JP2013047361A - スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート - Google Patents

スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート Download PDF

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015040717A1 (ja) * 2013-09-19 2015-03-26 積水化学工業株式会社 ガスバリア性フィルム及びその製造方法
JP2015189011A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 積水化学工業株式会社 積層バリアシート
JP2018086860A (ja) * 2018-03-08 2018-06-07 積水化学工業株式会社 積層バリアシート
JP2019183244A (ja) * 2018-04-16 2019-10-24 住友金属鉱山株式会社 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、スパッタリングターゲット及び透明樹脂基板
WO2020129424A1 (ja) 2018-12-21 2020-06-25 コニカミノルタ株式会社 誘電体膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材
WO2020129558A1 (ja) 2018-12-21 2020-06-25 コニカミノルタ株式会社 誘電体多層膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104087906A (zh) * 2014-07-29 2014-10-08 林嘉佑 氧化锌锡陶瓷靶的制备工艺及使用该靶材制备氧化锌锡镀膜的方法
CN113087519B (zh) * 2021-04-02 2022-11-11 基迈克材料科技（苏州）有限公司 导电锌-锡氧化物靶材及其制备方法与应用
CN114560692B (zh) * 2022-03-07 2022-12-16 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种ZnO掺杂SnO2靶材及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000256060A (ja) * 1999-03-05 2000-09-19 Idemitsu Kosan Co Ltd 透明導電材料、透明導電ガラス及び透明導電フィルム
JP2001011613A (ja) * 1999-06-29 2001-01-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法
JP2006044994A (ja) * 2004-08-04 2006-02-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 酸化インジウム粉末
JP2009132998A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Mitsubishi Materials Corp ＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法
JP2010037161A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Hitachi Metals Ltd 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜
JP2010524732A (ja) * 2007-04-27 2010-07-22 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 透明バリヤーフィルム及びそれらの製造方法
JP2010248547A (ja) * 2009-04-13 2010-11-04 Hitachi Metals Ltd 酸化物半導体ターゲット及びそれを用いた酸化物半導体装置の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7232615B2 (en) * 2001-10-22 2007-06-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating stack comprising a layer of barrier coating
TWI263691B (en) * 2002-02-28 2006-10-11 Tosoh Corp Sputtering target and method for producing the same

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000256060A (ja) * 1999-03-05 2000-09-19 Idemitsu Kosan Co Ltd 透明導電材料、透明導電ガラス及び透明導電フィルム
JP2001011613A (ja) * 1999-06-29 2001-01-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法
JP2006044994A (ja) * 2004-08-04 2006-02-16 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 酸化インジウム粉末
JP2010524732A (ja) * 2007-04-27 2010-07-22 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 透明バリヤーフィルム及びそれらの製造方法
JP2009132998A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Mitsubishi Materials Corp ＺｎＯスパッタリングターゲットとその製造方法
JP2010037161A (ja) * 2008-08-06 2010-02-18 Hitachi Metals Ltd 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜
JP2010248547A (ja) * 2009-04-13 2010-11-04 Hitachi Metals Ltd 酸化物半導体ターゲット及びそれを用いた酸化物半導体装置の製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015040717A1 (ja) * 2013-09-19 2015-03-26 積水化学工業株式会社 ガスバリア性フィルム及びその製造方法
JP2015189011A (ja) * 2014-03-27 2015-11-02 積水化学工業株式会社 積層バリアシート
JP2018086860A (ja) * 2018-03-08 2018-06-07 積水化学工業株式会社 積層バリアシート
JP2019183244A (ja) * 2018-04-16 2019-10-24 住友金属鉱山株式会社 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、スパッタリングターゲット及び透明樹脂基板
WO2019202819A1 (ja) * 2018-04-16 2019-10-24 住友金属鉱山株式会社 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、スパッタリングターゲット及び透明樹脂基板
WO2020129424A1 (ja) 2018-12-21 2020-06-25 コニカミノルタ株式会社 誘電体膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材
WO2020129558A1 (ja) 2018-12-21 2020-06-25 コニカミノルタ株式会社 誘電体多層膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材

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