秒間行なうことが好ましい。例えばポリエチレンテレフタレートフィルムでは１５０〜２５０℃の温度、２〜３０秒の時間の範囲で選択して熱固定することが好ましい。その際、２０％以内の制限収縮もしくは伸長、または定長下で行ない、また２段以上で行なってもよい。

帯電防止層は、ポリエステルフィルムの片面に帯電防止層の形成成分を含む塗剤を塗布することにより設けられる。塗布時のフィルムとして結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムが好ましい。この場合、塗布後のフィルムについて、結晶配向を完了させる延伸処理、更には熱固定処理を施すことが好ましい。
また易接着層を設ける場合、易接着層の形成成分を含む塗剤をポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面に塗布することが好ましく、帯電防止層を設ける時に易接着層も設けることが好ましい。

この結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとしては、ポリエステルを熱溶融してそのままフィルム状とした未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に延伸せしめた一軸延伸フィルム、縦方向及び横方向の二方向に低倍率で延伸せしめたもの（最終的に縦方向または横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）が例示される。

ポリエステルフィルムへの塗剤の塗布方法としては、任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法及びカーテンコート法を単独または組合せて用いることができる。

本発明における塗剤は、帯電防止層および易接着層を形成させるために、水溶性液、あるいは水分散液、乳化液等の形態、すなわち水性塗剤であることが好ましいが、有機溶剤を溶媒とすることも可能である。水性塗剤には、塗剤の安定性または塗剤の塗工性を助ける目的で若干量の有機溶剤を含ませてもよい。有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、ｎ−ヘキサン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパンノール、イソプロパノールを例示することができる。これらは単独で、もしくは２種以上を組合せて用いることができる。

本発明における塗剤、特に水性液には、本発明の目的を損なわない範囲において、ポリエステルフィルムへの濡れ性を向上させるために界面活性剤を組み合せることができる。かかる界面活性剤は、公知の界面活性剤、例えばアルキレンオキサイド系重合体などノニオン系界面活性剤、４級アンモニウム塩を有する化合物、アルキルピリジニウム塩を有する化合物、スルホン酸塩を有する化合物などのカチオン系またはアニオン系界面活性剤を用いることができる。界面活性剤を添加する場合、該塗剤の表面張力を５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下、好ましくは４０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下にすることが好ましい。

塗剤の固形分濃度は、通常、塗剤の重量を基準として０．５〜３０重量％であることが好ましい。かかる固形分組成は、ポリエステルフィルムに形成される帯電防止層、易接着層のそれぞれの組成と一致する。
塗剤の塗布量は走行しているフィルム１ｍ²当たり３〜５０ｇ、さらには５〜４０ｇが好ましい。最終的に乾燥して得られる塗膜の厚さは、０．０１〜０．３μｍであることが好ましく、さらに好ましくは０．０２〜０．２μｍである。塗膜の厚さが下限値に満たないと接着性が不十分となることがあり、他方、上限値を超えるとブロッキングを起こし易くなることがある。塗布後、乾燥することにより、均一な塗膜となる。

本発明においては、ポリエステルフィルムに塗剤を塗布した後、乾燥、好ましくは延伸処理を行なうが、この乾燥は９０〜１３０℃で２〜２０秒間行なうのが好ましい。この乾燥は延伸処理の予熱処理ないし延伸時の加熱処理を兼ねることができる。

＜インモールド転写用フィルム＞
本発明の積層フィルムは、インモールド転写用途に用いられ、優れた艶消し外観を有し、かつインモールド用転写箔作成過程から成形転写に至る間で優れた帯電防止性及び離型性を有しており、帯電やブロッキングによる転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃などの付着を抑制することができ、生産性を格段に向上させることができる。しかもインモールド転写箔としたときに印刷層とのブロッキングがないことから、高速成形性に加え、高品位な印刷性を得ることができる。

本発明のインモールド転写用積層フィルムは、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対側の面に離型層（メジューム層）および印刷層を形成した態様で用いることができ、インモールド転写工程部材として使用される。また、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対側の面に易接着層を有してもよく、かかる層構成の場合は易接着層上にさらに離型層（メジューム層）および印刷層を形成した態様で用いることができる。
インモールド成形を行う際は、印刷層が成形品の表面と接するよう金型に配置し、通常用いられる方法によってインモールド成形を行い、印刷層を成形転写した後に印刷層は成形品表面に接着して製品として取り出され、その他の部分は製品から取り除かれる形で使用される。

以下、実施例をあげて本発明をさらに説明する。なお、例中の特性は、次の方法で求めた。

１．光沢度（Ｇ₆₀）および艶消し性評価
ＪＩＳ規格（Ｚ８７４１）に準拠し、日本電色工業（株）製のグロスメーター「ＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲ」を用いて測定した。入射角、受光角ともに６０°にてＮ＝５づつ測定し、その平均値を用いた。さらに以下の基準で艶消し性を判断した。
◎：２５未満・・・艶消し性極めて良好
○：２５以上７０以下・・・艶消し性良好
×：７０を超える・・・艶消し性不良

２．粒子の平均粒径
走査型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製、商品名：Ｓ−２４００）により、フィルム厚み方向の切断面における粒子を撮影（倍率：２０００倍）し、得られた写真図から粒子を無作為に２０個選択し、粒子径を測定した。粒子径のすべての測定結果（ｎ＝２０）の平均値を求めて、平均粒径とした。

３．粒子の含有量
ポリエステル樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し、フィルムサンプルを溶解処理した後、粒子をポリエステル樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量に対する比率（重量％）をもって粒子の含有量とする。

４．帯電防止性
サンプルフィルムの帯電防止層表面の表面固有抵抗を、タケダ理研社製・固有抵抗測定器を使用し、測定温度２３℃、測定湿度６０％の条件で、印加電圧１００Ｖで１分後の表面固有抵抗値（Ω／□）を測定し、以下の基準にて判断した。
○：１×１０^１３Ω／□以下 ・・・帯電防止性良好
×：１×１０^１３Ω／□を超える ・・・帯電防止性不良

５．成形性
金型にインモールド転写箔を絵柄層（インク）側が射出側となるように設置し、１０ｃｍ角の大きさで、立ち上がり１５ｍｍ、コーナー部のＲが２ｍｍのトレー状成形品を射出成形した。この時、成形用の樹脂には、ポリカーボネート／ＡＢＳ樹脂アロイを用い、樹脂温度２６０℃、金型温度５０℃、樹脂圧力約３５０ＭＰａとした。トレー状成形品から、離型層と絵柄層の界面で転写箔を剥離し、加飾された成形部品を得た。
本工程における状況を、以下の指標により評価した。
○：フィルムが破れず、シワも無い。
×：フィルムが破れた、もしくは大量のシワが発生した。

６．接着力評価
フィルムの帯電防止層と反対側の面上にメラミン樹脂のメチルエチルケトン／トルエン溶液を塗布し、３μｍ厚さの離型層の膜を形成させ、縦１００ｍｍ×横２０ｍｍの短冊状としたサンプルを、引張試験機を用いて１６０℃の加熱雰囲気下で長手方向に５０％伸長させた後、室温に１分放置した後に、離型層上にセロハンテープ（ニチバン社製登録商標）を貼り付けて親指で１０回擦り、その後セロハンテープを９０°の剥離角度で急激にはがすセロテープ剥離試験を行い、表面状態を観察した。○の状態が実用性能を満足する。なお、易接着層を有する場合は易接着層上にメラミン樹脂離型層を形成した。
○：変化無し
△：一部分が剥離

７．耐ブロッキング性
サンプルフィルムの帯電防止層面とインモールド用転写箔の印刷面との耐ブロッキング性を評価するためスタンピングホイルの顔料箔(COLORIT)Ｐタイプ（クルツ社製）を使用して、帯電防止面と印刷面を合わせ、温度６０℃、圧力１ｋｇ／ｃｍ^２を加えて、２４時間その環境に保持した後、帯電防止層面とラベルのシール面のブロッキング状態を観察し、下記の基準で評価した。
○：変化無し
△：一部分が剥離

８．固有粘度
固有粘度（［η］）（単位：ｄｌ／ｇ）は、３５℃のｏ−クロロフェノール溶液で測定した。

［実施例１〜５、比較例１〜７］
ポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．６３ｄｌ／ｇ）に表１に示す通りの粒子を添加し、２８０℃に加熱された押出機から供給し、ダイより２０℃に維持した回転冷却ドラム上にシート状に溶融押出して未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを縦方向に３．４倍延伸した。その後、表１に記載の帯電防止層用の塗布層成分（固形成分３重量％）をロールコーターで均一にフィルムの片面に塗布した。また、易接着層を形成させる具体例については、表１に記載の易接着層用の塗布層成分（固形成分４重量％）をロールコーターで均一にフィルムの帯電防止層と反対面に塗布した。
この塗布フィルムを引き続いて１０５℃で乾燥し、１４０℃で横方向に３．５倍に延伸し、更に２３０℃で熱固定して表に示す塗布膜を有する二軸延伸ポリエステルフィルム（厚さ５０μｍ）を得た。各々のフィルムの評価結果を表２に示す。

表１で用いた成分は以下の通りである。
離型剤： アミノ基含有シリコーン（ＧＥ東芝シリコーン株式会社製 商品名ＴＳＦ４７００）
帯電防止剤： カチオンポリマーとして下記式（II）に示す構造が８０モル％／メチルアクリレート１５モル％／Ｎ−メチロールアクリルアミド５モル％からなる共重合体を用いた。

（上式（II）中、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれＨであり、Ｒ^３は炭素数が３のアルキレン基であり、Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ炭素数が１の飽和炭化水素基であり、Ｒ^６は炭素数が３のヒドロキシアルキレン基であり、Ｙ⁻はメチルスルホネートイオンである。）
架橋剤： オキサゾリン化合物（株式会社日本触媒製 商品名エポクロスＷＳ−７００）
添加剤： ポリエチレンワックス（中京油脂株式会社製 商品名ポロリンＬ−６１８）
界面活性剤： ポリオキシエチレン（ｎ＝７）ラウリルエーテル（三洋化成株式会社製 商品名ナロアクティーＮ−７０）
共重合ポリエステル： 酸成分がテレフタル酸５０モル％／イソフタル酸４５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝４０℃）。

ポリエステルは、下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル３０部、イソフタル酸ジメチル２７部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル５部、エチレングリコール３６部、ジエチレングリコール３部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．０５部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に２５５℃まで上昇させ系内を１ｍｍＨｇの減圧にして重縮合反応を行い、共重合ポリエステルを得た。なおかかる共重合ポリエステルの製造方法は、特開平０６−１１６４８７号公報の実施例１に記載の方法に準じたものである。

実施例のフィルムは、優れた艶消し外観を有しつつ成形性にも優れていた。同時に優れた帯電防止性能を有し、しかも帯電防止層と印刷層との貼り付きも見られなかった。また、シリコーン成分の印刷層面への移行による不具合は特にみられなかった。
一方、比較例１のフィルムは艶消し性は優れていたものの、非常に脆いフィルムとなってしまい、成形性に劣るフィルムとなってしまった。また、比較例２、３のフィルムは艶消し性が十分ではなかった。比較例４は艶消し性は良好であったものの成形性が低下した。帯電防止層を有するが反応基を有するシリコーン成分を含んでいない比較例５のフィルムは帯電防止層と印刷層との間に貼り付きが生じた。また、帯電防止層自体を有していない比較例６のフィルムは、帯電防止性、帯電防止層と印刷層とのブロッキング性ともに十分ではなかった。
また比較例７は、実施例５においてシリコーン成分の種類を反応基を有していないシリコーン成分（ジメチルシリコーン（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 商品名「ＴＳＭ６３０」））に変更した例であるが、帯電防止層と印刷層との間に貼り付きは生じなかったものの、印刷層面にシリコーン成分の移行が確認された。

本発明のフィルムは優れた艶消し外観を有し、しかも帯電防止性及び離型性に優れるため、インモールド用転写箔を取り扱う際に帯電やブロッキングによる転写箔同士の貼付きや転写箔表面へのゴミや埃付着の発生がなく、しかも印刷層とのブロッキングがないことから、高速成形性および高品位な印刷性に適したインモールド転写用フィルムとして好適に用いることができる。また、本発明のインモールド転写用フィルムからなるインモールド転写工程部材を好適に提供できる。

Claims (6)

1. ポリエステルフィルムおよびその片面に帯電防止層が設けられた積層フィルムであり、該ポリエステルフィルムが平均粒径１μｍ以上５μｍ以下の粒子をポリエステルフィルムの重量を基準として１．０重量％以上３．５重量％以下含み、ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面側の表面光沢度（Ｇ₆₀）が２５以上７０以下であり、該帯電防止層が反応基を有するシリコーン成分及び帯電防止成分を含有することを特徴とするインモールド転写用積層フィルム。
2. 反応基を有するシリコーン成分がアミノ基を含む有機基、エポキシ基を含む有機基、カルボン酸基を含む有機基、シラノール基および加水分解によりシラノール基を生成する有機基からなる群から選ばれる少なくとも１種の反応基を有するシリコーン成分である請求項１記載のインモールド転写用積層フィルム。
3. 帯電防止層の表面抵抗が１×１０¹³Ω／□以下である請求項１または２に記載のインモールド転写用積層フィルム。
4. 帯電防止層中のシリコーン成分の含有量が帯電防止層の重量を基準として１重量％以上５０重量％以下である請求項１〜３のいずれかに記載のインモールド転写用積層フィルム。
5. ポリエステルフィルムの帯電防止層と反対面にさらに易接着層を設けてなる請求項１〜４のいずれかに記載のインモールド転写用積層フィルム。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載のインモールド転写用積層フィルムからなるインモールド転写工程部材。