JP2016114784A - 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板の撓みを抑えつつ、紫外線を照射することが可能な紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の紫外線照射装置は、矩形状の基板を保持した状態で第一方向に移動する基板移動機構と、基板移動機構によって第一方向に移動する基板の下面に紫外線を照射する照射部と、を備え、基板移動機構は、基板の下面における外周縁部の少なくとも三辺を保持する枠状の保持部材を有する。【選択図】図１

Description

本発明は、紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法に関する。

液晶ディスプレイなどの表示パネルを構成するガラス基板上には、配線パターンや電極パターンなどの微細なパターンが形成されている。一般的にこのようなパターンは、例えばフォトリソグラフィなどの手法によって形成される。フォトリソグラフィ法では、レジスト膜をガラス基板に塗布する工程、レジスト膜を露光する工程、露光後のレジスト膜を現像する工程及び現像後のレジスト膜に対して紫外線などの光を照射する工程（キュア工程）が行われる。

上述のキュア工程には、基板に対して紫外線を照射する紫外線照射装置が用いられる。このような紫外線照射装置として、基板の下側から紫外線を照射するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１１−１２６１５０号公報

しかしながら、上記従来技術においては、紫外線が基板の下側から照射されるため、基板を良好に保持することが難しい。また、基板のサイズが大きくなると、撓みが生じやすくなってしまう。撓みが生じた基板に対しては、上記キュア工程を良好に行うことが難しくなってしまう。

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、基板の撓みを抑えつつ、紫外線を照射することが可能な紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の第１態様に係る紫外線照射装置は、矩形状の基板を保持した状態で第一方向に移動する基板移動機構と、前記基板移動機構によって前記第一方向に移動する前記基板の下面に紫外線を照射する照射部と、を備え、前記基板移動機構は、前記基板の下面における外周縁部の少なくとも三辺を保持する枠状の保持部材を有することを特徴とする。

本態様に係る構成によれば、保持部材により基板の下面における外周縁部の少なくとも三辺が保持されるので、基板に生じる撓みを抑制することができる。また、枠状の保持部材は、基板に照射された紫外線を遮ることが無いので、基板に対する紫外線照射処理を良好に行うことができる。

また、上記紫外線照射装置においては、前記保持部材は、前記基板を吸着保持するのが好ましい。
この構成によれば、保持部材に基板が良好に保持される。

また、上記紫外線照射装置においては、前記保持部材は、千鳥状に配置された複数の吸着口を有するのが好ましい。
この構成によれば、吸着口が密に配置されるので、安定して基板を保持することができる。

また、上記紫外線照射装置においては、前記保持部材は、前記第一方向と交差する第二方向に沿う一辺が開口された枠状からなるのが好ましい。
この構成によれば、第二方向に沿う一辺が開口されているので、例えば、保持部材に対する基板の受け渡しを行う受渡装置と保持部材との接触を回避することができる。よって、受渡装置と保持部材との接触を考慮することなく、保持部材および受渡装置を駆動させることができるので、基板の受け渡し動作を短時間で行うことができる。

また、上記紫外線照射装置においては、前記保持部材は、前記第一方向に沿った前記基板の前記外周縁部を保持する櫛歯部を有するのが好ましい。
この構成によれば、櫛歯部の各歯によって基板の外周縁部を複数個所で保持するので、基板を良好に保持することができる。

また、上記紫外線照射装置においては、前記櫛歯部は、前記保持部材に対して前記基板を受け渡す搬送用コロを、各歯の隙間に挿通可能であるのが好ましい。
この構成によれば、搬送用コロを昇降させた場合でも、該搬送用コロと保持部材との接触が回避されたものとなる。よって、搬送用コロ櫛歯部に対して昇降させることで保持部材に対する基板の受け渡しを行うことができる。

また、上記紫外線照射装置においては、前記紫外線が照射される前記基板の下部に気体を噴射するスリット状の気体噴出口をさらに備えるのが好ましい。
この構成によれば、紫外線照射による基板の発熱を抑えることができる。

本発明の第２態様に係る紫外線照射方法は、矩形状の基板を保持した状態で第一方向に移動する前記基板の下面に紫外線を照射する紫外線照射ステップを備え、前記紫外線照射ステップでは、第１態様に係る紫外線照射装置が用いられることを特徴とする。

本態様に係る構成によれば、撓みの発生が抑制された基板に対して紫外線を照射することができるので、紫外線照射処理を精度良く行うことができる。

本発明の第３態様に係る基板処理装置は、基板に処理膜の塗布処理を行う塗布装置と、前記基板に塗布された前記処理膜の現像処理を行う現像装置と、前記塗布処理、前記現像処理及び紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置と、を備え、前記塗布装置、前記現像装置及び前記関連装置の間で直列的に前記基板を搬送する基板搬送ラインが形成された基板処理装置であって、前記現像装置よりも下流側に配置される前記関連装置の一部に前記基板搬送ラインの側方から接続され、現像後の前記処理膜に紫外線照射処理を行う紫外線処理装置と、前記基板搬送ラインと前記紫外線処理装置との間で前記基板の受け渡しを行う基板搬送装置とをさらに備え、前記紫外線処理装置として、第１態様に係る紫外線照射装置が用いられていることを特徴とする。

本態様に係る構成によれば、撓みの発生が抑えられた基板に紫外線照射を行う紫外線照射装置が用いられるため、信頼性の高い処理を行うことが可能な基板処理装置を提供することができる。

本発明の第４態様に係る基板処理装置の製造方法は、基板に処理膜の塗布処理を行う塗布装置と、前記基板に塗布された前記処理膜の現像処理を行う現像装置と、前記塗布処理、前記現像処理及び紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置と、を備え、前記塗布装置、前記現像装置及び前記関連装置の間で直列的に前記基板を搬送する基板搬送ラインが形成された基板処理装置の製造方法であって、現像後の前記処理膜に紫外線照射処理を行う紫外線処理装置を、前記現像装置よりも下流側に配置される前記関連装置の一部に前記基板搬送ラインの側方から接続する工程を有し、前記紫外線処理装置として、第１態様に係る紫外線照射装置を用いることを特徴とする。

本態様に係る構成によれば、現像装置よりも下流側に配置される関連装置の一部に基板搬送ラインの側方から紫外線照射装置を接続することにより、紫外線照射装置を容易に取り付けることができる。したがって、信頼性の高い処理を行うことが可能な基板処理装置を簡便に製造することができる。

本発明によれば、基板の撓みを抑えつつ、紫外線を照射することができる。

第一実施形態に係る基板処理装置を示す平面図。 第一実施形態に係る紫外線処理ユニットの構成を示す図。 第一実施形態に係る基板移動部の要部構成を示す図。 第一実施形態に係る紫外線処理ユニットの動作説明図。 第一実施形態に係る紫外線処理ユニットの動作説明図。 第二実施形態に係る基板処理装置を示す平面図。 第二実施形態に係る基板移動部の要部構成を示す図。 第二実施形態に係る紫外線処理ユニットの動作説明図。 第二実施形態に係る紫外線処理ユニットの動作説明図。

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

（第一実施形態）
図１は本実施形態に係る基板処理装置ＳＰＡを示す平面図である。
基板処理装置ＳＰＡは、例えばＸ方向に一列に配置されたローダ・アンローダＬＵ、塗布現像処理部ＣＤ、インターフェース部ＩＦ及び制御部ＣＯＮＴを備えている。基板処理装置ＳＰＡは、塗布現像処理部ＣＤがローダ・アンローダＬＵとインターフェース部ＩＦによって挟まれて配置された構成になっている。制御部ＣＯＮＴは、基板処理装置ＳＰＡの各部を統括的に処理する。

（ローダ・アンローダ）
ローダ・アンローダＬＵは、複数の基板Ｇを収容するカセットＣの搬入及び搬出を行う部分である。ローダ・アンローダＬＵは、カセット待機部１０及び搬送機構１１を有している。本実施形態においては、基板Ｇとして、例えばガラス基板を用いている。

カセット待機部１０は、例えば基板処理装置ＳＰＡの−Ｘ側の端部に配置されており、複数のカセットＣを収容する。カセット待機部１０に収容されたカセットＣは、例えばＹ方向に配列されるようになっている。カセット待機部１０は、−Ｘ側に不図示の開口部が形成されており、当該開口部を介して基板処理装置ＳＰＡの外部との間でカセットＣの受け渡しが行われるようになっている。

搬送機構１１は、カセット待機部１０の＋Ｘ側に配置されており、カセットＣと塗布現像処理部ＣＤとの間で基板Ｇの搬送を行う。搬送機構１１は、例えばＹ方向に沿って２つ配置されており、当該２つの搬送機構１１は例えば同一の構成となっている。−Ｙ側に配置される搬送機構１１ａは、ローダ・アンローダＬＵから塗布現像処理部ＣＤへ基板Ｇを搬送する。＋Ｙ側に配置される搬送機構１１ｂは、塗布現像処理部ＣＤからローダ・アンローダＬＵへ基板Ｇを搬送する。

搬送機構１１は搬送アーム１２（１２ａ、１２ｂ）を有している。搬送アーム１２は、基板Ｇを保持する保持部を有し、例えば一方向に伸縮可能に設けられている。搬送アーム１２は、θＺ方向に回転可能に形成されている。搬送アーム１２は、例えばθＺ方向に回転することで、カセット待機部１０と塗布現像処理部ＣＤとのそれぞれの方向に向かせることが可能になっている。搬送アーム１２は、搬送アーム１２を伸縮させることで、カセット待機部１０及び塗布現像処理部ＣＤのそれぞれにアクセス可能になっている。

（塗布現像処理部）
塗布現像処理部ＣＤは、基板Ｇにレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施す部分である。塗布現像処理部ＣＤは、スクラバユニットＳＲ、脱水ベークユニットＤＨ、塗布ユニットＣＴ、プリベークユニットＰＲ、インターフェース部ＩＦ、現像ユニットＤＶ、紫外線処理ユニットＵＶ及びポストベークユニットＰＢを有している。

塗布現像処理部ＣＤは、Ｙ方向に分割された構成になっており、−Ｙ側の部分では、ローダ・アンローダＬＵからの基板Ｇがインターフェース部ＩＦへ向けて＋Ｘ方向に搬送されるようになっている。＋Ｙ側の部分では、インターフェース部ＩＦからの基板Ｇがローダ・アンローダＬＵへ向けて−Ｘ方向に搬送されるようになっている。

スクラバユニットＳＲは、ローダ・アンローダＬＵの下流に接続されており、基板Ｇの洗浄を行うユニットである。スクラバユニットＳＲは、ドライ洗浄装置４１、ウェット洗浄装置４２及びエアナイフ装置４３を有している。ドライ洗浄装置４１の−Ｘ側及びエアナイフ装置４３の＋Ｘ側には、それぞれコンベア機構ＣＶ１、ＣＶ２が設けられている。コンベア機構ＣＶ１、ＣＶ２には、基板Ｇを搬送する不図示のベルト機構が設けられている。

ドライ洗浄装置４１は、例えば基板Ｇにエキシマレーザなどの紫外線を照射することにより、基板Ｇ上の有機物を除去する。ウェット洗浄装置４２は、例えば不図示のスクラビングブラシを有している。ウェット洗浄装置４２は、洗浄液及び当該スクラビングブラシを用いて基板Ｇを洗浄する。エアナイフ装置４３は、例えば不図示のエアナイフ噴射機構を有している。エアナイフ装置４３は、エアナイフ噴射機構を用いて基板Ｇ上にエアナイフを形成し、基板Ｇ上の不純物を除去する。

脱水ベークユニットＤＨは、スクラバユニットＳＲの下流に接続されており、基板Ｇ上を脱水するユニットである。脱水ベークユニットＤＨは、加熱装置４４、ＨＭＤＳ装置４６及び冷却装置４５を有している。加熱装置４４及びＨＭＤＳ装置４６は、Ｚ方向に重ねられた状態で配置されている。Ｚ方向視で加熱装置４４及びＨＭＤＳ装置４６に重なる位置にコンベア機構ＣＶ３が設けられており、Ｚ方向視で冷却装置４５に重なる位置にコンベア機構ＣＶ４が設けられている。加熱装置４４及びＨＭＤＳ装置４６と、冷却装置４５との間には、基板Ｇを搬送する搬送機構ＴＲ１が設けられている。搬送機構ＴＲ１については、例えばローダ・アンローダＬＵに設けられた搬送機構１１と同一の構成とすることができる。

加熱装置４４は、例えば基板Ｇを収容可能なチャンバ内にヒータを有する構成になっている。加熱装置４４は、Ｚ方向に例えば複数段配置されている。加熱装置４４は、基板Ｇを所定の温度で加熱する。ＨＭＤＳ装置４６は、ＨＭＤＳガスを基板Ｇに作用させて疎水化処理を施し、塗布ユニットＣＴにおいて基板Ｇに塗布するレジスト膜と基板Ｇとの密着性を向上させる装置である。冷却装置４５は、例えば基板Ｇを収容可能なチャンバ内に温調機構を有し、基板Ｇを所定の温度に冷却する。

塗布ユニットＣＴは、脱水ベークユニットＤＨの下流に接続されており、基板Ｇ上の所定の領域にレジスト膜を形成する。塗布ユニットＣＴは、塗布装置４７、減圧乾燥装置４８、周縁部除去装置４９を有している。塗布装置４７は、基板Ｇの上面（＋Ｚ方向側の面）にレジスト膜を塗布する装置である。塗布装置４７としては、例えば回転式塗布装置、ノンスピン式塗布装置、スリットノズル塗布装置などが用いられる。これら各種の塗布装置を交換可能な構成であっても構わない。減圧乾燥装置４８は、レジスト膜を塗布した後の基板Ｇの表面を乾燥させる。周縁部除去装置４９は、基板Ｇの周縁部に塗布されたレジスト膜を除去し、レジスト膜の形状を整える装置である。

プリベークユニットＰＲは、塗布ユニットＣＴの下流に接続されており、基板Ｇにプリベーク処理を行うユニットである。プリベークユニットＰＲは、加熱装置５０及び冷却装置５１を有している。加熱装置５０に重なる位置にコンベア機構ＣＶ５が設けられている。冷却装置５１に重なる位置にコンベア機構ＣＶ６が設けられている。加熱装置５０と冷却装置５１とは、搬送機構ＴＲ２を挟むようにＹ方向に沿って配置されている。

現像ユニットＤＶは、プリベークユニットＰＲの冷却装置５１の−Ｘ側に接続されており、露光後の基板Ｇの現像処理を行う。現像ユニットＤＶは、現像装置５５、リンス装置５６及びエアナイフ装置５７を有している。現像装置５５は、基板Ｇに現像液を供給して現像処理を行う。リンス装置５６は、現像後の基板Ｇにリンス液を供給し、基板Ｇを洗浄する。エアナイフ装置５７は、基板Ｇ上にエアナイフを形成し、基板Ｇ上を乾燥させる。現像装置５５の＋Ｘ側にはコンベア機構ＣＶ９が設けられており、エアナイフ装置５７の−Ｘ側には搬送機構ＴＲ４が設けられている。

紫外線処理ユニットＵＶは、例えば、搬送機構ＴＲ４の＋Ｙ側（基板Ｇの搬送ラインの側方）に接続されている。紫外線処理ユニットＵＶは、現像後の基板Ｇに例えば所定の波長の光を照射する。搬送機構ＴＲ４は、エアナイフ装置５７からの基板Ｇを紫外線処理ユニットＵＶに搬送し、紫外線処理ユニットＵＶからの基板ＧをポストベークユニットＰＢへと搬送する。搬送機構ＴＲ４は、基板Ｇを保持しつつＺ方向に昇降可能なロボットアームを有している。

ポストベークユニットＰＢは、搬送機構ＴＲ４の下流側に接続されており、光処理後の基板Ｇをベークする。ポストベークユニットＰＢは、加熱装置５９及び冷却装置６０を有している。加熱装置５９と冷却装置６０との間には搬送機構ＴＲ５が設けられている。搬送機構ＴＲ５は、加熱装置５９から冷却装置６０へ基板Ｇを搬送する。加熱装置５９は、現像後の基板Ｇにポストベークを行う。冷却装置６０は、ポストベーク後の基板Ｇを冷却する。

インターフェース部ＩＦは、露光装置ＥＸに接続される部分である。インターフェース部ＩＦは、バッファ装置５２、搬送機構ＴＲ３、コンベア機構ＣＶ７、ＣＶ８及び周辺露光装置ＥＥを有している。バッファ装置５２は、プリベークユニットＰＲの搬送機構ＴＲ２の＋Ｘ側に配置されている。バッファ装置５２の＋Ｘ側には、搬送機構ＴＲ３が設けられている。

バッファ装置５２は、基板Ｇを一時的に待機させておく装置である。バッファ装置５２には、基板Ｇを収容する不図示のチャンバや、当該チャンバ内の温度を調整する温調装置、チャンバ内に収容された基板ＧのθＺ方向の位置を調整する回転制御装置などが設けられている。バッファ装置５２のチャンバ内では、基板Ｇの温度を所定の温度に保持できるようになっている。コンベア機構ＣＶ７、ＣＶ８は、プリベークユニットＰＲの冷却装置５１をＸ方向に挟むように配置されている。

（紫外線処理ユニット）
図２（ａ）は、紫外線処理ユニットＵＶを−Ｙ方向に見たときの構成を示す図であり、図２（ｂ）は紫外線処理ユニットＵＶを＋Ｚ方向から見た平面図である。図２（ａ）、（ｂ）に示すように、紫外線処理ユニットＵＶは、チャンバ８０、照射部８１、第一基板支持部材８２、基板移動部（基板移動機構）８３、第二基板支持部材８４、気体供給部８５、排気部８６、および冷却部８９を有している。なお、紫外線処理ユニットＵＶは、照射部８１が第一基板支持部材８２、第二基板支持部材８４、およびチャンバ８０から隔離された構造であってもよい。

チャンバ８０は、直方体の箱状に形成されており、Ｘ方向に長手に形成されている。チャンバ８０の＋Ｘ側には、基板搬入口８０ａが設けられている。チャンバ８０の−Ｘ側には、基板搬出口８０ｂが設けられている。本実施形態において、基板Ｇの搬入は、基板搬入口８０ａにおいて行われ、基板Ｇの搬出は基板搬出口８０ｂにおいて行われる。また、チャンバ８０には、現像ユニットＤＶに接続するための接続部８０ｃが設けられている。接続部８０ｃは、チャンバ８０を現像ユニットＤＶ側に物理的に接続すると共に、チャンバ８０の電気的な配線等を接続させることで、チャンバ８０と現像ユニットＤＶとを電気的にも接続している。

照射部８１は、チャンバ８０の−Ｚ側に取り付けられている。チャンバ８０を＋Ｚ方向から見た場合、照射部８１は、第一基板支持部材８２および第二基板支持部材８４間に配置されている。照射部８１は、紫外線（例えばｉ線など）を射出する射出部８１ａと、保護ガラス８１ｂとを有する。射出部８１ａは、例えばメタルハライドランプなどから構成される。保護ガラス８１ｂは、射出部８１ａの光射出面側（＋Ｚ面側）に配置されている。なお、照射部８１は、射出部８１ａを複数備えていても良く、この場合、複数の射出部８１ａは基板Ｇの搬送方向（Ｘ方向）に沿って配置すればよい。

基板搬入口８０ａから搬入された基板Ｇは、第一基板支持部材８２から基板移動機構８３に受け渡された後、該基板移動機構８３により第二基板支持部材８４へと＋Ｘ方向に搬送される。

第一基板支持部材８２は、ロボットアームに保持された基板Ｇを受け取る。ロボットアームは、基板搬入口８０ａを介して基板Ｇをチャンバ８０内に搬入させるようになっている。なお、第一基板支持部材８２に対する基板Ｇの受け渡しは、ロボットアームに限られず、搬送コロを用いてもよい。

第一基板支持部材８２は、Ｚ方向に移動可能に設けられている。第一基板支持部材８２の＋Ｚ側には、複数（例えば、６本）の支持ピン８２ａが設けられている。支持ピン８２ａは、Ｚ方向に延びており、基板Ｇの−Ｚ側の基板面を支持する。第一基板支持部材８２は、不図示の駆動装置によってＺ方向に移動可能（昇降可能）に設けられている。または、支持ピン８２ａが不図示の駆動装置によってＺ方向に伸縮可能に設けられている。上記構成では、支持ピン８２ａが基板Ｇを支持した状態で第一基板支持部材８２がＺ方向に移動することで、基板ＧがＺ方向に搬送される。または、支持ピン８２ａが基板Ｇを支持した状態でＺ方向に伸縮することで、基板ＧがＺ方向に搬送される。

図３は基板移動機構８３の要部構成を示す図であり、図３（ａ）は基板移動機構８３の拡大平面図であり、図３（ｂ）は基板移動機構８３における図３（ａ）のＡ−Ａ線矢視による拡大断面図である。
図３（ａ）に示されるように、基板移動機構８３は、基板Ｇを保持する保持部材１８３と、該保持部材１８３をＸ方向に沿って移動させる移動装置１８１と、を有する。

保持部材１８３は、チャンバ８０に搬入された基板Ｇを保持するためのものであり、例えばアルミニウムなど熱伝導性が高く剛性に優れた金属を用いて形成される。保持部材１８３は、＋Ｚ方向視で外形が矩形状であり、上記の支持ピン８２ａを通過させるための開口部１８３Ａが形成されている。保持部材１８３は、開口部１８３Ａにより、基板Ｇを載置するための載置面１８３ａが＋Ｚ方向視の平面形状が略枠状となっている。保持部材１８３の当該載置面１８３ａは、ＸＹ平面に平行に形成されている。

保持部材１８３の載置面１８３ａには、基板Ｇを吸着保持する吸着部１８６が設けられている。吸着部１８６は、基板Ｇの外周縁部の裏面を真空吸着する。吸着部１８６は、載置面１８３ａに形成された複数の貫通孔１８６ａと、該貫通孔１８６ａの下面側に接続された吸引装置１８６ｂとを含む。複数の貫通孔１８６ａは、載置面１８３ａにおいて千鳥状に形成されている。これにより、載置面１８３ａは、基板Ｇを吸着する吸着口として機能する複数の貫通孔１８６ａが密に配置されるため、基板Ｇを安定して保持することが可能である。

保持部材１８３は、開口部１８３Ａの略中央に、基板Ｇの幅方向（Ｙ方向）に延びる棒状の支持部１８５を有している。この支持部１８５は、基板Ｇの下面を支持することで該基板Ｇの撓みを防止するためのものである。なお、本実施形態において、保持部材１８３が支持部１８５を有する場合を例に挙げたが、保持部材１８３は支持部１８５を有していなくてもよい。また、支持部１８５は、開口部１８３Ａの中央に設けられていたが、中央以外の場所に設けられていてもよい。また、保持部材１８３の紫外線が照射される側には、例えば、遮熱カバーを設けるようにしてもよい。このようにすれば、保持部材１８３を紫外線照射時の熱から守ることができる。

このような構成に基づき、保持部材１８３は基板Ｇの外周縁部の四辺を保持するので、基板Ｇに生じる撓みを抑制している。また、保持部材１８３は、開口部１８３Ａにより基板Ｇの下面を露出させた状態で保持するため、基板Ｇに照射される紫外線を遮ることが無い。よって、照射部８１は、開口部１８３Ａを介して基板Ｇの下面側から該基板Ｇに対して紫外線を良好に照射することができる。

保持部材１８３は、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、取付部材１８７を介して移動装置１８１に連結されている。移動装置１８１は、チャンバ８０内において、例えば、＋Ｘ方向に沿って配置された一対のレール機構から構成されている。取付部材１８７は、＋Ｚ方向から見て、保持部材１８３のＸ方向に沿う各辺のそれぞれに２個ずつ設けられている。

移動装置１８１は、保持部材１８３の取付部材１８７を保持して、チャンバ８０内において取付部材１８７をＸ方向に沿って移動させる。保持部材１８３は、チャンバ８０内において、基板Ｇの姿勢を水平面（ＸＹ平面）に平行に保持したまま、第一基板支持部材８２から光照射部６１の間、および光照射部６１から第二基板支持部材８４の間を移動する。

このような構成に基づき、基板移動機構８３は、第一基板支持部材８２で受け取った基板Ｇを照射部８１に搬送し、該照射部８１により紫外線が照射された基板Ｇを第二基板支持部材８４まで搬送する。これにより、基板Ｇの全域に対して紫外線が照射されるようになる。

第二基板支持部材８４は、基板Ｇをロボットアームに受け渡す。ロボットアームは、基板搬出口８０ｂを介して基板Ｇをチャンバ８０外に搬出させる。

第二基板支持部材８４は、第一基板支持部材８２と同様の構成を有している。具体的に、第二基板支持部材８４は、Ｚ方向に移動可能に設けられている。第二基板支持部材８４の＋Ｚ側には、複数（例えば、６本）の支持ピン８４ａが設けられている。支持ピン８４ａは、Ｚ方向に延びており、基板Ｇの−Ｚ側の基板面を支持する。第二基板支持部材８４は、不図示の駆動装置によってＺ方向に移動可能（昇降可能）に設けられている。または、支持ピン８４ａが不図示の駆動装置によってＺ方向に伸縮可能に設けられている。上記構成では、支持ピン８４ａが基板Ｇを支持した状態で第二基板支持部材８４がＺ方向に移動することで、基板ＧがＺ方向に搬送される。または、支持ピン８４ａが基板Ｇを支持した状態でＺ方向に伸縮することで、基板ＧがＺ方向に搬送される。

基板搬入口８０ａから搬入された基板Ｇは、第一基板支持部材８２から基板移動機構８３に受け渡された後、該基板移動機構８３により第二基板支持部材８４へと＋Ｘ方向に搬送される。

気体供給部８５は、チャンバ８０内に窒素ガスなどの不活性ガスや他のガスを供給する。気体供給部８５は、気体供給源８５ａと、ダクト８５ｂと、フィルタ８５ｃとを有している。気体供給部８５は、第一基板支持部材８２および第二基板支持部材８４に対してそれぞれ配置されている。

フィルタ８５ｃは、気体供給源８５ａからダクト８５ｂを介してチャンバ８０内に噴出される気体中の異物（例えば、埃、異物）を捕捉するためのものであり、例えば、ＨＥＰＡフィルタから構成される。これにより、気体供給部８５は、基板Ｇに異物を付着させることなくチャンバ８０内に気体を供給することが可能となっている。また、第二基板支持部材８４に対向して配置された気体供給部８５は、紫外線照射により温度が上昇した基板Ｇの表面にガスを供給することで該基板Ｇを冷却することが可能である。そのため、気体供給部８５は、少なくとも第二基板支持部材８４に対向して配置するのが好ましい。

排気部８６は、チャンバ８０内の気体をチャンバ８０の外部に排出する。気体供給部８５によってチャンバ８０内に気体を供給しつつ、排気部８６からチャンバ８０内の気体を排気することにより、チャンバ８０内には清浄な気体を循環させることが可能となる。なお、排気部８６から排気された気体を清浄化し、再度気体供給部８５に戻す構成としてもよい。なお、排気部８６は第一基板支持部材８２および第二基板支持部材８４に対してそれぞれ配置されていてもよい。

冷却部８９は、照射部８１と基板Ｇの裏面との間に空気を送り込むことで紫外線照射による該基板Ｇの温度上昇を抑制する。冷却部８９は、スリット状に空気を噴出する噴出口８９ａを有する。

（基板処理装置の製造方法）
上記基板処理装置ＳＰＡは、基板Ｇの搬送ラインの側方から紫外線処理ユニットＵＶを接続させることにより、容易に製造することができる。この場合、チャンバ８０の接続部８０ｃを現像ユニットＤＶ側に接続することで、紫外線処理ユニットＵＶと現像ユニットＤＶ側との間を物理的に、かつ、電気的に接続することが可能となる。

（基板処理方法、紫外線照射方法）
続いて、上述のように構成された基板処理装置ＳＰＡを用いる基板処理方法を説明する。
まず、基板Ｇが収容されたカセットＣをローダ・アンローダＬＵのカセット待機部１０にロードする。カセットＣ内の基板Ｇは、搬送機構１１を介してスクラバユニットＳＲへ搬送される。

スクラバユニットＳＲに搬送された基板Ｇは、コンベア機構ＣＶ１を介してドライ洗浄装置４１へ搬送される。この基板Ｇは、ドライ洗浄装置４１、ウェット洗浄装置４２及びエアナイフ装置４３と順に処理される。エアナイフ装置４３から搬出された基板Ｇは、コンベア機構ＣＶ２を介して脱水ベークユニットＤＨへと搬送される。

脱水ベークユニットＤＨでは、まず加熱装置４４によって基板Ｇの加熱処理が行われる。加熱後の基板Ｇは、例えばＺ方向に搬送され、ＨＭＤＳ装置４６においてＨＭＤＳガスによる処理が行われる。ＨＭＤＳ処理後の基板Ｇは、搬送機構ＴＲ１によって冷却装置４５に搬送され、冷却処理が行われる。冷却処理後の基板Ｇは、コンベア機構ＣＶ４によって塗布ユニットＣＴに搬送される。

その後、基板Ｇは塗布ユニットＣＴにおいてレジスト膜の塗布処理が行われる。塗布処理後の基板ＧはプリベークユニットＰＲに搬送され、加熱装置５０においてプリベーク処理が行われ、冷却装置５１において冷却処理が行われる。プリベークユニットＰＲでの処理を完了させた基板Ｇは、搬送機構ＴＲ２によってインターフェース部ＩＦに搬送される。

インターフェース部ＩＦでは、例えばバッファ装置５２において温度調整が行われた後、周辺露光装置ＥＥにおいて周辺露光が行われる。周辺露光の後、基板Ｇは、搬送機構ＴＲ３によって露光装置ＥＸに搬送され、露光処理が行われる。露光処理後の基板Ｇは、加熱処理及び冷却処理が行われた後、現像ユニットＤＶに搬送される。

現像ユニットＤＶにおいて、基板Ｇには現像処理、リンス処理及び乾燥処理が順に行われる。乾燥処理の後、コンベア機構ＣＶ１０によって基板Ｇは紫外線処理ユニットＵＶへと搬送される。

紫外線処理ユニットＵＶは、まず基板Ｇを保持するロボットアームを基板搬入口８０ａからチャンバ８０の内部に搬入させる。このとき、基板移動機構８３の保持部材１８３は、基板搬入位置（第一基板支持部材８２と平面視で対向する位置）に移動している。

図４、５は紫外線処理ユニットＵＶによる紫外線照射処理を説明するための図である。
チャンバ８０の内部において、支持ピン８２ａの＋Ｚ側の先端が基板Ｇの底面（−Ｚ側の面）を受けるように第一基板支持部材８２が＋Ｚ方向に移動するとともに、ロボットアームは基板搬入口８０ａよりチャンバ８０内から退避する。このとき、支持ピン８２ａは、保持部材１８３の開口部１８３Ａを挿通するため、基板Ｇは、図４（ａ）に示すように、支持ピン８２ａに受け渡される。また、気体供給部８５はチャンバ８０内に気体を供給させると共に、排気部８６は気体を排気させることでチャンバ８０内に気体を循環させる。

次に、図４（ｂ）に示すように、第一基板支持部材８２は、支持ピン８２ａの＋Ｚ側の先端を下降させ、支持ピン８２ａの先端を保持部材１８３の開口部１８３Ａを挿通した状態から開口部１８３Ａの下方に退避させる。この動作により、基板Ｇが保持部材１８３上に載置される。吸着部１８６は、吸引装置１８６ｂを駆動させ、載置面１８３ａに形成された複数の貫通孔１８６ａにより基板Ｇの裏面を吸着する。これにより、基板Ｇは、保持部材１８３により外周縁部が良好に保持されたものとなる。

次に、基板移動機構８３は、移動装置１８１により、保持部材１８３を＋Ｘ方向に移動させる。これにより、保持部材１８３は、照射部８１側に向かって移動する。

このとき、紫外線処理ユニットＵＶは、移動装置１８１により基板Ｇを＋Ｘ方向に移動させると共に、照射部８１を作動させ、基板Ｇの下面側から基板Ｇに対して紫外線Ｌを照射させる。照射部８１から射出された紫外線Ｌは、図５（ａ）に示すように、基板Ｇに対して下方から照射される。紫外線Ｌの照射は、基板Ｇの全体が照射部８１を＋Ｘ方向に通り過ぎるまで行われる。

また、冷却部８９は、照射部８１からの紫外線照射に合わせて、噴出口８９ａから照射部８１と基板Ｇの裏面との間にスリット状に空気を送り込む。これにより、基板Ｇは、紫外線照射による温度上昇が抑制される。

本実施形態において、基板Ｇは保持部材１８３に良好に保持されるため、撓みの発生が抑制されている。保持部材１８３は、基板Ｇの裏面を吸着保持している。そのため、保持部材１８３が基板Ｇの外周縁部のみを保持する構成であっても、基板Ｇが撓んだり割れたりすること無く安定して保持することができる。

また、基板Ｇを保持する保持部材１８３は、図２、３に示したように、開口部１８３Ａを介して該基板Ｇの下面を露出させている。そのため、保持部材１８３は、照射部８１から射出された紫外線Ｌを遮ることが無い。よって、照射部８１から射出された紫外線Ｌは、開口部１８３Ａを介して基板Ｇに良好に照射される。本実施形態において、基板Ｇは、光透過性を有するガラス基板から構成されている。基板Ｇの下面側に入射した紫外線Ｌは、該基板Ｇを透過して表面（上面）に塗布されたレジスト膜に良好に照射される。よって、基板Ｇの上面に塗布されたレジスト膜の全域に亘って光照射処理（キュア処理）を良好に行うことができる。

紫外線照射が完了した後、紫外線処理ユニットＵＶは、照射部８１の作動を停止させ、基板Ｇを第二基板支持部材８４の直上に搬送する。
このとき、図５（ｂ）に示すように、第二基板支持部材８４は、支持ピン８４ａの＋Ｚ側の先端が基板Ｇの底面（−Ｚ側の面）を受けるように＋Ｚ方向に移動する。なお、吸着部１８６は、第二基板支持部材８４の動作に先立ち、吸引装置１８６ｂの作動を停止し、載置面１８３ａに形成された複数の貫通孔１８６ａによる基板Ｇの吸着を解除する。
これにより、保持部材１８３による基板Ｇの保持状態が解除されるので、支持ピン８４ａは＋Ｚ側の先端が保持部材１８３の開口部１８３Ａを挿通することで基板Ｇを持ち上げて保持部材１８３から離間させることができる。

次に、不図示のロボットアームは、基板搬出口８０ｂからチャンバ８０の内部に移動し、支持ピン８４ａに保持された基板Ｇを該支持ピン８４ａから持ち上げるとともに、ロボットアームは基板搬出口８０ｂよりチャンバ８０の外部（紫外線処理ユニットＵＶの外部）へ搬出する。これにより、基板Ｇは、支持ピン８４ａからロボットアームに受け渡される。続いて、第二基板支持部材８４は、支持ピン８４ａの先端を−Ｚ側に移動させることで開口部１８３Ａに挿通して保持部材１８３の下方に退避させる。

次に、基板Ｇは加熱装置５９においてポストベーク処理が行われ、冷却装置６０において冷却される。冷却処理後、基板Ｇは搬送機構１１を介してカセットＣに収容される。このようにして、基板Ｇに対して塗布処理、露光処理及び現像処理の一連の処理が行われることとなる。

以上のように、本実施形態によれば、紫外線処理ユニットＵＶにおいて保持部材１８３が基板Ｇの下面における外周縁部の四辺を保持することとしたので、基板Ｇに生じる撓みを抑制することができる。そのため、本発明は、特に撓みが生じ易くなる大型の基板Ｇを用いる場合に特に有効である。また、保持部材１８３は、開口部１８３Ａが形成されることで枠状となっているため、基板Ｇに照射された紫外線を遮ることが無く、基板Ｇに対する紫外線照射処理を良好に行うことができる。これにより、基板Ｇ上に塗布されたレジスト膜に対する光照射処理（キュア処理）を良好に行うことができる。

（第二実施形態）
次に、本発明の第二実施形態を説明する。なお、上記実施形態と共通の構成および部材については同じ符号を付し、その詳細な説明については省略する。
図６は、本実施形態に係る紫外線処理ユニットＵＶ１の構成を示す図である。
図６に示すように、紫外線処理ユニットＵＶ１は、チャンバ８０、照射部８１、第一ステージ１８２、基板移動機構２８３、第二ステージ１８４、気体供給部８５、排気部８６、および冷却部８９を有している。

図７は、基板移動機構２８３の概略構成を示す図であり、図７（ａ）は基板移動機構２８３を＋Ｚ方向から見た平面図であり、図７（ｂ）は基板移動機構２８３における図７（ａ）のＢ−Ｂ線矢視による拡大断面図である。また、図７においては、基板移動機構２８３が第一ステージ１８２または第二ステージ１８４の直上に位置する場合を図示した。

図６に示すように、第一ステージ１８２は、ロボットアームに保持された基板Ｇを受け取る。ロボットアームは、基板搬入口８０ａを介して基板Ｇをチャンバ８０内に搬入させる。第二ステージ１８４は、基板Ｇをロボットアームに受け渡す。ロボットアームは、基板搬出口８０ｂを介して基板Ｇをチャンバ８０外に搬出させる。

ここで、図６に加え、図７を参照して第一ステージ１８２の構成について説明するが、第一ステージ１８２と同一構成の第二ステージ１８４についても共通である。

第一ステージ１８２および第二ステージ１８４は、Ｚ方向に移動可能に設けられている。第一ステージ１８２は、図６に示すように、複数のコロ１８２aと、該コロ１８２ａを駆動する駆動部１８２ｂとを含む。コロ１８２ａは、Ｘ方向に沿って、例えば三列に並んで配置されている。
同様に、第二ステージ１８４は、Ｚ方向に移動可能に設けられており、複数のコロ１８４ａと、該コロ１８４ａを駆動する駆動部１８４ｂとを含む。コロ１８４ａは、Ｘ方向に沿って、例えば三列に並んで配置されている。

図７に示すように、第一列Ｌ１に沿って並んだコロ１８２ａおよびコロ１８４ａは、基板搬入口８０ａを介してチャンバ８０内に搬入された基板ＧのＹ方向に沿う幅の＋Ｙ側の辺を支持する。第二列Ｌ２に沿って並んだコロ１８２ａおよびコロ１８４ａは、基板ＧのＹ方向に沿う幅の中央の辺を支持する。第三列Ｌ３に沿って並んだコロ１８２ａおよびコロ１８４ａは、基板ＧのＹ方向に沿う幅の−Ｙ側の辺を支持する。なお、第一列Ｌ１、第二列Ｌ２、および第三列Ｌ３において、複数のコロ１８２ａおよびコロ１８４ａは、それぞれ同一ピッチで配置されている。

駆動部１８２ｂは、コロ１８２ａをＹ軸回りに回転駆動させることで基板Ｇをロボットアームから受け取ることでチャンバ８０の内部に該基板Ｇを搬入することが可能である。また、駆動部１８２ｂは、複数のコロ１８２ａを一体的にＺ方向に沿って昇降することで、ロボットアームからの基板Ｇの受け取り位置と、後述のような基板移動機構２８３に対する基板Ｇの受け渡し位置との間を移動可能である。複数のコロ１８２ａは、保持部材３８３と接触することなく、Ｚ方向に沿って移動可能とされている。

駆動部１８４ｂは、コロ１８４ａをＹ軸回りに回転駆動させることで基板Ｇをチャンバ８０外に引き出すことでロボットアームに基板を受け渡すことが可能である。また、駆動部１８４ｂは、複数のコロ１８４ａを一体的にＺ方向に沿って昇降することで、基板移動機構２８３からの基板Ｇの受け取り位置と、後述のようなロボットアームに対する基板Ｇの受け渡し位置との間を移動可能である。複数のコロ１８４ａは、保持部材３８３と接触することなく、Ｚ方向に沿って移動可能とされている。

基板移動機構２８３は、図７に示すように、基板Ｇを保持する保持部材３８３と、該保持部材３８３をＸ方向に沿って移動させる移動装置３８１と、を有する。

本実施形態において、保持部材３８３は、＋Ｚ方向視で外形が略矩形状である。具体的に、保持部材３８３は、基板Ｇの搬送方向であるＸ方向（第一方向）に直交（交差）するＹ方向（第二方向）に沿う辺のうち＋Ｘ側の辺が開放されている。保持部材３８３は、基板Ｇの下面における外周縁部の少なくとも三辺を保持する。保持部材３８３は、基板Ｇを載置するための載置面３８３ａを有し、該載置面３８３ａはＸＹ平面に平行に形成されている。

保持部材３８３は、Ｘ方向に沿う一対の載置面３８３ａがそれぞれ櫛歯部３８５を構成する。櫛歯部３８５は、＋Ｚ方向からの平面形状が櫛歯状を呈しており、複数の歯３８５ａが所定の隙間３８５ｂを介して配置されている。隙間３８５ｂが配置されるピッチは、上記コロ１８２ａ、１８４ａが配置されるピッチと同じであり、各隙間３８５ｂの大きさはコロ１８２ａ、１８４ａの外径よりも少なくとも同等、あるいは僅かに大きく設定されている。

一対の櫛歯部３８５のうち＋Ｙ方向側のものは、第一ステージ１８２の駆動部１８２ｂにより上下動する第一列Ｌ１に沿って並んだ複数のコロ１８２ａおよび第二ステージ１８４の駆動部１８４ｂにより上下動する第一列Ｌ１に沿って並んだ複数のコロ１８４ａをそれぞれ隙間３８５ｂに挿通可能である。

また、一対の櫛歯部３８５のうち−Ｙ方向側のものは、第一ステージ１８２の駆動部１８２ｂにより上下動する第三列Ｌ３に沿って並んだ複数のコロ１８２ａをそれぞれ隙間３８５ｂに挿通可能である。

なお、第一ステージ１８２の駆動部１８２ｂにより上下動する第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８２ａは、保持部材３８３に接触することなく、該保持部材３８３の内側を挿通可能である。

上記載置面３８３ａには、基板Ｇを吸着保持する吸着部３８６が設けられている。吸着部３８６は、基板Ｇの外周縁部の裏面を真空吸着する。吸着部３８６は、載置面３８３ａに形成された複数の貫通孔３８６ａと、該貫通孔３８６ａの下面側に接続された吸引装置３８６ｂとを含む。複数の貫通孔３８６ａは、載置面３８３ａにおいて千鳥状に形成されている。これにより、載置面３８３ａは、基板Ｇを吸着する吸着口として機能する複数の貫通孔３８６ａが密に配置されるため、基板Ｇを安定して保持することが可能である。

このような構成に基づき、基板移動機構２８３は、第一ステージ１８２から受け取った基板Ｇを照射部８１に搬送し、該照射部８１により紫外線が照射された基板Ｇを第二ステージ１８４まで搬送する。これにより、基板Ｇは、その全域に対して紫外線が照射されるようになっている。

次に、上記のように構成された紫外線処理ユニットＵＶ１の動作を説明する。
紫外線処理ユニットＵＶ１は、まず基板Ｇを保持したロボットアームを基板搬入口８０ａからチャンバ８０の内部に搬入させる。このとき、基板移動機構２８３の保持部材３８３は、基板搬入位置（第一ステージ１８２と平面視で対向する位置）に移動している。

図８、９は紫外線処理ユニットＵＶ１による紫外線照射処理を説明するための図である。
チャンバ８０の内部において、第一ステージ１８２は、駆動部１８２ｂにより、複数のコロ１８２ａを基板Ｇの受け取り位置に移動する。このとき、図８（ａ）に示すように、第一列Ｌ１および第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８２ａは上方に移動することで保持部材３８３の載置面３８３ａが構成する櫛歯部３８５の隙間３８５ｂを通り抜ける。また、同様に、第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８２ａは上方に移動することで保持部材３８３の内側を通り抜ける。また、コロ１８２ａの移動に伴って＋Ｚ方向に移動した駆動部１８２ｂは、保持部材３８３の内側を通り抜ける。

第一ステージ１８２は、ロボットアームに保持された基板Ｇの裏面に複数のコロ１８２ａの一部が接触させた後、駆動部１８２ｂによりコロ１８２ａを回転させる。これにより、コロ１８２ａは、ロボットアームから基板Ｇを受け取ることでチャンバ８０の内部に該基板Ｇを搬入させる。また、気体供給部８５はチャンバ８０内に気体を供給させると共に、排気部８６は気体を排気させることでチャンバ８０内に気体を循環させる。

次に、図８（ｂ）に示すように、第一ステージ１８２は、駆動部１８２ｂによりコロ１８２ａを下方に移動し、コロ１８２ａとともに基板Ｇを下方に移動させる。このとき、下方に移動する第一列Ｌ１および第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８２ａは、載置面３８３ａが構成する櫛歯部３８５の隙間３８５ｂを通り抜ける。また、下方に移動する第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８２ａは、保持部材３８３の内側を通り抜ける。
この動作により、基板Ｇが保持部材３８３上に載置される。

基板Ｇが保持部材３８３に載置されたタイミングに合わせて、吸着部３８６は、吸引装置３８６ｂを駆動させ、載置面３８３ａに形成された複数の貫通孔３８６ａにより基板Ｇの裏面を吸着する。これにより、基板Ｇは、保持部材３８３により外周縁部が良好に保持されたものとなる。

次に、紫外線処理ユニットＵＶ１は、基板移動機構２８３の移動装置３８１により、保持部材３８７を照射部８１側に移動させると共に、照射部８１を作動させ、基板Ｇの下面側から基板Ｇに対して紫外線Ｌを照射させる。照射部８１から射出された紫外線Ｌは、図９（ａ）に示されるように基板Ｇに対して下方から照射される。紫外線Ｌの照射は、基板Ｇの全体が照射部８１を＋Ｘ方向に通り過ぎるまで行われる。

また、冷却部８９は、照射部８１からの紫外線照射に合わせて、噴出口８９ａから照射部８１と基板Ｇの裏面との間にスリット状に空気を送り込む。これにより、基板Ｇは、紫外線照射による温度上昇が抑制される。

本実施形態において、基板Ｇは保持部材３８３に良好に保持されるため、撓みの発生が抑制されている。保持部材３８３は、基板Ｇの裏面を吸着保持している。そのため、保持部材３８３が基板Ｇの外周縁部の三辺のみを保持する構成であっても、基板Ｇが撓んだり割れたりすること無く安定して保持することができる。

また、保持部材３８３は、基板Ｇの下面を露出した状態に保持するため、照射部８１から射出された紫外線Ｌを遮ることが無い。よって、照射部８１から射出された紫外線Ｌは、基板Ｇの裏面側から表面側に向かって透過し、表面（上面）に塗布されたレジスト膜に良好に照射される。よって、基板Ｇの上面に塗布されたレジスト膜の全域に亘って光照射処理（キュア処理）を良好に行うことができる。

紫外線照射が完了した後、紫外線処理ユニットＵＶ１は、照射部８１の作動を停止させ、基板Ｇを第二ステージ１８４の直上に搬送する。
このとき、図９（ｂ）に示すように、第二ステージ１８４は、駆動部１８４ｂにより、複数のコロ１８４ａを基板Ｇの受け渡し位置に移動させる。第一列Ｌ１および第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８４ａは、上方に移動して保持部材３８３（櫛歯部３８５）の隙間３８５ｂを通り抜ける。また、第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８４ａは、上方に移動して保持部材３８３の内側を通り抜ける。なお、吸着部３８６は、第二ステージ１８４の動作に先立ち、吸引装置３８６ｂの作動を停止し、載置面３８３ａに形成された複数の貫通孔３８６ａによる基板Ｇの吸着を解除する。

これにより、保持部材３８３による基板Ｇの保持状態が解除されるので、コロ１８４ａは保持部材３８３を挿通した際に、基板Ｇを保持部材３８３から持ち上げて離間させることができる。

次に、不図示のロボットアームは、基板搬出口８０ｂからチャンバ８０の内部に移動し、コロ１８４ａから基板Ｇを受け取る。具体的に、第二ステージ１８４は、コロ１８４ａに載置された基板Ｇの裏面と、ロボットアームの基板Ｇの保持面（上面）とが同じ高さになるまでコロ１８４ａを上方に移動させた後、コロ１８４ａを回転させることで基板Ｇをロボットアームに向けて送り出す。これにより、基板Ｇは、コロ１８４ａからロボットアームに受け渡される。ロボットアームは基板搬出口８０ｂよりチャンバ８０の外部（紫外線処理ユニットＵＶの外部）へ搬出する。なお、ロボットアームは、基板搬出口８０ｂからチャンバ８０の内部に移動し、基板Ｇの受け渡し位置で待機していてもよい。

基板Ｇの搬出後、第二ステージ１８４は、駆動部１８４ｂにより、複数のコロ１８４ａを下方に移動させる。このとき、第一列Ｌ１および第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８４ａは、下方に移動して保持部材３８３（櫛歯部３８５）の隙間３８５ｂを通り抜ける。また、第二列Ｌ２に沿って並んだ複数のコロ１８４ａは、下方に移動して保持部材３８３の内側を通り抜ける。

保持部材３８３は、第一ステージ１８２から次の基板Ｇを受け取るべく、＋Ｘ方向に移動する。

本実施形態において、第一ステージ１８２は、保持部材３８３が到達するのを待たずに、コロ１８２ａを上方に移動し、ロボットアームとの基板Ｇの受け渡し動作を開始している。ここで、コロ１８２ａは上方にあるため、保持部材３８３の移動経路上に駆動部１８２ａが存在している（図９（ａ）参照）。
本実施形態において、保持部材３８３は、＋Ｘ側の辺が開放されているため、保持部材３８３は駆動部１８２ｂと接触することなく、コロ１８２ａの直下に戻ることが可能である。

以上述べたように、本実施形態によれば、第一ステージ部１８２が保持部材３８３の到着を待たずに、コロ１８２ａに対する基板Ｇの搬入動作を開始することができる。よって、基板搬入口８０ａを介してチャンバ８０に搬入した基板Ｇを照射部８１のもとに順次搬送することができる。したがって、紫外線処理ユニットＵＶは、基板Ｇの搬入動作、基板Ｇの光照射処理（キュア処理）、および基板Ｇの搬出動作を短いタクトで行うことができる。

また、本実施形態によれば、紫外線処理ユニットＵＶ１において保持部材３８３が基板Ｇの下面における外周縁部の少なくとも三辺を保持することとしたので、基板Ｇに生じる撓みを抑制することができる。また、保持部材３８３は基板Ｇの裏面を露出させた状態に保持する枠状であるため、基板Ｇに照射された紫外線を遮ることが無く、基板Ｇに対する紫外線照射処理を良好に行うことができる。これにより、基板Ｇ上に塗布されたレジスト膜に対する光照射処理（キュア処理）を良好に行うことができる。

本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
例えば、上記実施形態では、照射部８１が基板Ｇの下面側にのみ配置される場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、例えば、照射部８１が基板Ｇの上面側にも配置されていてもよい。これにより、基板Ｇの両面側から紫外線が照射されるので、基板Ｇに塗布されるレジストの状態を更に良好にすることができる。
また、上記実施形態では、基板Ｇの上面側のみにレジスト膜が塗布される場合を例に挙げたが、基板Ｇの両面にレジスト膜が形成されていても良く、上述のようい基板Ｇの両面側から紫外線が照射することで紫外線照射処理を良好に行うことができる。

また、上記実施形態では、Ｘ方向において、チャンバ８０の＋Ｘ方向側の面に基板搬入口８０ａが設けられ、チャンバ８０の−Ｘ方向側の面に基板搬出口８０ｂが設けられる構成を例に挙げたが、チャンバ８０の＋Ｘ方向側或いは−Ｘ方向側の面のいずれか一方に基板搬入口８０ａおよび基板搬出口８０ｂが設けられていても良い。

また、上記実施形態においては、現像ユニットＤＶ及びポストベークユニットＰＢ間で基板Ｇの受け渡しを行う搬送機構ＴＲ４の側方（すなわち、基板Ｇの搬送ラインの側方）にチャンバ８０を含む紫外線処理ユニットＵＶが接続された場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限られることは無い。例えば、紫外線処理ユニットＵＶが現像ユニットＤＶの上面（＋Ｚ側）あるいは下面（−Ｚ側）に配置されてもよい。
また、紫外線処理ユニットＵＶは、現像ユニットＤＶの上面のみならず、例えば、例えば、塗布ユニットＣＴやポストベークユニット等といった他のユニット（関連装置）の上面に配置されていてもよい。
このように紫外線処理ユニットＵＶが現像ユニットＤＶあるいは他のユニットの上面に配置された基板処理装置は、既存のラインを有する装置のうち現像ユニットＤＶあるいは他のユニットの上面に、チャンバ８０を含む紫外線処理ユニットＵＶを接続させることにより、容易に製造することができる。この場合、チャンバ８０の接続部８０ｃを現像ユニットＤＶあるいは他のユニット側に接続することで、紫外線処理ユニットＵＶと現像ユニットＤＶあるいは他のユニット側との間を物理的に、かつ、電気的に接続することができる。

また、紫外線処理ユニットＵＶは、現像ユニットＤＶの上流側（＋Ｘ側）に配置されていてもよい。すなわち、紫外線処理後の基板Ｇについて現像処理を行う装置構成であってもよい。

また、図７では、保持部材３８３として、Ｙ方向に沿う辺のうち＋Ｘ側の辺が開放された場合を例に挙げたが、−Ｘ側が解放された構成であっても良い。この構成によれば、保持部材３８３は、−Ｘ側の辺が開放されているため、駆動部１８４ｂと接触することなく、第一ステージ１８２側に戻ることが可能となる。すなわち、保持部材３８３が第二ステージ１８４（コロ１８４ａおよび駆動部１８４ｂ）に基板Ｇを受け渡した後、該第二ステージ１８４におけるロボットアームへの基板受け取し動作が完了するのを待たずに、保持部材３８３を第一ステージ１８２側に戻すことができる。よって、基板搬入口８０ａを介してチャンバ８０に搬入される基板Ｇを順次受け取って、照射部８１のもとに搬送することができる。したがって、紫外線処理ユニットＵＶは、基板Ｇの搬入動作、基板Ｇの光照射処理（キュア処理）、および基板Ｇの搬出動作を短いタクトで行うことができる。

ＵＶ、ＵＶ１…紫外線処理ユニット（紫外線処理装置、紫外線照射装置）、ＳＰＡ…基板処理装置、Ｇ…基板、Ｌ…紫外線、４７…塗布装置、５５…現像装置、８１…照射部、８３、２８３…基板移動機構、８９ａ…噴出口（基体噴出口）、１８３、３８３…保持部材、１８６ａ、３８６ａ…貫通孔（吸着口）、３８５…櫛歯部、３８５ａ…歯、３８５ｂ…隙間。

Claims (10)

1. 矩形状の基板を保持した状態で第一方向に移動する基板移動機構と、
   前記基板移動機構によって前記第一方向に移動する前記基板の下面に紫外線を照射する照射部と、を備え、
   前記基板移動機構は、前記基板の下面における外周縁部の少なくとも三辺を保持する枠状の保持部材を有する
   ことを特徴とする紫外線照射装置。
2. 前記保持部材は、前記基板を吸着保持する
   ことを特徴とする請求項１に記載の紫外線照射装置。
3. 前記保持部材は、千鳥状に配置された複数の吸着口を有する
   ことを特徴とする請求項２に記載の紫外線照射装置。
4. 前記保持部材は、前記第一方向と交差する第二方向に沿う一辺が開口された枠状からなる
   ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
5. 前記保持部材は、前記第一方向に沿った前記基板の前記外周縁部を保持する櫛歯部を有する
   ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
6. 前記櫛歯部は、前記保持部材に対して前記基板を受け渡す搬送用コロを、各歯の隙間に挿通可能である
   ことを特徴とする請求項５に記載の紫外線照射装置。
7. 前記紫外線が照射される前記基板の下部に気体を噴射するスリット状の気体噴出口をさらに備える
   ことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の紫外線照射装置。
8. 矩形状の基板を保持した状態で第一方向に移動する前記基板の下面に紫外線を照射する紫外線照射ステップを備え、
   前記紫外線照射ステップでは、請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の紫外線照射装置が用いられる
   ことを特徴とする紫外線照射方法。
9. 基板に処理膜の塗布処理を行う塗布装置と、
   前記基板に塗布された前記処理膜の現像処理を行う現像装置と、
   前記塗布処理、前記現像処理及び紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置と、を備え、前記塗布装置、前記現像装置及び前記関連装置の間で直列的に前記基板を搬送する基板搬送ラインが形成された基板処理装置であって、
   前記現像装置よりも下流側に配置される前記関連装置の一部に前記基板搬送ラインの側方から接続され、現像後の前記処理膜に紫外線照射処理を行う紫外線処理装置と、
   前記基板搬送ラインと前記紫外線処理装置との間で前記基板の受け渡しを行う基板搬送装置と
   をさらに備え、
   前記紫外線処理装置として、請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の紫外線照射装置が用いられている
   ことを特徴とする基板処理装置。
10. 基板に処理膜の塗布処理を行う塗布装置と、
    前記基板に塗布された前記処理膜の現像処理を行う現像装置と、
    前記塗布処理、前記現像処理及び紫外線照射処理の関連処理を行う関連装置と、を備え、前記塗布装置、前記現像装置及び前記関連装置の間で直列的に前記基板を搬送する基板搬送ラインが形成された基板処理装置の製造方法であって、
    現像後の前記処理膜に紫外線照射処理を行う紫外線処理装置を、前記現像装置よりも下流側に配置される前記関連装置の一部に前記基板搬送ラインの側方から接続する工程を有し、
    前記紫外線処理装置として、請求項１から請求項７のうちいずれか一項に記載の紫外線照射装置を用いる
    ことを特徴とする基板処理装置の製造方法。

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