JP2013086129A - レーザビームによるガラス基板加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このレーザ加工装置は、レーザビーム出力部15と、レーザビーム出力部15から出射されたレーザビームを偏向させるための第1及び第2ウェッジプリズム17a,18aと、各ウェッジプリズム17a,18aを回転させるための第1及び第2中空モータ17,18と、第2ウェッジプリズム18aを通過したレーザビームをワークの加工予定ライン上に集光させる集光レンズ19と、集光されたレーザビームをワークの加工予定ラインに沿って走査する走査手段と、制御部34と、を備えている。制御部34は、レーザビームが加工予定ラインに沿って走査される際に、集光レンズ19によるレーザビームの集光点が光軸上の一点に集光されるように各ウェッジプリズム17a,18aを光軸の回りに回転する。
【選択図】図4
Description
図1に本発明の一実施形態によるレーザ加工装置の全体構成を示す。このレーザ加工装置は、樹脂フィルム等のワークの加工予定ラインに沿ってレーザビームを照射し、所望の形状に切断するための装置である。この装置は、ベッド1と、加工対象としてのワークが載置されるワークテーブル2と、ワークにレーザビームを照射するためのレーザビーム照射ヘッド3と、を備えている。ここで、図1に示すように、ベッド1の上面に沿った平面において、互いに直交する軸をX軸、Y軸とし、これらの軸に直交する鉛直方向の軸をZ軸と定義する。また、X軸に沿った両方向(+方向及び−方向)をX軸方向、Y軸に沿った両方向をY軸方向、Z軸に沿った両方向をZ軸方向と定義する。
<ワークテーブル>
ワークテーブル2は、矩形状に形成されており、ワークテーブル2の下方には、ワークテーブル2をX軸方向及びY軸方向に移動させるためのテーブル移動機構5が設けられている。
テーブル移動機構5は、図1に示すように、それぞれ1対の第1ガイドレール8及び第2ガイドレール9と、第1移動テーブル10と、第2移動テーブル11と、を有している。1対の第1ガイドレール8はベッド1の上面にY軸方向に延びて設けられている。第1移動テーブル10は、第1ガイドレール8の上部に設けられ、第1ガイドレール8に移動自在に係合する複数のガイド部10aを下面に有している。1対の第2ガイドレール9は第1移動テーブル10の上面にX軸方向に延びて設けられている。第2移動テーブル11は、第2ガイドレール9の上部に設けられ、第2ガイドレール9に移動自在に係合する複数のガイド部11aを下面に有している。第2移動テーブル11の上部には、固定部材12を介してワークテーブル2が取り付けられている。
レーザビーム照射ヘッド3は、図1及び図2に示すように、ベッド1の上面に配置された門型フレーム1aに装着されており、レーザビーム出力部15と、光学系16と、第1中空モータ17と、第2中空モータ18と、集光レンズ19と、を有している。なお、第1中空モータ17及び第2中空モータ18により、レーザビームを偏向する偏向ユニット20が構成されている。
レーザビーム出力部15は従来と同様のレーザ管により構成されている。このレーザビーム出力部15によって、例えば、波長9.4μmのCO2レーザがY軸に沿ってワークテーブル2とは逆側に出射される。
光学系16は、レーザビーム出力部15からのレーザビームを第1中空モータ17の中心部に導くものである。この光学系16は、図2に示すように、第1〜第4ミラー25〜28と、ビームエキスパンダ30と、を有している。
図3に偏向ユニット20及び集光レンズ19の取付構造を示している。なお、図3において、一点鎖線はレーザビームを示している。
以上のようなレーザ照射ヘッド3は、前述のように、ベッド1の門型フレーム1aに支持されている。より詳細には、図2に示すように、門型フレーム1aの上面にはX軸方向に延びる1対の第3ガイドレール36が設けられており、この1対の第3ガイドレール36及び図示しない駆動機構がX軸方向移動機構21を構成している。そして、1対の第3ガイドレール36には、支持部材37が移動自在に支持されている。支持部材37は、第3ガイドレール36に支持された横支持部材38と、横支持部材38のワークテーブル2側の一端側から下方に延びる縦支持部材39と、を有している。縦支持部材39の側面には、Z軸方向に延びる1対の第4ガイドレール40が設けられており、この1対の第4ガイドレール40及び図示しない駆動機構がZ軸方向移動機構22を構成している。第4ガイドレール40には、Z軸方向に移動自在に第3移動テーブル41が支持されている。
次に、レーザビームによる樹脂フィルムの切断動作について説明する。
端面テーパの角度を調整する場合は、第1ウェッジプリズム17aと第2ウェッジプリズム18aの位相差が制御部34によって制御される。具体的には、図4(a)に示すように、両ウェッジプリズム17a,18aの位相差を「0」にすると、樹脂フィルムの端面テーパはθ11及びθ12となる。また、図4(b)に示すように、両ウェッジプリズム17a,18aの位相差を「π/2」にすると、樹脂フィルムの端面テーパはθ21及びθ22となる。さらに、図4(c)に示すように、両ウェッジプリズム17a,18aの位相差を「π」にすると、樹脂フィルムの端面テーパはθ31及びθ32となる。
(1)第1ウェッジプリズム17aと第2ウェッジプリズム18aの位相差を調整することにより、レーザビームによって切断された部分の端面テーパを任意の角度に制御することができる。
本発明は以上のような実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形又は修正が可能である。
15 レーザ出力部
16 光学系
17 第1中空モータ
17a 第1ウェッジプリズム
18 第2中空モータ
18a 第2ウェッジプリズム
19 集光レンズ
20 偏向ユニット
Claims (4)
- ワークの加工予定ラインに沿ってレーザビームを照射し、ワークを切断するレーザ加工装置であって、
ワークが載置されるワークテーブルと、
レーザビームを出力するレーザビーム出力部と、
レーザビーム出力部から出射されたレーザビームを偏向させるための少なくとも1つのウェッジプリズムを有する偏向ユニットと、
前記ウェッジプリズムを通過したレーザビームを、ワークの加工予定ライン上に集光させる集光レンズと、
集光されたレーザビームをワークの加工予定ラインに沿って走査する走査手段と、
前記レーザビームが加工予定ラインに沿って走査される際に、前記集光レンズによるレーザビームの集光点が光軸上の一点に集光されるように前記ウェッジプリズムを光軸の回りに回転する回転制御手段と、
を備えたレーザ加工装置。 - 前記回転制御手段は、ワークの平面視において、加工予定ラインの接線に対してレーザビームが垂直になるように前記ウェッジプリズムを回転させる、請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記偏向ユニットは、光軸に沿って対向して配置された第1ウェッジプリズム及び第2ウェッジプリズムを有し、
前記回転制御手段は、前記第1ウェッジプリズム及び前記第2ウェッジプリズムの少なくともいずれか一方を回転させて前記両ウェッジプリズムの位相差を制御する、
請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。 - 前記回転制御手段は、前記第1ウェッジプリズムが内部に配置された第1中空モータと、前記第2ウェッジプリズムが内部に配置された第2中空モータと、前記第1及び第2中空モータの回転を独立して制御可能な制御部と、を有する、請求項3に記載のレーザ加工装置。
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