JP2013048159A - レーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のレーザ加工装置1は、所定波長の励起光を出力する複数の半導体レーザから射出される励起光を合波して増幅し、増幅されたレーザ光を出力する光学部2Aと、複数の半導体レーザの出力を制御する制御部2Bと、光学部2Aから発生する熱を冷却する冷却ファンを具備した冷却部2Cと、を収容した光学ユニット用筐体2と、光学部2Aに対して電源供給する光学部用電源5Aと、冷却部2Cの冷却ファンに対して電源供給する冷却部用電源5Cと、制御部2Bに対して電源供給する制御部用電源5Bと、を収容し、光学ユニット用筐体2に対して電気的に接続可能な電源ユニット用筐体5と、を有する。
【選択図】図1
Description
最初に図1を参照して、レーザ加工装置の全体的な概略構成について説明する。
本実施形態に係るレーザ加工装置1は、レーザ光を出力する光学部2Aと、レーザ光の出力を制御する制御部2Bと、光学部2Aから発生する熱を冷却する冷却ファンを具備した冷却部2Cと、を収容した光学ユニット用筐体2を備えている。また、レーザ加工装置1は、光学ユニット用筐体2に対して電気的に接続可能な電源ユニット用筐体5を備えており、この電源ユニット用筐体5には、前記光学部2Aに対して電源供給する光学部用電源5Aと、前記制御部2Bに対して電源供給する制御部用電源5Bと、前記冷却部2Cの冷却ファンに対して電源供給する冷却部用電源5Cが収容されている。
なお、前記光学部用電源5Aは、光学部2Aから発振されるレーザの出力パワーが調整可能となるように、可変電圧源として構成されていても良い。
本実施形態の光学部2Aは、ファイバ型レーザ発振装置20として構成されており、複数個の半導体レーザ21a,21b,21c…と、各半導体レーザに接続され、半導体レーザが出力する励起光を導波するマルチモード光ファイバ22a,22b,22c…と、各マルチモード光ファイバが導波する励起光をダブルクラッド光ファイバ25に結合する光合波器24と、ダブルクラッド光ファイバ25に接続され、光増幅媒体となる増幅用ダブルクラッド光ファイバ27とを備えている。
以下、図3を参照して、本実施形態の光学ユニット用筐体2、及びそこに収容される光学部2A(ファイバ型レーザ発振装置20)の設置態様について説明する。
2 光学ユニット用筐体
5 電源ユニット用筐体
20 ファイバ型レーザ発振装置(光学部)
Claims (4)
- 所定波長の励起光を出力する複数の半導体レーザから射出される励起光を合波して増幅し、増幅されたレーザ光を出力する光学部と、前記複数の半導体レーザの出力を制御する制御部と、前記光学部から発生する熱を冷却する冷却ファンを具備した冷却部と、を収容した光学ユニット用筐体と、
前記光学部に対して電源供給する光学部用電源と、前記冷却部の冷却ファンに対して電源供給する冷却部用電源と、前記制御部に対して電源供給する制御部用電源と、を収容しており、前記光学ユニット用筐体に対して電気的に接続可能な電源ユニット用筐体と、
を有することを特徴とするレーザ加工装置。 - 前記電源ユニット用筐体には、前記光学ユニット用筐体に設置された制御部から送信される駆動停止信号により、前記各電源の駆動をOFFする電源制御部が設置されていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
- 前記電源制御部は、電源ユニット用筐体内の温度が所定の設定温度を超えたとき、各電源の駆動をOFFする機能を有することを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 前記光学ユニット用筐体には、放熱性を有し両端が開口したダクトが設置されており、
前記ダクトの両端の開口部分に、ダクト内に空気を流すように前記冷却ファンが設置されると共に、ダクトの表面に前記複数の半導体レーザと制御部が設置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のレーザ加工装置。
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