JP2013038415A - 薄膜電極セラミック基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薄膜電極セラミック基板は、セラミック基板と、セラミック基板の表面に形成されたエッチング防止金属層と、エッチング防止金属層上に形成された薄膜電極パターンと、薄膜電極パターン上に形成されたメッキ層と、を含み、薄膜電極パターンの各エッジ部は前記エッチング防止金属層と接することを特徴とする。薄膜電極セラミック基板は、セラミック基板の表面に陰刻形状のエッチング防止金属層を形成することにより、セラミック基板の表面と薄膜電極パターンとの間、及び薄膜電極パターンの間でエッチング液によって発生するアンダーカットを防止できる。また、薄膜電極パターンのエッジ部のセラミック基板表面の金属層に対する接着力が向上されることができ、薄膜電極パターン全体の固着力を向上させることができるため、薄膜電極パターンの耐久性及び信頼性を確保できる。
【選択図】図3
Description
図5に示す一連の工程を経て、薄膜電極セラミック基板を製造した。
前記実施例で、エッチング防止金属層を形成せず、図1に示す一連の工程を経て薄膜電極セラミック基板を製造した。
前記実施例及び比較例により製造された薄膜電極パターンのセラミック基板に対する固着強度をBST(Ball Shear Test)測定方法を利用して測定し、その結果を図8に示した。
11、12、111、112 薄膜電極層
13、113 感光性保護層
114 メッキ層
121 エッチング防止金属層
A アンダーカット(undercut)不良が発生した部分
B 感光性保護層間の間隔、薄膜電極パターンの間隔
C 研磨ライン
Claims (14)
- セラミック基板と、
前記セラミック基板の表面に形成されたエッチング防止金属層と、
前記エッチング防止金属層上に形成された薄膜電極パターンと、
前記薄膜電極パターン上に形成されたメッキ層と
を含み、
前記薄膜電極パターンの各エッジ部は、前記エッチング防止金属層と接するものである薄膜電極セラミック基板。 - 前記エッチング防止金属層は、前記薄膜電極パターンの幅より大きく形成されるものである請求項1に記載の薄膜電極セラミック基板。
- 前記エッチング防止金属層は、前記薄膜電極パターンの各エッジ部と接する領域を除き、一定間隔で離隔されて形成されるものである請求項1または2に記載の薄膜電極セラミック基板。
- 前記エッチング防止金属層は、前記セラミック基板の表面に陰刻に形成されるものである請求項1から3の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板。
- 前記エッチング防止金属層は、前記セラミック基板の表面と同一の高さに形成されるものである請求項1から4の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板。
- 前記エッチング防止金属層は、銀(Ag)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)、及び金(Au)からなる群から選択される1種以上の材料で形成されるものである請求項1から5の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板。
- 前記メッキ層は、1層以上で含まれるものである請求項1から6の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板。
- 前記メッキ層は、銅(Cu)層、ニッケル(Ni)層、及び金(Au)層が順に構成されるものである請求項7に記載の薄膜電極セラミック基板。
- セラミック基板の表面にエッチング防止金属層を形成する第1段階と、
前記エッチング防止金属層に薄膜電極層を形成する第2段階と、
前記薄膜電極層上に感光性保護層を形成する第3段階と、
前記感光性保護層を露光及び現像する第4段階と、
前記感光性保護層が現像された領域にメッキ層を形成する第5段階と、
前記感光性保護層を除去する第6段階と、
前記薄膜電極層をエッチングし、薄膜電極パターンを形成する第7段階と、
を含む薄膜電極セラミック基板の製造方法。 - 前記エッチング防止金属層は、前記セラミック基板の表面に陰刻に形成されるものである請求項9に記載の薄膜電極セラミック基板の製造方法。
- 前記エッチング防止金属層は、
焼成されたセラミック基板に陰刻パターンを形成する段階と、
前記陰刻パターンにエッチング防止金属層の形成材料を満たす段階と
を経て形成されるものである請求項9または10に記載の薄膜電極セラミック基板の製造方法。 - 前記エッチング防止金属層は、セラミック基板を焼成する前に、
前記セラミック基板の内部にエッチング防止金属層を形成する段階と、
前記セラミック基板を焼成する段階と、
前記エッチング防止金属層が形成されたセラミック基板の表面を研磨する段階と
を経て形成されるものである請求項9から11の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板の製造方法。 - 前記感光性保護層を露光及び現像する第4段階で、
前記感光性保護層が現像される領域の幅は、前記エッチング防止金属層の幅より小さく形成される請求項9から12の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板の製造方法。 - 前記第7段階のエッチングは、前記薄膜電極層を構成する各電極を順にエッチングするものである請求項9から13の何れか1項に記載の薄膜電極セラミック基板の製造方法。
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