JP2007021556A - レーザ照射装置、レーザスクライブ方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レーザ照射装置100は、レーザ光源101と、出射されたレーザ光を集光する集光レンズ103と、レーザ光の集光点の位置を調整可能なZ軸スライド機構104と、基板Wを光軸101aと略直交する平面内で移動可能なX軸スライド部110およびY軸スライド部108と、レーザ光の集光領域が基板Wの厚み方向の所定の位置に位置するようにZ軸スライド機構104を制御するレンズ制御部122と、基板Wの切断予定位置に沿って集光領域が相対移動するようにX軸スライド部110およびY軸スライド部108を制御するステージ制御部123とを備え、集光レンズ103と基板Wとの間に、石英ガラス板106が挿入されている。
【選択図】 図3
Description
まず、液晶表示パネルについて説明する。図1は、液晶表示パネルの構造を示す概略図である。同図(a)は概略正面図、同図(b)は同図(a)のA−A線で切った概略断面図である。
次に、本発明を適用したレーザ照射装置について説明する。図3は、レーザ照射装置の構成を示す概略図である。
次に本発明を適用したレーザスクライブ方法について説明する。図6は、レーザスクライブ方法を示すフローチャートである。
(1)上記実施形態のレーザ照射装置100は、集光レンズ103の開口部103aの前面に石英ガラス板106を挿入することが可能な構成となっているため、集光レンズ103を透過したパルスレーザ光を屈折させて、軸上色収差が拡がった集光領域117にパルスレーザ光を集光させることができる。したがって、このような波長分散特性を有するパルスレーザ光を石英ガラス基板からなる基板Wの内部に集光点を結ぶように照射すれば、集光領域117において多光子吸収されて形成される改質領域21を、石英ガラス板106を挿入しないで形成される改質領域20に比べて拡大することができる。ゆえに、1回のレーザ照射により形成される改質領域の大きさを拡大して高い生産性で基板Wのスクライブが可能なレーザ照射装置100を提供することができる。
(変形例1)上記実施形態のレーザ照射装置100において、石英ガラス板106を挿入可能な挿入手段としてのモータ105を備えているが、これに限定されない。石英ガラス板106を集光レンズ103の開口部103a側に固定して配置してもよい。
Claims (4)
- 波長分散特性を有するパルスレーザ光を出射するレーザ光源と、
前記パルスレーザ光を集光する集光手段と、
前記パルスレーザ光の集光点の加工対象物に対する位置を調整可能な調整手段と、
前記集光手段に対して前記加工対象物を前記パルスレーザ光の光軸と略直交する平面内で相対的に移動可能な移動手段と、
前記パルスレーザ光が集光された集光領域が前記加工対象物の厚み方向の所定の位置に配置されるように前記調整手段を制御すると共に、前記加工対象物の切断予定位置に沿って前記集光領域が相対的に移動するように前記移動手段を制御する制御部とを有し、
前記集光手段と前記加工対象物との間の前記光軸上に、屈折率が1よりも大きい軸上色収差拡大手段を備えていることを特徴とするレーザ照射装置。 - 前記軸上色収差拡大手段を前記光軸に略直交するように挿入可能な挿入手段をさらに備え、
前記制御部は、前記挿入手段を制御して、前記軸上色収差拡大手段を前記集光手段と前記加工対象物との間に挿入することを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射装置。 - 請求項1または2に記載のレーザ照射装置を用い、波長分散特性を有する集光されたパルスレーザ光を加工対象物に照射して、前記加工対象物が多光子吸収して形成される改質領域を前記加工対象物の切断予定位置に沿った厚み方向に形成するレーザスクライブ方法であって、
前記パルスレーザ光の光軸が前記加工対象物の前記切断予定位置の線上に位置するように前記集光手段と前記加工対象物とを相対的に位置決めする位置決め工程と、
前記軸上色収差拡大手段を前記集光手段と前記加工対象物との間に配置して、前記パルスレーザ光の集光領域の少なくとも一部が前記加工対象物の前記パルスレーザ光の入射面と反対側の表面に掛かるように集光点の位置を前記調整手段によって調整する調整工程と、
前記集光手段に対して前記加工対象物を相対移動させながら前記切断予定位置に沿って前記パルスレーザ光を照射して第1の改質領域を形成する第1の走査工程と、
前記調整手段によって前記集光領域を前記加工対象物の厚み方向にずらし、前記集光手段に対して前記加工対象物を相対移動させながら前記切断予定位置に沿って前記パルスレーザ光を照射して、前記第1の走査工程で形成された前記第1の改質領域に前記厚み方向において連続するように第2の改質領域を形成する第2の走査工程とを備えることを特徴とするレーザスクライブ方法。 - 請求項2に記載のレーザ照射装置を用い、波長分散特性を有する集光されたパルスレーザ光を加工対象物に照射して、前記加工対象物が多光子吸収して形成される改質領域を前記加工対象物の切断予定位置に沿った厚み方向に形成するレーザスクライブ方法であって、
前記パルスレーザ光の光軸が前記加工対象物の前記切断予定位置の線上に位置するように前記集光手段と前記加工対象物とを相対的に位置決めする位置決め工程と、
前記パルスレーザ光の集光領域の少なくとも一部が前記加工対象物の前記パルスレーザ光の入射面と反対側の表面に掛かるように集光点の位置を調整する調整工程と、
前記集光手段に対して前記加工対象物を相対移動させながら前記切断予定位置に沿って前記パルスレーザ光を照射して第1の改質領域を形成する第1の走査工程と、
前記挿入手段によって前記軸上色収差拡大手段を前記集光手段と前記加工対象物との間に挿入すると共に前記調整手段によって前記集光領域を前記加工対象物の厚み方向にずらし、前記集光手段に対して前記加工対象物を相対移動させながら前記切断予定位置に沿って前記パルスレーザ光を照射して、前記第1の走査工程で形成された前記第1の改質領域に前記厚み方向において連続するように第2の改質領域を形成する第2の走査工程とを備えることを特徴とするレーザスクライブ方法。
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JP2011155070A (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-11 | Saitama Univ | 基板加工方法 |
JP2013223886A (ja) * | 2007-04-05 | 2013-10-31 | Charm Engineering Co Ltd | レーザ加工方法及び切断方法並びに多層基板を有する構造体の分割方法 |
CN107790894A (zh) * | 2016-08-30 | 2018-03-13 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种激光切割系统及方法 |
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