CN101063826A - 投影曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种投影曝光装置，抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小而使其设置容积比现有的装置的设置容积小。投影曝光装置(20)使用配置于铅直方向的曝光台(24)，将掩模(M)的图案利用照射光投影在膜带状的工件(F)上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构(25)，其将工件于铅直方向朝曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森光学系统(23)，该戴森光学系统(23)配置在与该搬运机构以曝光台为边界的相邻位置上，戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与曝光台上的工件成正交。

Description

投影曝光装置

技术领域

本发明关于一种将高分辨率的图案投影在膜带状的工件上而曝光的投影曝光装置，特别关于一种能有效利用在无尘室内的设置面积的投影曝光装置。

背景技术

近年来采用膜带状的工件作为曝光用基板的商品愈来愈多。例如，薄膜电路基板被使用于半导体集成电路及TAB(Tape Automated Bonding)方式的电子元件的安装。在该薄膜电路基板的制造中，使用光刻技术，该光刻中的一个制程是电路图案的转写用的曝光制程。其被处理的薄膜电路基板为膜带状，厚度很薄为0.05mm以下，长度为200m左右。形成于该膜带状的工件上的图案为例如分辨率在10μm以下，是操作作业相当严格的技术。因此，在曝光制程中，能正确地对准位置的搬运技术以及具有高分辨率的光学系统是必要的，所以有必要在无尘室等的环境下进行曝光制程。

在该曝光制程所使用的薄膜曝光装置中，有将掩模与膜带状的工件接触而进行曝光的接触曝光方式、使掩模与膜带状的工件极为接近而进行曝光的代理曝光方式、以及确保高分辨率的非接触式的投影曝光方式这三种。

图4为表示接触曝光方式的曝光装置的一例。该曝光装置1在装置中央具有曝光部2，在该曝光部2的中央由下向上铅直地通过有一帧输送的带状基板3，光掩模4、4进行X、Y、θ的位置对准而重叠，用光源5的光进行双面曝光。带状基板3藉由抓持滚子6从安装于装置右方的抽出用卷轴7抽出，并卷绕在设置于装置左方的卷绕用卷轴8上。(参照专利文献1)

又，投影曝光装置为使用投影曝光光学系统而进行投影曝光的装置。该投影曝光装置设置成，使要曝光的薄膜高精密地位于曝光位置上，掩模与薄膜的距离高精密地保持成既定的间隔。而且，提出一种方法，使用远心投影光学系统(telecentric projecting optical system)，使薄膜在上下方向上搬运，从其直角方向(水平方向)对在像面侧通过远心投影光学系统形成有布线图案的掩模进行投影而曝光。(参照专利文献2)

又，若使用远心投影光学系统，则装置的价格会很高，因此提出一种使用非远心投影光学系统的投影曝光装置。图5为表示使用非远心投影光学系统的投影曝光装置的示意图(参照专利文献3)。如图5所示，投影曝光装置10包括光源11、正对于光源11的光轴上的掩模12、将该掩模12的像投影至铅直的投影面的非远心投影光学系统13、将膜带状的工件14于铅直方向上逐帧地输送而使工件14的1帧位于铅直投影面上的搬运机构15、检测出被输送的工件14的1帧在水平方向上从投影面移位的检测装置16、以及为了校正因检测出的移位所造成的投影倍率的变化而使掩模12及/或投影光学系统13的透镜在光轴方向上移位的控制装置17。

该投影曝光装置10中，非远心投影光学系统13设置成光轴为水平。在如此构造的投影曝光装置10中，即使投影光学系统13由于加工的精度及外气的影响在位置关系上发生异常，，也能够使投影光学系统的投影透镜以及掩模12朝光轴方向移位，以校正该移位，所以不会有起因于投影光学系统13的位置偏移的曝光不良。

除此之外，非远心投影光学系统的光轴设置成垂直的投影曝光装置也是已知的。

[专利文献1]日本特开2005-326550号公报

[专利文献2]日本特开昭62-293248号公报

[专利文献3]日本特许第2798158号公报

但是，在现有的投影曝光装置中，存在着以下的问题。

图4所示的专利文献1的曝光装置1，带状基板3从设于装置右方的抽出用卷轴7抽出，而卷绕于设在装置左方的卷绕用卷轴8上，所以在搬运机构的构造中，将水平方向的距离取得大，装置整体必须要有大的设置面积。

又，图5所示的专利文献3的投影曝光装置中，由于非远心投影光学系统13其光轴设置成水平，而需要大的设置面积。在图5中，投影光学系统13以一个小方块来示意地表示，所以虽然在图上看起来只要小的设置面积即可，但实际上为了确保高分辨率而将近20片的透镜组合，构成全长在2.5m以上的非常长的投影光学系统，在无尘室内必须有大的设置面积。而且，在专利文献2所示的投影曝光装置中，要使装置的尺寸变小对于所使用的光学系统是困难的。

又，非远心投影光学系统中，在例如光轴垂直地设置的薄膜曝光装置的情况下，膜带状的工件的搬运机构在水平方向占据大的设置面积，同时由于非远心投影光学系统的投影透镜高高地耸立着，所以大的阶梯高以及设置面积是必要的，薄膜曝光装置成为大气滞留的妨碍，以及遮蔽视野等，使无尘室内的设置环境恶化。

发明内容

本发明为了解决上述问题而提出一种投影曝光装置，该投影曝光装置抑制了装置的水平方向及垂直方向的大小，而使设置容积比现有的装置小。

为了解决上述问题，本发明的投影曝光装置使用配置于铅直方向上的曝光台，利用照射光将掩模的图案投影在膜带状的工件上而进行曝光，该投影曝光装置包括：搬运机构，其将所述工件于铅直方向上朝所述曝光台移动；以及投影光学机构，其具有戴森(Dyson)光学系统，该戴森光学系统配置在与该搬运机构以所述曝光台为边界的相邻位置上。其中在所述戴森光学系统，入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴配置成与所述曝光台上的工件成正交。

如此构造的投影曝光装置用搬运机构使膜带状的工件接近曝光台的垂直面，在铅直方向上逐帧间歇地输送，当工件与掩模进行位置对准时，从光源照射的包含既定波长的紫外光的照射光由戴森光学系统照射至工件上而形成掩模的曝光图案。此时，在铅直方向上输送工件的搬运机构以及具有戴森光学系统的投影光学机构经由曝光台配置于一边与另一边上，从而成为可限制装置宽度方向及装置高度方向的尺寸的配置。

而且，曝光台可在从戴森光学系统射出的照射光的光轴方向上移动。

对应于工件的厚度，戴森光学系统的焦点位置改变。为了校正该焦点偏移量，藉由使曝光台于光轴方向移动，可在焦点位置对准的状态下进行工件的曝光。

又，在投影曝光装置中还包括：工件表面位置测定装置，其配置成可插入于戴森光学系统与曝光台之间的曝光区域以及从该曝光区域退避开，测定光轴方向上的工件表面的位置；以及标记取得装置，其配置成可插入于戴森光学系统与曝光台之间的曝光区域以及从该曝光区域退避开，取得图像以用于确认正交于光轴方向的方向上的工件的位置偏移量，其中根据工件表面位置测定装置测得的表面位置信息，使曝光台于光轴方向上移动，同时根据标记取得装置所测得的位置偏移量的信息使掩模移动。

如此构造的投影曝光装置中，为了对被输送来的工件对焦以及使得工件与掩模位置对准，工件表面位置测定装置以及标记取得装置被插入于戴森光学系统与曝光台之间的曝光区域。此时，可确认光轴方向上以及正交于光轴方向的方向上的工件的位置。由于曝光台对应于此而于光轴方向上移动，同时掩模移动，所以可进行正确的曝光。

又，在投影曝光装置中，搬运机构包括：送出工件的供给卷轴；引导从该供给卷轴送出的工件的供给侧第一引导滚子以及供给侧第二引导滚子；对在该供给侧第一引导滚子以及供给侧第二引导滚子之间被引导的工件施加张力的第一张力调整装置；将来自供给侧第二引导滚子的工件沿着曝光台输送的配置于该曝光台的上方及下方的第一搬运滚子以及第二搬运滚子；引导来自该第二搬运滚子的工件的卷绕侧第一引导滚子以及卷绕侧第二引导滚子；对于通过该卷绕侧第一引导滚子以及卷绕侧第二引导滚子之间被引导的工件施加张力的第二张力调整装置；以及卷绕来自卷绕侧第二引导滚子的工件的卷绕卷轴。

而且，搬运机构中，供给卷轴、供给侧第一引导滚子、供给侧第二引导滚子、第一张力调整装置以及第一搬运滚子配置于第二搬运滚子、卷绕侧第一引导滚子、卷绕侧第二引导滚子、第二张力调整装置以及卷绕卷轴的上方。

藉由如此的构造，当夹持着曝光台而将投影曝光装置配置于投影光学机构的相反侧时，能够使从供给卷轴至第一搬运滚子的距离以及从第二搬运滚子到卷绕卷轴的距离变小，而且，能够使供给卷轴与卷绕卷轴的距离变小。

根据本发明的投影曝光装置，具有以下的优良效果。

(1)在投影曝光机构中，由于采用透镜、棱镜及反射镜等的数量少且极小型的戴森光学系统以及使膜带状的工件在曝光台侧于铅直方向上搬运的搬运机构，所以装置的高度及宽度方向的尺寸比现有的投影曝光装置小，可将无尘室中的设置空间抑制得变小。

(2)投影曝光装置由于能够抑制高度而使设置面积变小，所以将投影曝光装置成为无尘室内的大气滞留的妨碍的情况降低至最小限度，又将遮蔽无尘室内的作业空间中的视野的情况降低至最小限度，可使设置环境变好。

附图说明

图1为示意地表示本发明的投影曝光装置的整体的立体图。

图2为示意地表示本发明的投影曝光装置的搬运机构的配置的侧视图。

图3a为本发明的投影曝光装置的搬运装置中的第一搬运滚子的剖视图。

图3b为省略了一部分的第一搬运滚子的立体图。

图4为示意地表示现有的曝光装置的全体的正视图。

图5为示意地表示现有的投影曝光装置的全体的正视图。

标号说明

20～投影曝光装置；21～光源机构(投影光学机构)；22～掩模保持框；23～戴森光学系统(投影光学机构)；24～曝光台；F～膜带状的工件；M～掩模；25～搬运机构；25a～供给卷轴；25b～第一引导滚子(供给侧第一引导滚子)；25c～第二引导滚子(供给侧第二引导滚子)；25D～第一充气容器(第一张力调整装置)；25d～盒子(第一充气容器)；25f～第一搬运滚子；25g～第二搬运滚子；25h～第三引导滚子(卷绕侧第一引导滚子)；25i～第四引导滚子(卷绕侧第二引导滚子)；25J～第二充气容器(第二张力调整装置)；25j～盒子(第二充气容器)；25m～卷绕卷轴；26～控制装置；26a、26b～标记取得装置；26c～图像处理装置；26d～装置控制装置；26e～工件表面位置测定装置。

具体实施方式

以下，参照附图说明实施本发明的优选方式。

<投影曝光装置20的结构>

图1为示意地表示投影曝光装置的整体立体图。

投影曝光装置20具有光源机构21(投影光学机构)、掩模保持框22、从该掩模保持框22离开既定距离而设置在光路上的戴森光学系统23(投影光学机构)、曝光台24、以及搬运机构25。掩模保持框22保持配置在光源机构21的光轴上的掩模M。曝光台24配置于从戴森光学系统23输送来的照射光的光路上。搬运机构25接近于曝光台24的垂直面而于铅直方向上间歇地逐帧地输送膜带状的工件F。投影曝光装置20具有位置对准控制装置26，其在曝光之前，将工件F与掩模M的整合标记(未图示)进行位置对准。

该投影曝光装置20当搬运机构25间歇地输送了一帧的工件F时，利用位置对准装置(未图示)进行位置对准。然后，由光源机构21将包含既定波长的紫外光的光线进行必要时间的照射，将掩模M的图案沿曝光台24而投影曝光至垂直面的工件F上来形成。

光源机构21包括照射包含既定波长的紫外光的光线的紫外线灯21a、椭圆反射镜21b、反射镜21c以及复眼透镜21d等。紫外线灯21a设于椭圆反射镜21b的焦点位置上，椭圆反射镜21b反射来自紫外线灯21a的照射光。反射镜21c改变由椭圆反射镜21b反射的照射光的方向。复眼透镜21d使由反射镜21c反射的照射光的照度分布得以平均化。来自紫外线灯21a的照射光照射至掩模M侧。而且，紫外线灯21a一直点亮，藉由开闭未图示的遮板机构而照射照射光。

掩模M被掩模保持框22保持在铅直方向上，除了描绘有投影到工件F上的一帧的电路图案之外，还在既定的位置上设置进行与工件F的定位的整合标记、用于识别掩模本身的识别标记等。又，工件F形成例如12.5μm厚的膜带状。

戴森光学系统23设置成在相对于装置的设置面呈平行的照射光的光轴上入射及出射。该戴森光学系统23包括：入射侧凸透镜23a与出射侧凸透镜23c，其透镜中心在入射及出射的照射光的光轴上一致；配置于该入射侧凸透镜23a与出射侧凸透镜23c之间的棱镜反射体23b；以及配置于该棱镜反射体23b上方的反射侧凸透镜23d以及凹面反射镜23e。

因此，戴森光学系统23当照射光入射时，首先穿透过入射侧凸透镜23a，由棱镜反射体23b反射，穿透过反射侧凸透镜23d而由凹面反射镜23e反射。照射光穿透过反射侧凸透镜23d，由棱镜反射体23b反射，从出射侧凸透镜23c射出照射光，然后将照射光照射至工件F上。该戴森光学系统23由于其设置空间比其他光学系统小，所以装置全体可缩小。

曝光台24中，台面(垂直面)24a配置于铅直方向，相对于来自戴森光学系统23的照射光的光轴呈正交而成为垂直设置。曝光台24如图2箭头24b所示，能够为了对焦而于光轴方向上移动。而且，定位成与戴森光学系统23的中心相隔既定距离。

又，曝光台24构成为与真空泵的配管连接，吸附固定工件F。当工件F的作为曝光范围的一帧被搬运至该曝光台24上时，由后述的标记取得装置26a、26b取得工件F的定位标记与掩模M的定位标记的位置关系。然后，移动掩模M的位置，使工件F的定位标记与掩模M的定位标记的位置偏移量成为零。工件F与掩模M的位置对准完毕时进行曝光。

图2是示意地表示投影曝光装置20的搬运机构25的配置的侧视图。

搬运机构25使用第一充气容器25D及第二充气容器25J作为在搬运路径中调整工件F的张力的第一及第二张力调整装置，同时接近于曝光台24的台面24a而将膜带状的工件F于铅直方向上逐帧地间歇地输送。该搬运机构25的供给侧于此具有送出工件F的供给卷轴25a、引导从该供给卷轴25a送出的工件F的第一引导滚子25b以及第二引导滚子25c、在该第一引导滚子25b与第二引导滚子25c之间调整所引导的工件F的张力的第一充气容器25D(盒子25d)。该搬运机构25的卷绕侧具有引导工件F的第三引导滚子25h及第四引导滚子25i、调整该第三引导滚子25h及第四引导滚子25i之间的工件F的张力的第二充气容器25J(盒子25j)、卷绕来自第四引导滚子25i的工件F的卷绕卷轴25m。

而且，在搬运机构25的供给侧，在曝光台24的上方，配置有将从第二引导滚子25c送出的工件F输送至曝光台24的台面24a上的第一搬运滚子25f。又，在搬运机构25的卷绕侧，在曝光台24的下方，配置有从台面24a输送工件F的第二搬运滚子25g。而且，第一充气容器25D及第二充气容器25J为了使工件F不受外来的影响而收纳于盒子25d、25j中。并且，第一充气容器25D及第二充气容器25J调整工件F的张力，以工件F本身的重量产生的制振作用来暂时性地缓冲工件F的强制输送，以便不影响逐帧输送的量。

供给卷轴25a、第一引导滚子25b、第二引导滚子25c、第一搬运滚子25f、第二搬运滚子25g、第三引导滚子25h、第四引导滚子25i以及卷绕卷轴25m由分别设置的控制用马达驱动。而且，关于工件F的输送量，例如使第一搬运滚子25f的控制用马达25f₂(参照图3)及第二搬运滚子25g的控制用马达25g₂为步进马达或伺服马达，可以由装置控制装置26d将成为工件F的曝光单位的每一帧的输送量提供给控制用马达25f₂或控制用马达25g₂。又，搬运机构25中，如图2所示，供给卷轴25a、第一引导滚子25b、第二引导滚子25c、第一搬运滚子25f配置于比第二搬运滚子25g、第三引导滚子25h、第四引导滚子25i以及卷绕卷轴25m高的位置上。

而且，如图2所示，搬运机构25中，工件F从供给卷轴25a往第一引导滚子25b的卷挂被配置成所希望的向下梯度(供给卷轴25a的轴位置比第一引导滚子25b的轴位置高)。又，相对于第一引导滚子25b，将第二引导滚子25c配置在相同的高度或较低的高度上。而且，工件F从第二引导滚子25c往第一搬运滚子25f的卷挂被配置成所希望的向下梯度(第二引导滚子25c的轴位置比第一搬运滚子25f的轴位置高)。而且，搬运机构25中，工件F从第二搬运滚子25g往第三引导滚子25h的卷挂被配置成所希望的向上梯度(第三引导滚子25h的轴位置比第二搬运滚子25g的轴位置高)。又，相对于第三引导滚子25h，将第四引导滚子25i配置在同一高度或者更高的高度上。而且，工件F从第四引导滚子25i往卷绕卷轴25m的卷挂被配置成所希望的向上梯度(卷绕卷轴25m的轴位置比第四引导滚子25i的轴位置高)。

搬运机构25藉由从供给卷轴25a至第一搬运滚子25f的配置、从第二搬运滚子25g至卷绕卷轴25m的配置、以及第一搬运滚子25f及第二搬运滚子25g，夹持工件F而搬运，藉此可进行适当的搬运。又，搬运机构25在位置对准中，第二引导滚子25c与第三引导滚子25h于轴方向上移动而进行工件F的倾斜方向的位置调整，藉由第一搬运滚子25f与第二搬运滚子25g而进行工件F在上下方向上的位置调整。然后，搬运机构25中，从供给卷轴25a至第一搬运滚子25f在沿装置的设置面的方向(大约是水平方向)上搬运工件F。又，在第一搬运滚子25f及第二搬运滚子25g之间，在垂直方向上搬运工件，而且从第二搬运滚子25g至卷绕卷轴25m在沿装置的设置面的方向(大约是水平方向)上搬运工件。因此，设置空间变得紧凑。

控制装置26在藉由搬运机构25输送工件F一帧之后，在曝光前，将描绘在工件F的每一帧上的定位标记(例如○)与掩模M的定位标记(例如○)进行整合。

该控制装置26具有：取得工件F与掩模M的定位标记并具有半透半反镜(未图示)及CCD摄影机等的标记取得装置26a、26b；以及输入来自该标记取得装置26a、26b的图像信号而进行图像处理并输出图像信号的图像处理装置26c。图像处理装置26c对工件F与掩模M的定位标记进行图像处理。图像处理的结果是算出定位标记的位置偏差量，通过使掩模M移动与该定位标记的位置偏差量，藉此使工件F与掩模M的位置偏差量大致为零。而且，控制装置26具备在搬运机构25的第二引导滚子25c、第一搬运滚子25f、第二搬运滚子25g与第三引导滚子25h之间收发控制信号的装置控制装置26d。装置控制装置26d在定位标记的位置偏差量比阈值大时，为了校正下一帧的工件输送量以及一帧的倾斜(姿势)，使第二引导滚子25c或第三引导滚子25h于滚子的轴方向上移动，或控制第一搬运滚子25f及第二搬运滚子25g的输送量。

控制装置26为了测定工件F的厚度，还具有由接触式或非接触式的移位测定器所构成的工件表面位置测定装置26e。工件表面位置测定装置26e测定从曝光台24的基准位置(一般的工件厚度的焦点位置)起在戴森光学系统的光轴方向上，工件F的厚度是否仅在哪处有偏差。然后，使曝光台24仅移动焦点偏移量，藉此完成工件F的对焦。

而且，标记取得装置26a、26b及工件表面位置测定装置26e在曝光前移动至曝光区域，而对定位标记进行摄影，在曝光时退避而移动至光路以外的位置。又，若有必要，控制装置26也实施对由戴森光学系统23进行投影的掩模M的掩模像的微小的投影倍率的调整控制、以及遮板机构(未图示)的开闭控制等。

图3a为本发明的投影曝光装置的搬运装置中的第一搬运滚子的剖视图，图3b为省略了一部分的第一搬运滚子的立体图。

如图3所示，第一搬运滚子25f分别在整个周面上整列状地开设了小孔25f₁。并且，第一搬运滚子25f的轴部的一端与控制用马达25f₂连接，另一端经由旋转联接器25f₄与真空泵(未图示)的真空管25f₃连接。因此，第一搬运滚子25f当以控制用马达25f₂进行间歇性旋转时，可在对应于工件卷角的位置使工件F不滑动地被吸引，同时将一帧输送至既定的位置。而且，第二搬运滚子25g也与第一搬运滚子25f有相同的结构。而且，优选的是，从第一引导滚子25b至第四引导滚子25i全部的滚子与第一搬运滚子25f有相同的结构。

<投影曝光装置20的动作>

接着，针对投影曝光装置20的动作进行说明。

投影曝光装置20中，当工件F的作为曝光单位的一帧在曝光台24送出时，驱动控制第一搬运滚子25f、第二搬运滚子25g、第二引导滚子25c、第三引导滚子25h来进行。此时，由第一引导滚子25b及第二引导滚子25c所引导的工件F成为由第一充气容器25D维持张力的状态，而且成为在第一引导滚子25b及第二引导滚子25c之间被卷出的状态。因此，卷出的量成为被送出至曝光台24侧一帧，始终被维持在工件F的张力被调整了的状态下。同样地，由第三引导滚子25h及第四引导滚子25i所引导的工件F成为由第二充气容器25J维持张力的状态，且成为在第三引导滚子25h及第四引导滚子25i之间被卷出的状态。因此，卷出的量成为被从曝光台24侧送出一帧，始终维持在工件F的张力被调整了的状态下。

搬运机构25驱动供给卷轴25a及第一引导滚子25b而使第一充气容器25D内(第一引导滚子25b及第二引导滚子25c之间)的工件F的量成为一定。又，驱动第四引导滚子25i及卷绕卷轴25m而使第二充气容器25J内(第三引导滚子25h及第四引导滚子25i之间)的工件F的量成为一定。如此的搬运机构25中，从供给卷轴25a供给的工件F、搬运至曝光台的工件F以及卷绕于卷绕卷轴25m上的工件F是不连动的。即，可在第一充气容器25D及第二充气容器25J的位置上分别动作。

在投影曝光装置20中，由搬运机构25搬运至曝光台24上的工件F在曝光台24上被真空吸附而固定。然后，标记取得装置26a、26b与工件表面位置测定装置26e被插入于戴森光学系统23与曝光台24之间。标记取得装置26a、26b为了掌握被吸引固定在曝光台24上的工件的位置，对工件F的定位标记进行摄影。然后，图像处理装置26c计算工件F与掩模M的位置偏移量。装置控制装置26d根据该位置偏移量，使掩模M移动而使工件F与掩模M的位置偏移量大致为零。又，工件表面位置测定装置26e测定工件F的表面位置。然后，对于焦点偏移量，曝光台24在仍然吸引固定工件F的状态下，于光轴方向移动，藉此使焦点偏移量大致为零。

标记取得装置26a、26b在摄影完毕之后，从戴森光学系统23与曝光台24之间退避。然后，来自光源机构21的紫外光照射至掩模M，掩模M的电路图案经由戴森光学系统23曝光至工件F的一帧上。然后工件F被解除曝光台24的真空吸附，而再次将工件F的一帧送至曝光台24。如此的作业针对每一帧都反复进行。

而且，搬运机构25可适当地进行工件F的搬运，而且可使设置空间变小。又，藉由使用作为投影光学机构的戴森光学系统23以及光源机构21，可抑制高度方向的尺寸，因此当投影曝光装置20设置于无尘室内时，设置空间比现有的小。

以上虽然参照附图而详述了本发明的曝光装置及曝光方法的实施方式，但本发明并不限于实施方式，可包含在不脱离本发明的要旨的范围内所进行的各种变更设计的方式。例如，第一及第二张力调整装置虽然是以利用工件F的本身重量来调整张力为例而说明的，但向工件F吹空气而调整工件F的张力的结构也是可以的。

在上述实施方式中，虽然是以未开孔的工件F进行的说明，但也可使用在两侧以既定间隔形成有形成于长度方向上的孔的穿孔f的带。在使用此种工件F的情况下，工件F的输送量也可以利用穿孔而由光遮断器(photointerrupter)进行计数来量测。又，也可以在定位时检测穿孔的边缘而检测出工件F的位置。

Claims (5)

1.一种投影曝光装置，该投影曝光装置使用配置于铅直方向上的曝光台，利用照射光将掩模的图案投影在膜带状的工件上而进行曝光，其特征在于，该投影曝光装置包括：

搬运机构，其将所述工件于铅直方向上朝所述曝光台移动；以及

投影光学机构，其具有戴森光学系统，该戴森光学系统配置在与该搬运机构以所述曝光台为边界的相邻位置上，

所述戴森光学系统配置成使得入射到该戴森光学系统的照射光的光轴以及从该戴森光学系统射出的照射光的光轴与所述曝光台的工件成正交。

2.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，上述曝光台可在从上述戴森光学系统射出的照射光的光轴方向上移动。

3.如权利要求1或2所述的投影曝光装置，其特征在于，该投影曝光装置还包括：

工件表面位置测定装置，其配置成可插入于上述戴森光学系统与上述曝光台之间的曝光区域以及从该曝光区域退避开，该工件表面位置测定装置测定上述光轴方向上的上述工件表面的位置；以及

标记取得装置，其配置成可插入于上述戴森光学系统与上述曝光台之间的曝光区域以及从该曝光区域退避开，该标记取得装置取得图像以用于确认与上述光轴方向正交的方向上的上述工件的位置偏移量，

根据上述工件表面位置测定装置测得的表面的位置信息，上述曝光台于光轴方向上移动，同时根据上述标记取得装置所测得的位置偏移量的信息使上述掩模移动。

4.如权利要求1，2中任一项所述的投影曝光装置，其特征在于，

上述搬运机构包括：送出上述工件的供给卷轴；引导从该供给卷轴送出的上述工件的供给侧第一引导滚子以及供给侧第二引导滚子；对在该供给侧第一引导滚子以及供给侧第二引导滚子之间被引导的上述工件施加张力的第一张力调整装置；将来自上述供给侧第二引导滚子的上述工件沿着上述曝光台输送，配置于该曝光台的上方及下方的第一搬运滚子以及第二搬运滚子；引导来自该第二搬运滚子的上述工件的卷绕侧第一引导滚子以及卷绕侧第二引导滚子；对于通过该卷绕侧第一引导滚子以及卷绕侧第二引导滚子之间被引导的上述工件施加张力的第二张力调整装置；以及卷绕来自上述卷绕侧第二引导滚子的上述工件的卷绕卷轴，

上述供给卷轴、上述供给侧第一引导滚子、上述供给侧第二引导滚子、上述第一张力调整装置以及上述第一搬运滚子配置于上述第二搬运滚子、上述卷绕侧第一引导滚子、上述卷绕侧第二引导滚子、上述第二张力调整装置以及上述卷绕卷轴的上方。

5.如权利要求3中任一项所述的投影曝光装置，其特征在于，

上述搬运机构包括：送出上述工件的供给卷轴；引导从该供给卷轴送出的上述工件的供给侧第一引导滚子以及供给侧第二引导滚子；对在该供给侧第一引导滚子以及供给侧第二引导滚子之间被引导的上述工件施加张力的第一张力调整装置；将来自上述供给侧第二引导滚子的上述工件沿着上述曝光台输送，配置于该曝光台的上方及下方的第一搬运滚子以及第二搬运滚子；引导来自该第二搬运滚子的上述工件的卷绕侧第一引导滚子以及卷绕侧第二引导滚子；对于通过该卷绕侧第一引导滚子以及卷绕侧第二引导滚子之间被引导的上述工件施加张力的第二张力调整装置；以及卷绕来自上述卷绕侧第二引导滚子的上述工件的卷绕卷轴，

上述供给卷轴、上述供给侧第一引导滚子、上述供给侧第二引导滚子、上述第一张力调整装置以及上述第一搬运滚子配置于上述第二搬运滚子、上述卷绕侧第一引导滚子、上述卷绕侧第二引导滚子、上述第二张力调整装置以及上述卷绕卷轴的上方。

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