JP2013011715A - 露光方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置の露光手段に、光源から発射された露光光を多数の点光源に変換する光インテグレータ161と、光インテグレータを透過した露光光を平行光に変換するコリメートミラー118と、コリメートミラーで平行光に変換された露光光を平面鏡で反射してマスクに照射するミラーユニット120とを備え、ミラーユニットは、平面鏡の露光光を反射する面と反対側の面を押すアクチュエータ122を2次元状に配列して装備し、制御手段は、ステージ手段130に載置された基板の表面に相当する位置に照射した露光光から得られる光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出されたミラーユニットの個々のアクチュエータの駆動量に基づいてこのアクチュエータを制御するようにした。
【選択図】図3
Description
一方、再公表特許WO2007−145038号公報(特許文献3)には、マスクと基板との平面ずれ量を検出し、コリメーションミラーによって反射される露光用の光の照射角度を、検出された平面ずれ量に応じて設定することにより、露光面上での照度ムラやばらつきを小さくしてより均一な倍率補正を可能にしてパターン形成精度補正を実現する方法が記載されている。
特許文献1には、露光光の光路中にフライアイレンズを配置して光強度を均一化する構成が記載されているが、露光するガラス基板の面積が大面積化し、これに伴ってマスクの面積も大きくなってくると、フライアイレンズだけでは十分な露光光の均一化を図ることができない。
ン制御が求められる場合でも、平面鏡の精密な制御を可能とすることで、製造歩留りを向上させることができ、産業廃棄物低減などが実現可能となる。
ここで、z:平面鏡湾曲量 c:平面鏡曲率 k:コーニック定数 cj:xyの係数
r:(x2+y2)1/2 nt:多項式項数
平面鏡121の実際の形状を算出した後、中心光線角度を目標値0.25°へ到達させるため、シミュレーションにより露光面上での光線の入射角度が0°に近づく様、平面鏡を最適化する(S503)。例えば、実測した中心光線角度が0°〜0.6°の範囲で分布を持っていたとする(図7の領域71(中心光線角度0°〜0.2°)、領域72(中心光線角度0.2°〜0.4°)、領域73(中心光線角度0.4°〜0.6°))。この値を入力値として、PC310に搭載したシミュレータにて、光線の中心光線角度の目標値を0°と設定し、平面鏡に適用しているXY多項式の係数(X、Y、X2、XY、Y2、X3、X2Y、XY2、Y3)を変数とし、中心光線角度が上記目標値に入る様、シミュレーションにより平面鏡最適化を実施する。
その後、ピンホールカメラ300を用いて露光面11の露光領域における中心光線角度を実測し(S509)、露光面での光線の中心光線角度が目標値を達成しているか確認し(S510)、目標値を達成していればフィードバック終了となる。目標値が達成していない場合、S503へ戻って実測した平面鏡の中心光線角度の結果をシミュレーションモデルに反映させ、再度シミュレーションにより、S504からS509までを実施し、実測値が目標値を満たすまで繰り返し、実測値が目標値を満たした時点で終了とする。
Claims (12)
- 露光光を発射する光源を有する露光光学手段と、
マスクを保持するマスクホルダ手段と、
基板を載置して平面内で移動可能なステージ手段と、
前記露光光学手段と前記ステージ手段とを制御して前記ステージ手段に載置された基板上を順次露光する制御手段と
を備えた露光装置であって、
前記露光手段は、前記光源から発射された露光光を多数の点光源に変換する光インテグレータと、該光インテグレータを透過した露光光を平行光に変換するコリメートミラーと、該コリメートミラーで平行光に変換されて露光光を平面鏡で反射して前記マスクホルダに保持されているマスクに照射するミラーユニットとを備え、
該ミラーユニットは、前記平面鏡の前記露光光を反射する面と反対側の面を押すアクチュエータを2次元状に配列して装備し、
前記制御手段は、前記ステージ手段に載置された基板の表面に相当する位置に照射した前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報に基づき2次元状に配列された個々のアクチュエータを制御することを特徴とする露光装置。 - 前記光インテグレータは、複数のフライアイレンズで構成されており、前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は前記複数のフライアイレンズのうちの前記光源に一番近いフライアイレンズにより形成される点光源の情報であることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出された前記ミラーユニットの2次元に配列された個々のアクチュエータの駆動量の情報に基づいて該アクチュエータを制御することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、該点光源からの光の前記基板の表面に対応する位置に入射する入射角の情報と、前記点光源の照度分布の情報であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の露光装置。
- 前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記ステージ手段に載置された基板の表面に相当する位置にピンホールを設置したピンホールカメラで撮像して得た前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の露光装置。
- 前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記ピンホールカメラを前記露光光が照射される領域内を順次移動させて取得した前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 光源から発射された露光光を光学系を介して光を透過するパターンが形成されたマスクに照射し、該マスクに照射された露光光のうち前記パターンを透過した露光光を前記マスクと近接して配置された基板の第1の領域に塗布されたレジスト上に投射して該レジストを露光することを前記基板の全面に亘って繰返すことにより、前記マスクに形成されたパターンで前記基板の前面を露光する方法であって、
前記露光光を前記マスクに照射することを、前記光源から発射された露光光を光インテグレータを透過させて複数の点光源に変換し、該光インテグレータを透過して複数の点光源に変換された露光光をコリメートミラーで平行光に変換し、該平行光に変換された露光光を裏面にアクチュエータを2次元状に配列して装備した平面鏡で反射して前記マスクに照射することにより行い、
前記平面鏡の裏面に2次元状に配列したアクチュエータを、前記露光する基板の表面に相当する位置に照射した前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報に基づいて制御することを特徴とする露光方法。 - 前記光インテグレータは、複数のフライアイレンズで構成されており、前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は前記複数のフライアイレンズのうちの前記光源に一番近いフライアイレンズにより形成される点光源の情報であることを特徴とする請求項7記載の露光方法。
- 前記2次元状に配列したアクチュエータを制御することを、前記光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出された前記個々のアクチュエータの駆動量に基づいて制御することを特徴とする請求項7記載の露光方法。
- 前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、該点光源からの光の前記露光する基板の表面に相当する位置に入射する入射角の情報と、前記点光源の照度分布の情報であることを特徴とする請求項7乃至9の何れかに記載の露光方法。
- 前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記露光する基板の表面に相当する位置にピンホールを設置したピンホールカメラで撮像して得た前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項7乃至9の何れかに記載の露光方法。
- 前記露光光から得られる前記光インテグレータの点光源に関する情報は、前記ピンホールカメラを前記露光光が照射される領域内を順次移動させて取得した前記露光光の画像を処理することにより得られた情報であることを特徴とする請求項11記載の露光方法。
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