JP2000208587A - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送装置及び基板搬送方法

Info

Publication number
JP2000208587A
JP2000208587A JP11008616A JP861699A JP2000208587A JP 2000208587 A JP2000208587 A JP 2000208587A JP 11008616 A JP11008616 A JP 11008616A JP 861699 A JP861699 A JP 861699A JP 2000208587 A JP2000208587 A JP 2000208587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
transfer
pair
transfer arms
arms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11008616A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4204128B2 (ja
Inventor
Shigemi Fujiyama
重美 藤山
Mikio Nishihata
巳季夫 西端
Hirohito Sago
宏仁 佐合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP00861699A priority Critical patent/JP4204128B2/ja
Priority to US09/483,239 priority patent/US6247579B1/en
Priority to TW089100748A priority patent/TW440901B/zh
Publication of JP2000208587A publication Critical patent/JP2000208587A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4204128B2 publication Critical patent/JP4204128B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G25/00—Conveyors comprising a cyclically-moving, e.g. reciprocating, carrier or impeller which is disengaged from the load during the return part of its movement
    • B65G25/04—Conveyors comprising a cyclically-moving, e.g. reciprocating, carrier or impeller which is disengaged from the load during the return part of its movement the carrier or impeller having identical forward and return paths of movement, e.g. reciprocating conveyors
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 大型の角基板を搬送する際の撓み量を小さく
する。 【解決手段】 搬送アーム２，３は搬送方向と直交する
方向に延びる第１の保持部２ａ，３ａと、搬送方向と平
行に第１の保持部から延びる第２の保持部２ｂ，３ｂと
からなる。その結果、ガラス基板Ｗの四辺部を搬送アー
ム２，３の第１及び第２の保持部２ａ，２ｂ，３ａ，３
ｂで下方から保持することが可能になる。搬送アーム
２，３は昇降動可能、及び待機位置において、一対の搬
送アーム同士若しくは隣接する一対の搬送アームの一部
が上下方向に重なることが可能とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば液晶表示装置
用のガラス基板等の角基板を搬送する装置及び搬送方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置用のガラス基板は１枚の大
寸法のガラス基板にホトレジストを塗布・乾燥し、更に
露光、現像等の処理を施し、最終的に製品寸法のガラス
基板を切り出している。
【０００３】大寸法のガラス基板に各種処理を施すに
は、１つの処理ステーションでの処理が終了した後、搬
送装置で他の処理ステーションへ大寸法のガラス基板を
搬送するようにしている。図７（ａ）及び（ｂ）は従来
の搬送装置の平面図と側面図であり、搬送装置は一対の
搬送アーム１００に角基板Ｗの側辺部下面を支持するフ
ック１０１…を設けた構造となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した搬送装置を用
いて角基板Ｗを搬送するには、ピンやチャック等の支持
治具１０２にて支持されている角基板Ｗよりも搬送アー
ム１００のフック１０１…が若干低くなるように搬送装
置の高さを調整し、次いで搬送アーム１００を水平方向
に移動してフック１０１…を角基板Ｗの下に入り込ま
せ、この後搬送アーム１００を上昇させるか或いは支持
治具１０２を下降させることでフック１０１…にて角基
板Ｗを保持し、この状態で搬送アーム１００をスライド
移動することで角基板Ｗを次ステーションへ移送するよ
うにしている。
【０００５】しかしながら、液晶表示装置用のガラス基
板等にあっては、厚みが０．７ｍｍ程度と薄く大面積と
なるので、図７（ｂ）に示すように自重によって基板中
央部が撓んで大きく垂れ下がり、支持治具に干渉して搬
送できなくなったり、基板の割れが発生する。
【０００６】特に最近では、液晶表示装置の表示部の寸
法が大きくなる傾向にありこれに伴って切り出し前のガ
ラス基板の寸法も一辺が１０００ｍｍを越すものも利用
され、例えば寸法が９６０ｍｍ×１１００ｍｍ×０．７
ｍｍのガラス基板を従来の搬送装置で持ち上げると、中
央部で約１００ｍｍも撓んでしまう。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る角基板を搬送する基板搬送装置及び基板搬送
方法は、一対の搬送アームを備え、この一対の搬送アー
ムは水平方向に開閉動するとともに水平方向にスライド
移動し、更に一対の搬送アームは搬送方向と直交する角
基板の周辺部を下から保持する第１の保持部と、搬送方
向と平行な角基板の周辺部を下から保持する第２の保持
部とを備えた構成とした。斯かる構成とすることで、基
板中央部の撓み量を抑えることができ、他の部材との干
渉や基板の割れが防止できる。
【０００８】上記の基板搬送装置において、第１の保持
部及び第２の保持部の寸法を、角基板の略四辺を保持す
る寸法とすることで、更に基板中央部の撓み量を小さく
することができる。
【０００９】また、一対の搬送アームについては水平動
のみを行わせ、角基板を支持するチャック或いはピンに
昇降動を行わせてもよいが、搬送アームにも昇降動を行
わせることで、効率のよい搬送が行える。
【００１０】また、待機位置において、一対の搬送アー
ム同士若しくは隣接する一対の搬送アームの一方と上下
方向に重なるような構成とすることで、スペースの有効
利用が図れる。
【００１１】更に、上記の基板搬送装置を用いた基板搬
送方法は、チャックやピン等の支持治具にて角基板を下
方から支持し、この状態の角基板よりも一対の搬送アー
ムを上方に位置せしめるとともに一対の搬送アームを搬
送方向を基準として角基板よりも拡開し、次いで相対的
に角基板よりも一対の搬送アームを下方に位置せしめ、
この後、一対の搬送アームを閉じ、更に角基板を一対の
搬送アームに対して相対的に下降せしめることで一対の
搬送アームの第１及び第２の保持部にて角基板の下面周
辺部を保持し、支持治具を一対の搬送アームに対して相
対的に下方に位置せしめた後、角基板を保持した一対の
搬送アームをスライド移動せしめる。
【００１２】尚、一対の搬送アームを角基板よりも上方
に位置せしめるとともに搬送方向を基準として角基板よ
りも拡開するには、一対の搬送アームの両方を動作させ
てもよいし片方のみを動作させてもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
基板搬送装置の待機状態を示す斜視図、図２は同基板搬
送装置の一対の搬送アームが開いた状態を示す斜視図、
図３は同基板搬送装置の一対の搬送アームが相対的に角
基板よりも下方に位置した状態を示す斜視図、図４は同
基板搬送装置の一対の搬送アームが閉じた状態を示す斜
視図、図５は同基板搬送装置の一対の搬送アームが角基
板を保持した状態を示す斜視図、図６は同基板搬送装置
の一対の搬送アームが角基板を保持したままスライド移
動した状態を示す斜視図である。
【００１４】先ず、本発明に係る搬送装置の構成は、処
理ステーションＳ１，Ｓ２に沿ってガイドレール１が設
けられ、このガイドレール１に一対の搬送アーム２，３
が取り付けられている。尚、図示例では一対の搬送アー
ムを取り付けたが、複数対の搬送アームを取り付けるよ
うにしてもよい。
【００１５】搬送アーム２，３は搬送方向と直交する方
向に延びる第１の保持部２ａ，３ａと、搬送方向と平行
に第１の保持部から延びる第２の保持部２ｂ，３ｂとか
らなる。そして、搬送アーム２の第２の保持部２ｂ，２
ｂの間隔及び搬送アーム３の第２の保持部３ｂ，３ｂの
間隔はガラス基板Ｗの幅方向寸法よりも若干短く設定さ
れ、また第２の保持部２ｂ，２ｂ，３ｂ，３ｂは互いに
向い合う方向に延び、その長さはガラス基板Ｗの搬送方
向寸法の１／２よりも若干短く設定されている。
【００１６】また、搬送アーム２，３は独立して昇降
動、水平方向の開閉動及びガイドレール１に沿ったスラ
イド移動が可能とされている。尚、搬送アーム２，３に
ついては独立して昇降動しないものであっても、ガラス
基板Ｗを支持するピンやチャック等の支持治具４の昇降
動作を細かく設定することで、支障なくガラス基板Ｗを
搬送することができる。
【００１７】次に、搬送方法について図１の待機状態を
出発点として説明する。先ず待機状態にあっては搬送ア
ーム２，３が上下方向に重なっている。このようにする
ことで、スペースの有効利用が図れる。また待機状態で
は、搬送アーム２，３の方がガラス基板Ｗよりも上方位
置にある。
【００１８】次いで、一方の搬送アーム２がガラス基板
Ｗの上方を通過して反対側までスライド移動する。この
移動により図２に示すように、搬送アーム２，３の搬送
方向の間隔がガラス基板Ｗの搬送方向の長さよりも大き
くなる。
【００１９】次いで、搬送アーム２，３を下降させるか
ガラス基板Ｗを上昇させて、図３に示すように、搬送ア
ーム２，３の方がガラス基板Ｗよりも下方位置になるよ
うにする。尚、この時、搬送アーム２，３の高さ位置も
揃えておく。
【００２０】この後、搬送アーム２，３を閉じる。即
ち、水平方向に互いに近づく方向に移動する。移動する
量は、平面視でガラス基板Ｗの四辺部と搬送アーム２，
３の第１及び第２の保持部２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂとが
重なる量とする。
【００２１】そして、上記の状態から搬送アーム２，３
を上昇させるか支持治具４を下降させることで、図５に
示すように、ガラス基板Ｗの四辺部を搬送アーム２，３
の第１及び第２の保持部２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂで下方
から保持する。即ち、ガラス基板Ｗはその下面の略全周
が搬送アームにて保持された状態になる。
【００２２】このとき、保持部２ａ，２ｂ，３ａ，３ｂ
には真空吸着用の孔５が多数形成されているので、ガラ
ス基板を保持すると同時に真空吸着を行い、搬送時にガ
ラス基板がずれないようにする。
【００２３】次いで、搬送アーム２，３と支持治具４と
が干渉しない位置まで搬送アーム２，３を上昇させるか
支持治具４を下降させ、図６に示すように、搬送アーム
２，３を一体的に、即ち、搬送アーム２，３の位置関係
を崩すことなく同期して処理ステーションＳ２までスラ
イド移動する。この後は、処理ステーションＳ２の支持
治具４に前記と逆の動作にて受け渡して、元の待機位置
に戻ることで搬送作業が終了する。
【００２４】
【発明の効果】以上に説明したように本発明に係る角基
板を搬送する基板搬送装置によれば、一対の搬送アーム
に、搬送方向と直交する角基板の周辺部を下から保持す
る第１の保持部と、搬送方向と平行な角基板の周辺部を
下から保持する第２の保持部とを設けたので、角基板の
四辺部若しくは略四辺部を下方から保持するため、基板
中央部の撓み量を抑え、他の部材との干渉や基板の割れ
が防止できる。
【００２５】具体的には、９６０ｍｍ×１１００ｍｍ×
０．７ｍｍのガラス基板を従来の搬送装置で搬送する場
合には、中央部で１００ｍｍの撓みが生じたが、本発明
に係る搬送装置を用いた場合には、中央部での撓み量は
１０ｍｍ以下になった。
【００２６】また、待機位置において、一対の搬送アー
ム同士若しくは隣接する一対の搬送アームの一方と上下
方向に重なるような構成とすることで、スペースの有効
利用が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板搬送装置の待機状態を示す斜
視図
【図２】同基板搬送装置の一対の搬送アームが開いた状
態を示す斜視図
【図３】同基板搬送装置の一対の搬送アームが相対的に
角基板よりも下方に位置した状態を示す斜視図
【図４】同基板搬送装置の一対の搬送アームが閉じた状
態を示す斜視図
【図５】同基板搬送装置の一対の搬送アームが角基板を
保持した状態を示す斜視図
【図６】同基板搬送装置の一対の搬送アームが角基板を
保持したままスライド移動した状態を示す斜視図
【図７】（ａ）は従来の搬送装置の平面図、（ｂ）は従
来の搬送装置の側面図
【符号の説明】
１…ガイドレール、２，３…搬送アーム、２ａ，３ａ…
第１の保持部、２ｂ，３ｂ…第２の保持部、４…支持治
具、５…吸着用の孔、Ｓ１，Ｓ２…処理ステーション、
Ｗ…ガラス基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐合 宏仁 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 5F031 CA05 GA07 GA48 GA49 MA26 MA27 PA13 PA20

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 角基板を搬送する基板搬送装置におい
    て、この搬送装置は一対の搬送アームを備え、この一対
    の搬送アームは水平方向に開閉動するとともに水平方向
    にスライド移動し、更に一対の搬送アームは搬送方向と
    直交する角基板の周辺部を下から保持する第１の保持部
    と、搬送方向と平行な角基板の周辺部を下から保持する
    第２の保持部とを備えていることを特徴とする基板搬送
    装置。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板搬送装置におい
    て、前記第１の保持部及び第２の保持部の寸法は、角基
    板の略四辺を保持する寸法としたことを特徴とする基板
    搬送装置。
  3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板搬送装置におい
    て、前記一対の搬送アームは昇降動することを特徴とす
    る基板搬送装置。
  4. 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれかに記載
    の基板搬送装置において、この搬送装置は、待機位置に
    おいて、一対の搬送アーム同士若しくは隣接する一対の
    搬送アームの一部が上下方向に重なることを特徴とする
    基板搬送装置。
  5. 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のいずれかに記載
    の基板搬送装置を用いた基板搬送方法において、この方
    法は、支持治具にて角基板を下方から支持し、この状態
    の角基板よりも一対の搬送アームを上方に位置せしめる
    とともに一対の搬送アームを搬送方向を基準として角基
    板よりも拡開し、次いで相対的に角基板よりも一対の搬
    送アームを下方に位置せしめ、この後、一対の搬送アー
    ムを閉じ、更に角基板を一対の搬送アームに対して相対
    的に下降せしめることで一対の搬送アームの第１及び第
    ２の保持部にて角基板の下面周辺部を保持し、支持治具
    を一対の搬送アームに対して相対的に下方に位置せしめ
    た後、角基板を保持した一対の搬送アームをスライド移
    動せしめることを特徴とする基板搬送方法。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載の基板搬送方法におい
    て、一対の搬送アームのうちの一方を角基板の上方を通
    過させて反対側に移動することで、一対の搬送アームを
    搬送方向を基準として角基板よりも拡開した状態とする
    ことを特徴とする基板搬送方法。
JP00861699A 1999-01-18 1999-01-18 基板搬送装置及び基板搬送方法 Expired - Fee Related JP4204128B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP00861699A JP4204128B2 (ja) 1999-01-18 1999-01-18 基板搬送装置及び基板搬送方法
US09/483,239 US6247579B1 (en) 1999-01-18 2000-01-14 Substrate transfer apparatus and method of substrate transfer
TW089100748A TW440901B (en) 1999-01-18 2000-01-18 Substrate transfer apparatus and method of substrate transfer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP00861699A JP4204128B2 (ja) 1999-01-18 1999-01-18 基板搬送装置及び基板搬送方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000208587A true JP2000208587A (ja) 2000-07-28
JP4204128B2 JP4204128B2 (ja) 2009-01-07

Family

ID=11697893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP00861699A Expired - Fee Related JP4204128B2 (ja) 1999-01-18 1999-01-18 基板搬送装置及び基板搬送方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6247579B1 (ja)
JP (1) JP4204128B2 (ja)
TW (1) TW440901B (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100134062A (ko) 2008-03-25 2010-12-22 오보텍 엘티 솔라 엘엘씨 처리장치 및 처리 방법
JP2011061141A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Disco Abrasive Syst Ltd 搬送機構および加工装置
WO2014027516A1 (ja) * 2012-08-17 2014-02-20 株式会社プレテック 浸漬式の洗浄装置
US8672603B2 (en) 2009-12-10 2014-03-18 Orbotech LT Solar, LLC. Auto-sequencing inline processing apparatus
US8998552B2 (en) 2007-10-23 2015-04-07 Orbotech LT Solar, LLC. Processing apparatus and processing method
JP2016114784A (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 東京応化工業株式会社 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法
US9462921B2 (en) 2011-05-24 2016-10-11 Orbotech LT Solar, LLC. Broken wafer recovery system
JP2020167185A (ja) * 2019-03-28 2020-10-08 株式会社東京精密 ワーク搬送装置

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4244555B2 (ja) * 2002-02-25 2009-03-25 東京エレクトロン株式会社 被処理体の支持機構
US7019819B2 (en) * 2002-11-13 2006-03-28 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for modulating shapes of substrates
US7641840B2 (en) * 2002-11-13 2010-01-05 Molecular Imprints, Inc. Method for expelling gas positioned between a substrate and a mold
WO2005118914A2 (en) * 2004-05-28 2005-12-15 Board Of Regents, The University Of Texas System Substrate support system and method
US8334967B2 (en) * 2004-05-28 2012-12-18 Board Of Regents, The University Of Texas System Substrate support system having a plurality of contact lands
US7161663B2 (en) * 2004-07-22 2007-01-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
US7636999B2 (en) * 2005-01-31 2009-12-29 Molecular Imprints, Inc. Method of retaining a substrate to a wafer chuck
US7635263B2 (en) * 2005-01-31 2009-12-22 Molecular Imprints, Inc. Chucking system comprising an array of fluid chambers
US7798801B2 (en) * 2005-01-31 2010-09-21 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for nano-manufacturing
CN104317161A (zh) 2005-12-08 2015-01-28 分子制模股份有限公司 用于衬底双面图案形成的方法和系统
US7670530B2 (en) 2006-01-20 2010-03-02 Molecular Imprints, Inc. Patterning substrates employing multiple chucks
US8215946B2 (en) 2006-05-18 2012-07-10 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography system and method

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3973665A (en) * 1975-03-07 1976-08-10 Gca Corporation Article delivery and transport apparatus for evacuated processing equipment
JPS58147636U (ja) * 1982-03-29 1983-10-04 トヨタ自動車株式会社 ワ−ク搬送装置
US4534695A (en) * 1983-05-23 1985-08-13 Eaton Corporation Wafer transport system
US4558984A (en) * 1984-05-18 1985-12-17 Varian Associates, Inc. Wafer lifting and holding apparatus
DE3518347C1 (de) * 1985-05-22 1986-12-04 Ruhrgas Ag, 4300 Essen Ofen zur Waermebehandlung von Werkstuecken
JPH09270383A (ja) 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 基板搬送装置及び基板搬送方法
JP4153054B2 (ja) 1996-10-29 2008-09-17 エスペック株式会社 熱処理装置の搬出入連動式物品搬送装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8998552B2 (en) 2007-10-23 2015-04-07 Orbotech LT Solar, LLC. Processing apparatus and processing method
KR20100134062A (ko) 2008-03-25 2010-12-22 오보텍 엘티 솔라 엘엘씨 처리장치 및 처리 방법
JP2011061141A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Disco Abrasive Syst Ltd 搬送機構および加工装置
US8672603B2 (en) 2009-12-10 2014-03-18 Orbotech LT Solar, LLC. Auto-sequencing inline processing apparatus
US9287152B2 (en) 2009-12-10 2016-03-15 Orbotech LT Solar, LLC. Auto-sequencing multi-directional inline processing method
US9462921B2 (en) 2011-05-24 2016-10-11 Orbotech LT Solar, LLC. Broken wafer recovery system
WO2014027516A1 (ja) * 2012-08-17 2014-02-20 株式会社プレテック 浸漬式の洗浄装置
JP2016114784A (ja) * 2014-12-15 2016-06-23 東京応化工業株式会社 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法
JP2020167185A (ja) * 2019-03-28 2020-10-08 株式会社東京精密 ワーク搬送装置
JP7315820B2 (ja) 2019-03-28 2023-07-27 株式会社東京精密 ワーク搬送装置

Also Published As

Publication number Publication date
US6247579B1 (en) 2001-06-19
TW440901B (en) 2001-06-16
JP4204128B2 (ja) 2009-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000208587A (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
US5823736A (en) Substrate processing device and method for substrate from the substrate processing device
TW422808B (en) Substrate transfer shuttle
TW201016574A (en) Position alignment device for cassette of exposure equipment
JPH05182891A (ja) 基板の位置決め装置
JP2002299416A (ja) 基板搬送装置
JP2006289817A (ja) 印刷装置および印刷方法
KR100519983B1 (ko) 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법
JP2941505B2 (ja) 基板位置決め方法
JP2002012321A (ja) 基板搬送装置
KR100646161B1 (ko) 기판 얼라인 장치
JP4674467B2 (ja) 基板搬送方法、基板搬送装置、露光方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP4474672B2 (ja) 基板移載装置
JPH10239855A (ja) 基板搬送装置
JP2662450B2 (ja) 基板処理装置間のインターフェイス装置
JPH0755533Y2 (ja) 基板収納用カセットの歪み矯正装置
JP2000223546A (ja) 基板処理装置
JP2000335741A (ja) 受渡機構および予備位置決め機構ならびに受渡方法
JPH1159894A (ja) 大型ガラス基板のハンドリング装置
JP2002313884A (ja) 板状体の位置のアライメント機構
JPH08141966A (ja) ガラス基板のハンドリング機構
US6882408B2 (en) Reticle transferring support and transferring method thereof
JP2002252272A (ja) ガラス基板搬送装置及び露光装置
KR200177276Y1 (ko) 반도체 웨이퍼의 프로브 장비
JP4243373B2 (ja) 縦型基材搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050316

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050601

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070827

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080722

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080916

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081014

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081014

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111024

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121024

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131024

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees