JP2013110194A - 紫外線照射装置及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板に対する紫外線照射を行う処理室と、少なくとも処理室内の基板を加熱する加熱機構と、処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように処理室内に気体を供給する気体供給部と、紫外線照射装置内に基板の搬入を行うための基板搬入口と処理室との間に少なくとも設けられ、処理室に連通されることで処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えた紫外線照射装置に関する。
【選択図】図4
Description
この構成によれば、複数の予備室内の雰囲気を段階的に変化させることで処理室内の雰囲気を所定値に安定的に維持することができる。
この構成によれば、処理室内に不活性ガスを供給することで処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持できる。
このように窒素ガスを供給することで処理室内を良好に脱酸素及び脱水分状態に保持できる。
この構成によれば、複数の予備室内の内部圧力を処理室側から基板搬入口側に向かって次第に低くなるように設定することで処理室内の雰囲気を安定させることができる。
この構成によれば、予備室及び処理室間において基板を移動させることで装置内を通過する際に要する時間を短縮できる。
この構成によれば、基板移動機構がプレートの溝部内を移動することで移動時間を短縮できる。また、基板移動機構の一部がプレート内の溝に設けられるので、ゴミ等の異物が基板に付着するのを防止することができる。
この構成によれば、予備室内において基板を予め加熱することができるので、処理室内において基板を所定温度まで短時間で加熱できる。
この構成によれば、循環機構によって予備室内の雰囲気が循環されるので、予備室内の雰囲気を安定させることができる。
この構成によれば、HEPAフィルターを用いることで予備室内の異物を除去した状態で内部雰囲気循環を行うことができる。
この構成によれば、基板搬出口から基板の搬出を行う際に処理室内に酸素及び水分が混入するのを防止し、より処理室内の雰囲気を安定させることができる。
図1は本実施形態に係る基板処理装置SPAを示す平面図である。基板処理装置SPAは、例えばX方向に一列に配置されたローダ・アンローダLU、塗布現像処理部CD及びインターフェース部IFを備えている。基板処理装置SPAは、塗布現像処理部CDがローダ・アンローダLUとインターフェース部IFによって挟まれて配置された構成になっている。
ローダ・アンローダLUは、複数の基板Gを収容するカセットCの搬入及び搬出を行う部分である。ローダ・アンローダLUは、カセット待機部10及び搬送機構11を有している。
塗布現像処理部CDは、基板Gにレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施す部分である。塗布現像処理部CDは、スクラバユニットSR、脱水ベークユニットDH、塗布ユニットCT、プリベークユニットPR、インターフェース部IF、現像ユニットDV、紫外線照射ユニットUV及びポストベークユニットPBを有している。
コンベア機構CV1、CV2には、基板Gを搬送する不図示のベルト機構が設けられている。
現像装置55の+X側にはコンベア機構CV9が設けられており、エアナイフ装置57の−X側にはコンベア機構CV10が設けられている。
図2は、紫外線処理ユニットUVを+Z側から見たときの構成を示す平面図である。図3は、紫外線処理ユニットUVを+Y側から見たときの構成を示す側面図である。図4は、図2における紫外線処理ユニットUVの断面構成を示す図であり、図5は図4の要部拡大断面図である。なお、図2〜図5においては、図を判別しやすくするため、それぞれ一部の構成を省略して示している。
これにより、チャンバ161側に近いチャンバ141,131,121,111の順に酸素濃度が低い状態が維持されるようになっている。
まず、基板Gが収容されたカセットCをローダ・アンローダLUのカセット待機部10にロードする。カセットC内の基板Gは、搬送機構11を介してスクラバユニットSRへ搬送される。
まず、はじめに紫外線処理ユニットUVでは、サブチャンバ110(基板搬入口111a)を介して第1予備室80のメインチャンバ111内に不図示のロボットアームによって基板Gが搬送される。このとき、昇降機構112は支持ピン112aを+Z側に移動させ、ロボットアームの高さよりも高い位置(+Z側の位置)まで基板Gを持ち上げる。これにより、ロボットアームから支持ピン112aへと基板Gが受け渡される。基板Gの受け渡し後、ロボットアームをメインチャンバ111内から退避させ、メインチャンバ111を密閉する。
これにより、ホットプレート114に保持されていた基板Gは保持部170aによってホットプレート114の上方に持ち上げられる。
なお、チャンバ131内は、循環機構150によって内部雰囲気がフィルター151を介して循環されるため、クリーンな雰囲気が安定的に維持されている(図5参照)。
以上により、紫外線処理室84への基板Gの搬入動作が完了する。
なお、メインチャンバ141内は、循環機構150によって内部雰囲気がフィルター151を介して循環されるため、クリーンな雰囲気が安定的に維持されている(図5参照)。
例えば、上記実施形態では、基板保持部材170が複数(4枚)の基板Gを同時に支持する構成を例に挙げたが、基板保持部材170が1枚ずつの基板Gを載置し、駆動機構172により各々が独立してチャンバ間を移動する構成を採用しても構わない。
Claims (12)
- 基板に対する紫外線照射を行う処理室と、
少なくとも前記処理室内の前記基板を加熱する加熱機構と、
前記処理室内を脱酸素及び脱水分状態に保持するように該処理室内に気体を供給する気体供給部と、
当該紫外線照射装置内に前記基板の搬入を行うための基板搬入口と前記処理室との間に少なくとも設けられ、前記処理室に連通されることで該処理室内を所定雰囲気に維持する予備室と、を備えることを特徴とする紫外線照射装置。 - 前記予備室を複数備えることを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。
- 前記気体供給部は、前記処理室内に不活性ガスを供給することを特徴とする請求項1又は2に記載の紫外線照射装置。
- 前記気体供給部は、前記不活性ガスとして窒素ガスを供給することを特徴とする請求項3に記載の紫外線照射装置。
- 前記複数の予備室における内部圧力は、前記処理室側から前記基板搬入口側に向かって次第に低くなるように設定されることを特徴とする請求項2〜4のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
- 前記予備室及び前記処理室間において前記基板を移動させる基板移動機構を更に備えることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
- 前記加熱機構は、前記基板を保持した状態で加熱するプレートを含み、
前記基板移動機構の一部は、前記プレートに設けられた溝部内を移動することを特徴とする請求項6に記載の紫外線照射装置。 - 前記加熱機構は、前記予備室内の前記基板も加熱することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
- 前記予備室は、内部雰囲気を循環させる循環機構を有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
- 前記循環機構は、HEPAフィルターを用いて前記内部雰囲気の循環を行うことを特徴とする請求項9に記載の紫外線照射装置。
- 前記予備室は、当該紫外線照射装置内から前記基板の搬出を行うための基板搬出口と前記処理室との間にも設けられていることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
- 基板に処理液の塗布処理を行う塗布装置と、
前記基板に塗布された前記処理液の現像処理を行う現像装置と、
前記基板に紫外線照射処理を行う紫外線照射装置と、
前記塗布処理、前記現像処理及び前記紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置と、を備え、前記塗布装置、前記現像装置、前記紫外線照射装置及び前記関連装置の間を直列的に前記基板を搬送する基板処理装置であって、
前記紫外線照射装置として、請求項1〜11のいずれか一項に記載の紫外線照射装置が用いられていることを特徴とする基板処理装置。
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