CN102854754A - 曝光方法及其装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及曝光装置以及其方法。曝光装置的曝光机构，具备：光学积分器，将从光源发射的曝光光转换为多个点光源；准直镜，将透射光学积分器后的曝光光转换为平行光；及反射镜单元，将由准直镜转换为平行光后的曝光光用反射镜反射并照射到掩模上，反射镜单元以二维状排列地装备驱动器，该驱动器推压平面镜的与反射曝光光的面相反一侧的面，控制机构基于反射镜单元的各个驱动器的驱动量控制该驱动器，上述各个驱动器的驱动量是使用与光学积分器的点光源相关的信息而算出的，与光学积分器的点光源相关的信息是从照射到与载置于平台机构的基板的表面相当的位置上的曝光光获得的。

Description

曝光方法及其装置

技术领域

本发明涉及在平板显示器的制造工序中在玻璃基板上形成图形时的曝光技术，尤其涉及在液晶显示器的滤色器制造工序的曝光工序中适于在大面积的玻璃基板上均匀地曝光图形的曝光方法及其装置。

背景技术

图9表示现在的液晶显示器制造中的制造工序例。首先，在玻璃基板工序921、922中，在进行玻璃基板的切断之后，分为前面版（前面版）、背面版两个工序。在背面版中，在阵列工序923中，在玻璃基板上反复进行成膜工序、光刻蚀工序，形成薄膜晶体管。另外，在上述前面版中，在滤色器工序924中，在基板上形成红、绿、蓝滤色器，在上部形成透明电极（ITO）。其后，在下面的单元工序25中组合从上述两个工序完成的两基板，在其间放入液晶物质。而且，在模块工序26中，组装背光灯或驱动用电源等，完成液晶显示器。

这里，用图10叙述滤色器工序的详细情况。将以颜料为基础的彩色抗蚀剂涂敷在玻璃上，伴随曝光和显影的光刻蚀法为现在主流。首先，在洗净工序1031中洗净玻璃基板表面，在涂敷工序1032中在玻璃基板整个面上涂敷彩色抗蚀剂。（彩色抗蚀剂涂敷工序）其后，在曝光工序1033中通过光刻掩模进行图形曝光并进行UV硬化，使其不溶化。其后，在显影工序1034中通过显影液除去彩色抗蚀剂的不需要的部分后，再次在洗净工序1035中洗净显影后的表面，通过酚醛树脂使其硬化。（显影、烘焙）并且，反复三次进行彩色抗蚀剂涂敷、曝光、显影、烘焙工序。其后，经过外部涂层工序1036、洗净工序1037、检查工序1038，在ITO膜形成工序1039中，采用飞溅法形成ITO（透明导电）膜，进行最终检查工序1040，成为进入下面的单元组装工序的结构。

图11表示滤色器的构造例。在玻璃基板1141上形成黑色矩阵1142、RGB三原色的图形1143、1144、1145，形成了ITO膜46的是滤色器。

另外，作为在滤色器工序的曝光工序使用的曝光装置，具有以下的投影方式和接近方式的两个方式，该投影方式使用透镜或反射镜将光刻掩模的图形投影在基板上，该接近方式在掩模与基板之间设置微小的间隔（接近间隙）而将掩模的图形复制在基板上。接近方式与投影方式相比析像能力变差，但照射光学系统的构成简单，并且处理能力高适用于批量生产。

在接近式曝光中，在曝光面的表面设置涂敷了感光剂的玻璃基板，保持在掩模台上的掩模与玻璃基板在维持数百μm间隙的状态下照射曝光光，通过穿过了掩模的光，涂敷在玻璃基板上的感光剂被曝光。

液晶显示器能够作成从一张玻璃基板至数张～数十张的面板（取面数），通过增加该取面数，从而可预计能提高生产效率、成品率，因此推进玻璃基板、掩模的大型化。

作为液晶显示器用玻璃基板的曝光装置，例如专利文献1所记载，在使从光源射出的光沿组合了反射镜的光路前进而照射掩模并在基板上投影曝光图形的结构中，记载有在组合了反射镜的光路的途中设置蝇眼透镜而使光强度均匀化的结构。可是，由于进行大型化，因而玻璃基板或掩模容易引起因处理热所致的伸缩卡盘产生的变形，若忽略其而进行曝光，则存在在形成的图形上有可能发生偏移的问题。

作为该问题的解决手段，在日本特开2005-129785号公报（专利文献2）中记载了如下的结构：通过使配置于掩模跟前的准直镜的边部分向以中央部为支点向相对于面交叉的方向位移，从而极其容易地调整照射在光刻掩模上的光的曝光倍率，能够根据曝光时的光刻掩模的伸缩状态及被曝光基板的伸缩状态调整应该在被曝光基板上作成的图形的大小。

另一方面，在再公表特许WO2007-145038号公报（专利文献3）中记载了如下的方法：检测掩模与基板的平面偏移量，根据检测出的平面偏移量来设定由准直镜反射的曝光用光的照射角度，从而减小在曝光面上的照度不均或偏移，能够进行更均匀的倍率修正而实现图形形成精度修正。

另外，在日本特开2010-256428号公报（专利文献4）中记载了如下的构成：用多个半导体发光元件形成照明光源，改变点灯的半导体发光元件的数量而调整曝光光的照度。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-177548号公报

专利文献2：日本特开2005-129785号公报

专利文献3：再公表特许WO2007-145038号公报

专利文献4：日本特开2010-256428号公报

为了应对液晶显示器的高精细化、3D显示，在平版印刷工序中，在大面积的玻璃基板上形成更细微且高精度的像素图像很重要。因此，对于在平版印刷工序中用于在大面积的玻璃基板上曝光图形的曝光装置，要求在玻璃基板上的较广的区域均匀地曝光图形。

专利文献1中虽然记载了在曝光光的光路中配置蝇眼透镜使光强度均匀化的结构，但若曝光的玻璃基板的面积进行面积化，与其相伴地，掩模的面积也变大，则只通过蝇眼透镜无法实现足够的曝光光的均匀化。

另一方面，在专利文献2记载的方法中，虽然被曝光基板的大小或光刻掩模的大小在每次曝光变化的情况也容易地修正而总能进行高精度的曝光，但有助于反射镜变形的调整机构为四处较小，即使在希望使反射镜局部变形时，变形的范围也较大，整体修正变得不精确，因此在掩模的面积变大时，也难以以高精度再现期望的曝光图形。

另外，在专利文献3记载的方法中，由于没有掌握作为曝光装置的变形对象的镜子设置时的初期形状，因此在镜子的初期形状比预想大地弯曲时，在修正形状时，有可能超越镜子的容许应力、使其破损。另外，在无法掌握初期形状时，由于无法将实际的形状与理想形状（满足目标中心光线角度、照度分布的形状）的差定量化，因此有可能不能进行对调整机构的准确反馈，调整上花费时间。

而且，在专利文献4所记载的方法中，虽然能够改变构成照明光源的多个半导体发光元件的点灯的数量来调整曝光光的照度，但在光路中配置蝇眼透镜等的光学积分器元件或多个反射镜的结构中，很难在最远离掩模的光源一侧细微地调整照射到掩模的光的分布。

发明内容

本发明提供一种对于在曝光光学系统中设置于掩模跟前的平面镜，不超过许用应力地严密控制曝光面上的中心光线角度、照度分布，从而能够进行高精度的图形曝光的方法。

另外，本发明提供一种能够用短时间实现用于严密地控制曝光面上的中心光线角度、照度分布的光学系统的调整的方法。

在本发明中，通过中心光线角度测定机构和光学模拟器等的手段，掌握现状的平面镜形状，在平面镜的弯曲允许应力量内使平面镜变形。

另外，在本发明中，利用中心光线角度测定机构和光学模拟器等的手段，进行现状的平面镜形状与理想形状的比较，将算出来的修正量向平面镜反馈。

具体而言，首先利用针孔相机，实测在曝光面上的光线的中心光线角度。根据上述实测值，由光学模拟器算出实机的平面镜的形状，进而，求出用于使在曝光面上的光线的中心光线角度、照度分布满足目标值的、平面镜的变形条件，算出由上述得到的平面镜最适形状与现状的平面镜的形状差，自动地向实机的平面镜背面的驱动器反馈，由此来实现。

即，为了解决上述课题，本发明的曝光装置，具备：曝光光学机构，具有发射曝光光的光源；掩模座机构，保持掩模；平台机构，载置基板并在平面内能够移动；以及控制机构，控制曝光光学机构与平台机构，对载置于平台机构的基板依次进行曝光，上述曝光装置的特征在于，曝光机构，具备：光学积分器，将从光源发射出来的曝光光转换为多个点光源；准直镜，将透射该光学积分器后的曝光光转换为平行光；以及反射镜单元，将由该准直镜转换为平行光的曝光光用平面镜反射并照射在保持于掩模座的掩模上，该反射镜单元以二维状排列驱动器而装备，该驱动器推压平面镜的与反射曝光光的面相反一侧的面，控制机构基于反射镜单元的以二维状排列的各个驱动器的驱动量控制该驱动器，上述各个驱动器的驱动量使用算出，上述与光学积分器的点光源相关的信息是从照射在与载置于平台机构的基板的表面相当的位置上的曝光光获得的。

另外，为了解决上述课题，本发明的曝光方法，将从光源发射的曝光光通过光学系统照射在形成有透射光的图形的掩模上，将照射在该掩模的曝光光中的透射图形后的曝光光投射在与上述掩模接近地配置的基板的第一区域所涂敷的抗蚀剂上而曝光该抗蚀剂，通过在上述基板的整个面反复进行上述曝光，从而用形成于掩模的图形曝光基板的前面，其特征在于，通过如下方法进行向掩模照射曝光光：使从光源发射出来的曝光光透射光学积分器而转换为多个点光源，将透射该光学积分器而转换为多个点光源的曝光光用准直镜转换为平行光，将转换为该平行光的曝光光用在背面以二维状排列驱动器而装备的平面镜反射并照射在掩模上，基于使用下述的信息算出的各个驱动器的驱动量控制在平面镜的背面以二维状排列的驱动器，该信息是从照射在相当于曝光的基板的表面的位置上的曝光光获得的与光学积分器的点光源相关的信息。

本发明效果如下。

由此，对于液晶显示器的制造，即使在掩模大型化，要求更严密的图形控制的情况下，由于能进行平面镜的精密控制，从而能够提高制造成品率，能够实现减少产业废弃物等。

附图说明

图1是表示本发明的一实施例的曝光装置的概略结构的方框图。

图2A是反射镜单元120的侧视图。

图2B是反射镜单元120的C-C'剖面向视图。

图3是将用于计测投影方式的光学系统的中心光线角度的结构简单化地进行表示的图。

图4是表示在算出曝光面上的光线的中心光线角度时使用的针孔相机的概略结构的正面的剖面图。

图5是表示用于计测投影方式的光学系统的中心光线角度进行调整而得到均匀的照度分布的处理流程的流程图。

图6是表示基于拍摄投影于目视用刻度导向件上的透射针孔后的光的像而获得的针孔相机的图像算出投影方式的光学系统的中心光线角度的方法的用针孔相机拍摄的图像。

图7是表示用针孔相机实测的在曝光面的光线的入射角度分布的分布图。

图8是表示由模拟算出的在曝光面的照度分布的分布图。

图9是表示液晶显示器的制造工序流程的一例的图。

图10是表示液晶显示器的滤色器制造工序流程的一例的图。

图11是表示液晶显示器的滤色器的构造的一例的图。

图中：100－曝光装置，110－曝光光学系统单元，120－反射镜单元，121－平面镜，122－驱动器，123－驱动器驱动部，130－平台单元（ステ一ジユニツト），140－掩模，150－控制、驱动单元，300－针孔相机，310－PC。

具体实施方式

以下，对本发明的各实施方式参照附图详细地进行说明。

实施例1

本实施例是在液晶显示器制造中使用投影曝光方式实施的例子。

用图1、图8表示用于实施本发明的装置的一例，说明如下的方法：将投影曝光光学系统的平面镜的形状最佳化、算出满足目标的中心光线角度、照度分布的平面镜那样的最佳条件、向实际的光学系统反馈的方法。

图1是表示本发明的曝光装置100的一实施方式的整体结构的概略图的例子。曝光装置100具备曝光光学系统单元110、平台单元130及控制、驱动单元150而构成。曝光光学系统单元110与平台单元130由为了维持正常的环境而用于遮断来自外部的气流的框体101覆盖。在框体101上设有用于向外部排出内部气体的排气口102。

曝光光学系统单元110，具备：由水银灯等发射包含紫外线的光的灯111与椭圆镜112构成的光源113；用于转换从光源113发射出来的曝光光的光路的第一反射镜114；配置于由该第一反射镜114转换后的曝光光的光路上并切换曝光光的遮断与通过（ON与OFF）的开闭器（シヤツタ）115；为了使通过开闭器115后的曝光光的强度分布均匀化而由第一蝇眼透镜1161与第二蝇眼透镜1162的组合构成的光学积分器116；转换用光学积分器116将强度分布均匀化后的曝光光的光路的第二反射镜117；反射光路用第二反射镜117转换后的曝光光并形成平行光的准直镜118；以及沿掩模140的方向反射由该准直镜118形成的平行光的反射镜单元120。另外，开闭器115由未图示的开闭器驱动机构切换曝光光的遮断与通过。

平台单元130，具备：沿X方向移动的X平台131；沿垂直于纸面的Y方向移动的Y平台132；沿Z方向移动的Z平台133；绕Z轴旋转的θ平台134；以及，夹住试样（基板）1的基板夹盘135。

掩模140在与试样1之间保持微小的间隙的状态下保持于掩模座141上。掩模座141内置有使掩模沿Z方向上下移动的驱动机构（未图示）。

控制、驱动单元150，具备：控制平台单元130的各平台的运动的平台控制部151；控制平台单元130的基板夹盘135的动作的基板夹盘控制部152；控制掩模座141的掩模140的保持的掩模座驱动部153；控制光源113的灯111的ON/OFF或光量的灯电源控制部154；对由开闭器115进行的曝光光的遮断与通过的切换进行控制的开闭器切换控制部155；控制反射镜单元120的反射镜单元控制部156；以及控制整体的整体控制部157。

如图2A所示，反射镜单元120具备平面镜121、多个驱动器122、驱动器驱动部123而构成。图2B是表示多个驱动器122相对于平面镜121的配置的图。作为多个驱动器122，使用压电元件。驱动器驱动部123接受来自外部的信号，分别控制二维状地排列的多个驱动器122，并推压到平面镜121的背面来调整平面镜121的微小的凹凸量。

另外，控制、驱动单元150用反射镜控制部156控制反射镜单元120，将在平面镜121的背面二维状地排列的多个驱动器122按照下述的各个驱动器122的驱动量进行驱动，各个驱动器122的驱动量使用与由照射到与后述的曝光的基板表面相当的位置上的曝光光获得的光学积分器的点光源相关的信息算出。

接着，说明上述构成的动作。首先，平台单元130接收在离开掩模座141的部位由未图示的基板搬运装置输送的基板1，在由用基板夹盘控制部152进行驱动控制的基板夹盘135夹住基板1而保持的状态下，基板1移动到位于掩模座141下方。此时，开闭器115由开闭器切换控制部155控制并遮断曝光光。另外，掩模座141为了避免移动来的基板1与掩模140的干涉，通过未图示的驱动机构在Z方向退避。

当基板1向掩模座141下方移动完成后，则掩模140用未图示的驱动机构驱动而下降，与基板1形成规定的间隙。

接着，在光源113的灯111由灯电源控制部154控制而为接通的状态下，开闭器切换控制部155控制开闭器115使曝光光通过。通过开闭器115后的曝光光被第二反射镜117、准直镜118、反射镜单元120的平面镜121依次反射而照射保持于掩模座141的掩模140上。由照射到该掩模140上的曝光光中的、透射形成于掩模140的光透射图形的曝光光来曝光在与掩模140具有微小间隙地由基板夹盘135夹着的基板1的表面所涂敷的抗蚀剂中的、位于掩模140正下方的抗蚀剂。

在以规定的时间曝光抗蚀剂后，开闭器切换控制部155控制开闭器115遮断曝光光。在曝光光用开闭器115遮光的状态下，掩模140由未图示的驱动机构驱动进行上升。接着，平台控制部151驱动、控制X平台131（或Y平台132），以基板1上的下一个曝光区域位于掩模140正下方的方式使基板1移动。在下一个曝光区域位于掩模140正下方的状态下，掩模140由未图示的驱动机构驱动进行下降，在与基板1的下一个曝光区域之间形成规定的间隙。

这样，在基板1的新的曝光区域位于掩模140正下方的状态下，开闭器切换控制部155再次控制开闭器115使曝光光透射，透射后的曝光光照射到掩模140上曝光位于掩模140正下方的基板1的表面所涂敷的抗蚀剂。

这样，通过反复进行由开闭器115得到的曝光光的遮光与透射（ON与OFF）的切换与由平台控制部151进行的各平台的移动，从而基板1的整个面被曝光。

在用上述结构进行基板1的整个面的曝光的曝光装置中，为了在基板1的整个面实现均匀且高精度的图形的曝光，需要使基板1的曝光面上的曝光光的中心光线角度为大致垂直，并且使照度分布均匀。以下，关于控制曝光光的中心光线角度与照度分布的方法与其手段进行说明。

这里，为了简单说明，将图1所示的从曝光光学系统110的光源部113至基板1的光路简单化而如图3所示。在图3所示的结构中，关于使反射镜单元120的平面镜121的形状最佳化，算出满足目标的中心光线角度、照度分布的平面镜121的最佳条件并向实际的光学系统反馈的方法进行说明。

在图3所示的结构中，300为针孔相机，310为搭载模拟器的PC。针孔相机300用平台单元130调整高度与位置，以使上面与曝光时的基板1的曝光面的位置11一致。

就针孔相机300而言，如图4所示，在框体301的上面安装有设置了针孔302的针孔板303。在框体301的内部在针孔302的正下方固定有目视用刻度导向件304，用CCD相机305拍摄目视用刻度导向件304与透射投影于目视用刻度导向件304上的针孔302的光的投影像。

接着，用图5说明使用由针孔相机300拍摄的图像而严密地控制基板1的曝光面上的中心光线角度、照度分布的顺序。

首先，在图4所示的针孔相机300的针孔302由平台单元130调整高度与位置以便如图3所示与曝光时的基板1的曝光面的位置11一致的状态下，使用该针孔相机300实测到达曝光面上的光线的中心光线角度（S501）。在该针孔相机300中，从针孔302到目视刻度导向件304的距离为L1，目视刻度导向件304到相机305的距离为L2地配置。在图3所示的构成中，从光源113发出来的曝光光到达曝光面位置11，其一部分通过针孔302，通过针孔302后的光投影于配置在针孔302的正下方L1的距离的位置的目视用刻度导向件304上。同时用CCD相机305拍摄通过了该针孔的曝光光的投影像与目视用刻度导向件304，取得图像（S501）。

在图6所示的取得图像60中包含多个点状的像62与目视用刻度导向件的像61。多个点状的像62由与构成第一蝇眼透镜1611的透镜的个数相当的聚焦点（图6的情况下为10×10列）构成。

根据上述取得图像60算出目视用刻度导向件的像61的中心位置53与多个点状的像62的中心位置54的X方向的偏移量D1、Y方向的偏移量D2，由tan^-1（D2/D1）决定中心光线角度。

使用上述说明的方法，使装载有针孔相机300的平台300各移动一定间距（例如，相当于配置在图2B所示的反射镜单元120的平面镜121的背面的多个驱动器122的间隔的距离），在各位置反复进行用针孔相机300拍摄，将与使用了掩模140的一次曝光得到的曝光面相当的区域（曝光区域）内的中心光线角度以矩阵状计测，根据其结果作成图7中作为70所示的中心光线角度分布图。

接着，使用通过上述在曝光区域内以矩阵状计测的中心光线角度的实测值，使用装载于PC310的模拟器算出平面镜121的形状（S502）。

平面镜形状计算方法如下：以在曝光面上的中心光线角度的各计测位置的值为输入值，以在模拟上的光学系统的平面镜模型作成时适用的例如XY多项式平面的系数（X、Y、X²、XY、Y²、X³、X²Y、XY²、Y³）为变量值，为成为与上述输入值对应的形状，通过模拟实施平面镜最佳化。以该结果得到的系数为基础算出平面镜121的形状。

最佳化方法是这样的方法：为了求出目标值，求出作为初始条件设定的中心光线角度（例如0°）、和使上述XY多项式的变量变化而使初始值稍微变化时的中心光线角度的变化率，根据这些值，通过最小二乘法或衰减最小二乘法，得到最佳解。用下述（式1）表示XY多项式的详细。

这里，z：平面镜弯曲量；c：平面镜曲率；k：锥形常数；c_j：xy的系数；r：（x²+y²）^1/2；n_t：多项式项数

在算出平面镜121的实际的形状后，为了使中心光线角度达到目标值0.25°，通过模拟为使在曝光面上的光线的入射角度接近0°，进行平面镜最佳化（S503）。例如，使实测的中心光线角度在0°～0.6°的范围具有分布（图7的区域71（中心光线角度0°～0.2°）、区域72（中心光线角度0.2°～0.4°）、区域73（中心光线角度0.4°～0.6°））。以该值为输入值，用装载于PC310的模拟器，将光线的中心光线角度的目标值设定为0°，使适用于平面镜的XY多项式的系数（X、Y、X²、XY、Y²、X³、X²Y、XY²、Y³）为变量，为使中心光线角度进入上述目标值，由模拟实施平面镜最佳化。

接着，在以上述最佳化的结果为基础使平面镜121进行变形的情况下，照度分布也要满足目标值，作成反映平面镜最佳化结果的模型，使用其并由模拟算出在曝光面上的照度分布（S504）。接着，确认得到的照度分布是否满足目标值±2.5%（S505）。

如果在S505中判断为由模拟得到的照度分布没有满足目标值（NO），则为使照度分布变均匀，在中心光线角度没有偏离目标值的容许范围内，变更光线的中心光线角度，返回（S506）、S504，通过模拟算出在曝光面上的照度分布，再次进入S506，反复确认得到的照度分布是否满足目标值±2.5%以下。

作为为了使照度分布满足目标值而修正平面镜形状的方法，具体而言，在图8所示那样的照度分布图中在具有照度分布为±3%超过目标值（±2.5%）的区域80的情况下，以使到达该部分的光线的方向不规则的方式再次计算平面镜的XY多项式的系数。

其后，使用针孔相机300实测曝光面11的曝光区域中的中心光线角度（S509），确认在曝光面的光线的中心光线角度是否达到目标值（S510），如果达到目标值，则反馈结束。在没有达到目标值时，返回S503将实测的平面镜的中心光线角度的结果反映于模拟器，再次通过模拟，实施S504至S509，反复进行直到实测值满足目标值，在实测值满足目标值的时刻结束。

在S505中确认了照度分布满足目标值的场合（YES），为了再现得到的平面镜的最佳化形状，计算由上述再计算得到的模拟的平面镜的形状和实际的平面镜121的形状的差分，根据该差分决定设置于平面镜背面的驱动器的各位置中的修正量（最大3mm）（S507），将该决定的驱动器的修正量的信息发送给控制、驱动单元150的反射镜单元控制部156，通过基于由反射镜单元控制部156接收的驱动器的修正量的信息，使作为反射镜单元120的平面镜121的调整机构的驱动器122动作，从而反馈进行调整（S508）。

通过上述步骤，进行曝光涂敷在基板1的表面的抗蚀剂的图形形状的修正。

另外，送至控制、驱动部150的反射镜单元控制部156的驱动器122的修正量的信息存储并保存于反射镜单元控制部156。由此，即使曝光装置100的电源切断，再次连接电源，反射镜单元控制部156使用存储并保存的驱动器的修正量的信息控制反射镜单元120的各个驱动器122，也能够将平面镜121再现为切断电源之前的状态。

这样，使用调整了中心光线角度与照度分布的曝光光学系统，在基板1的表面所涂敷的抗蚀剂上曝光形成于掩模140的图形，由此能够以高精度在基板的整个面实现均匀的图形的曝光。

虽然上述说明的使用针孔相机的曝光光的中心光线角度与照度分布的调整，在用曝光装置对实际的基板开始曝光之前进行，但也可以每次用曝光装置曝光一定张数的基板定期地实施，另外，也可以在进行光学系统的调整、部件交换之后进行。

以上，根据实施例具体地说明了本发明者完成的发明，但本发明不限定于上述实施例，当然在不脱离其要旨的范围内能够进行各种变更。即，用具有与其等价功能的步骤或手段替换在上述实施例说明了的构成（步骤）的一部分，或者省略没有实质性功能的一部分也包含于本发明。

Claims (12)

1.一种曝光装置，具备：

曝光光学机构，具有发射曝光光的光源；

掩模座机构，保持掩模；

平台机构，载置基板并在平面内能够移动；以及

控制机构，控制上述曝光光学机构与上述平台机构，对载置于上述平台机构的基板依次进行曝光，

上述曝光装置的特征在于，

上述曝光机构，具备：光学积分器，将从上述光源发射出来的曝光光转换为多个点光源；准直镜，将透射该光学积分器后的曝光光转换为平行光；以及反射镜单元，将由该准直镜转换为平行光的曝光光用平面镜反射并照射在保持于上述掩模座的掩模上，

该反射镜单元以二维状排列驱动器而装备，该驱动器推压上述平面镜的与反射上述曝光光的面相反一侧的面，

上述控制机构基于与上述光学积分器的点光源相关的信息，控制以二维状排列的各个驱动器，与上述光学积分器的点光源相关的信息是由照射到与载置于上述平台机构上的基板表面相当的位置上的上述曝光光获得的。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述光学积分器由多个蝇眼透镜构成，从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是由上述多个蝇眼透镜中的最接近上述光源的蝇眼透镜形成的点光源的信息。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

上述控制机构基于上述反射镜单元的以二维状排列的各个驱动器的驱动量的信息控制该驱动器，上述各个驱动器的驱动量是使用与上述光学积分器的点光源相关的信息而算出的。

4.根据权利要求1～3任何一项所述的曝光装置，其特征在于，

从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是来自该点光源的光入射到与上述基板的表面对应的位置上的入射角的信息、和上述点光源的照度分布的信息。

5.根据权利要求1～3任何一项所述的曝光装置，其特征在于，

从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是通过处理用针孔相机拍摄而得的上述曝光光的图像而获得的信息，上述针孔相机在与载置于上述平台机构的基板的表面相当的位置上设置针孔。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是通过处理上述曝光光的图像而获得的信息，上述曝光光的图像是使上述针孔相机在上述曝光光照射的区域内顺次移动而取得的。

7.一种曝光方法，将从光源发射的曝光光通过光学系统照射在形成有透射光的图形的掩模上，将照射在该掩模的曝光光中的透射上述图形后的曝光光投射在与上述掩模接近地配置的基板的第一区域所涂敷的抗蚀剂上而曝光该抗蚀剂，通过在上述基板的整个面反复进行上述曝光，从而用形成于上述掩模的图形曝光上述基板的前面，其特征在于，

通过如下方法进行向上述掩模照射上述曝光光：使从上述光源发射出来的曝光光透射光学积分器而转换为多个点光源，将透射该光学积分器而转换为多个点光源的曝光光用准直镜转换为平行光，将转换为该平行光的曝光光用在背面以二维状排列驱动器而装备的平面镜反射并照射在上述掩模上，

基于下述的信息控制在上述平面镜的背面以二维状排列的驱动器，该信息是与照射在相当于上述曝光的基板的表面的位置上的上述曝光光获得的从上述光学积分器的点光源相关的信息。

8.根据权利要求7所述的曝光方法，其特征在于，

上述光学积分器由多个蝇眼透镜构成，从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是由上述多个蝇眼透镜中的最接近上述光源的蝇眼透镜形成的点光源的信息。

9.根据权利要求7所述的曝光方法，其特征在于，

基于使用与上述光学积分器的点光源相关的信息算出的上述各个驱动器的驱动量控制上述以二维状排列的驱动器。

10.根据权利要求7～9任何一项所述的曝光方法，其特征在于，

从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是来自该点光源的光入射到与上述曝光的基板的表面相当的位置上的入射角的信息、和上述点光源的照度分布的信息。

11.根据权利要求7～9任何一项所述的曝光方法，其特征在于，

从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是通过处理用针孔相机拍摄而得的上述曝光光的图像而获得的信息，上述针孔相机在与上述曝光的基板的表面相当的位置上设置针孔。

12.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，

从上述曝光光获得的与上述光学积分器的点光源相关的信息是通过处理上述曝光光的图像而获得的信息，上述曝光光的图像是使上述针孔相机在上述曝光光照射的区域内顺次移动而取得的。

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