JP2015146417A - 露光装置、露光方法及びミラー曲げ機構付き反射鏡 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) ワークを支持するワーク支持部と、マスクを支持するマスク支持部と、光源、インテグレータ、及び光源からの露光光を反射する複数の反射鏡を有する照明光学系と、を備え、光源からの露光光をマスクを介してワークに照射してマスクのパターンをワークに転写する露光装置であって、
複数の反射鏡の内の少なくとも2つの反射鏡は、反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構をそれぞれ備え、インテグレータとマスクとの間の光路に配設され、
ミラー曲げ機構を備えるマスク側の一方の反射鏡は、ワークのひずみ量に応じて、ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正し、
ミラー曲げ機構を備えるインテグレータ側の他方の反射鏡は、一方の反射鏡の曲率を補正した状態で、ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする露光装置。
(2) 前記複数の反射鏡で反射された前記露光光の照度を測定する照度測定手段と、
前記露光光の照度を検出する制御部と、
をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構を備える前記インテグレータ側の他方の前記反射鏡は、前記一方の反射鏡の曲率を補正した状態で、前記制御部で検出される前記露光光の照度のばらつきが抑制されるように、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
(3)ワークのアライメントマークとマスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
反射鏡より露光面側から反射鏡に向けて指向性を有する光を照射する検出用光源と、反射鏡で反射された指向性を有する光が投影される反射板と、反射鏡を介して、反射板に映りこんだ指向性を有する光を撮像する撮像手段と、反射鏡の曲率を補正した際に撮像される指向性を有する光の変位量を検出する制御部と、を有する曲率補正量検出系と、
をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡は、前記反射鏡の曲率を補正した際に前記曲率補正量検出系で検出された前記指向性を有する光の変位量が、前記アライメント検出系で検出された両アライメントマークのずれ量から算出された前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(4) 露光光の光路順において、インテグレータの次に配置される反射鏡は、ミラー曲げ機構を備える他方の反射鏡であることを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(5) ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構と、 光源及び該光源からの露光光の光束を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを前記アライメント検出系で検出すると共に、前記露光光を照射して照度測定手段によって前記ワーク支持部に照射される照度を測定し、
前記送り機構は、前記アライメント検出系で検出された前記両アライメントマークのずれ量から算出された前記マスクと前記ワークの位置ずれ量に基づいて、前記ワークと前記マスクとを相対的に移動することで、前記ワークと前記マスクとのアライメントを補正するとともに、
前記算出されたワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構は、前記反射鏡の曲率を補正するとともに、前記送り機構は、前記マスクと前記ワークとのギャップを補正することを特徴とする露光装置。
(6) 前記反射鏡より露光面側から前記反射鏡に向けて指向性を有する光を照射する検出用光源と、前記反射鏡で反射された前記指向性を有する光が投影される反射板と、前記反射鏡を介して、前記反射板に映りこんだ前記指向性を有する光を撮像する撮像手段と、前記反射鏡の曲率を補正した際に撮像される前記指向性を有する光の変位量を検出する制御部と、を有する曲率補正量検出系をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構は、前記指向性を有する光の変位量を前記曲率補正量検出系で検出しながら、前記反射鏡の曲率を補正することを特徴とする(5)に記載の露光装置。
(7) 前記ワーク支持部に設けられ、前記ワーク支持部に照射される照度を測定する照度測定手段をさらに備え、
前記露光光を照射して前記照度測定手段によって前記ワーク支持部に照射される照度を測定し、
前記マスクと前記ワークの位置ずれ量、前記ワークのひずみ補正後のずれ量、及び前記
照度の低下量が許容値以下となるように上記補正を繰り返すことを特徴とする(5)に記載の露光装置。
(8) ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構と、 光源及び該光源からの露光光の光束を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記ワークに転写されたパターンを測定し、
前記測定されたパターンに基づいて、前記送り機構は、前記ワークと前記マスクのギャップ補正を行うとともに、前記ミラー曲げ機構は、前記反射鏡の曲率を補正することを特徴とする露光装置。
(9) 前記測定されたパターンに基づいて、前記送り機構は、前記ワークと前記マスクとのアライメント補正をさらに行うことを特徴とする(8)に記載の露光装置。
(10) 前記マスクと前記ワークの位置ずれ量、前記ワークのひずみ補正後のずれ量、及び照度の低下量が許容値以下となるように上記補正を繰り返すことを特徴とする(8)に記載の露光装置。
(11) ワークを支持するワーク支持部と、マスクを支持するマスク支持部と、光源からの露光光を反射する反射鏡を備えた照明光学系と、を備え、光源からの露光光をマスクを介してワークに照射してマスクのパターンをワークに転写する露光装置であって、反射鏡は、接着剤により接着されたパッドを介して反射鏡を保持する保持部材によって保持され、反射鏡及びパッドに固定して配索され、接着剤による反射鏡とパッドとの接着が剥がれたとき断線可能な検出ワイヤと、検出ワイヤの断線を検出する検出装置と、を備えることを特徴とする露光装置。
(12) (1)に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡を、前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
前記ミラー曲げ機構を備える前記インテグレータ側の他方の前記反射鏡を、前記一方の反射鏡の曲率を補正した状態で、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
を有することを特徴とする露光方法。
(13) 前記露光装置は、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
前記反射鏡より露光面側から前記反射鏡に向けて指向性を有する光を照射する検出用光源と、前記反射鏡で反射された前記指向性を有する光が投影される反射板と、前記反射鏡を介して、前記反射板に映りこんだ前記指向性を有する光を撮像する撮像手段と、前記反射鏡の曲率を補正した際に撮像される前記指向性を有する光の変位量を検出する制御部と、を有する曲率補正量検出系と、
をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡を、前記反射鏡の曲率を補正した際に前記曲率補正量検出系で検出された前記指向性を有する光の変位量が、前記アライメント検出系で検出された両アライメントマークのずれ量から算出されたワークのひずみ量と対応するように、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする(12)に記載の露光方法。
(14) ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構と、 光源及び該光源からの露光光の光束を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
を備える露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを前記アライメント検出系で検出する工程と、
前記アライメント検出系で検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記マスクと前記ワークの位置ずれ量と前記ワークのひずみ量とを算出する工程と、
前記マスクと前記ワークの位置ずれ量に基づいて、前記送り機構によって、前記ワークと前記マスクとのアライメントを補正する工程と、
前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構によって、前記反射鏡の曲率を補正するとともに、前記送り機構によって、前記マスクと前記ワークとのギャップを補正する工程と、を備えることを特徴とする露光方法。
(15) ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構と、 光源及び該光源からの露光光の光束を反射する反射鏡を有する照明光学系と、
前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構と、
を備える露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記ワークに転写されたパターンを測定する工程と、
前記測定されたパターンに基づいて、前記ミラー曲げ機構によって、前記反射鏡の曲率を補正するとともに、前記送り機構によって、前記マスクと前記ワークとのギャップを補正する工程と、
を備えることを特徴とする露光方法。
(16) (1)に記載の露光装置に適用されるミラー曲げ機構付き反射鏡であって、
前記ミラー曲げ機構は、前記反射鏡の反射面を変形可能な複数の駆動装置と、前記反射鏡の変位量をセンシングする接触式センサと、を備え、
前記反射鏡は、前記各駆動装置の移動量に関する指令値を前記駆動装置に送り、前記接触式センサによって前記反射鏡の変位量を確認しながら、前記駆動装置を駆動制御して、前記反射鏡の曲率補正が行われることを特徴とするミラー曲げ機構付き反射鏡。
以下、本発明に係る露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の露光装置を示す図である。
図1に示すように、近接露光装置PEは、被露光材としてのワークWより小さいマスクMを用い、マスクMをマスクステージ1で保持すると共に、ワークWをワークステージ(ワーク支持部)2で保持し、マスクMとワークWとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明光学系3からパターン露光用の光をマスクMに向けて照射することにより、マスクMのパターンをワークW上に露光転写する。また、ワークステージ2をマスクMに対してX軸方向とY軸方向の二軸方向(水平方向)にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
体12の上端面は微動ステージ6bに固定されたフランジ12aに対して水平方向に摺動自在に接している。
なお、上下微動装置8は、モータ17とボールねじによってスライド体12を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体12を駆動するようにしてもよい。
なお、上下微動装置8によってワークステージ2の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置7を省略してもよい。
従って、本実施形態では、上下粗動装置7及び上下微動装置8が、マスクMとワークWとを上下方向に相対的に駆動する本発明の送り機構を構成する。
ザ干渉計18に対向するバーミラー19は、Y軸送り台6aの一側でX軸方向に沿って配置されており、X軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Y軸送り台6aの一端側でY軸方向に沿って配置されている。
さらに、ワークステージ2には、ワークステージ2に照射される露光光の照度を測定する照度測定手段としての複数の照度センサ95が設けられている。
このように、本実施形態の平面ミラー66,68は、ミラー変形ユニット70を備えて、本発明のミラー曲げ機構付き反射鏡を構成している。
次に、図10を参照して、本発明に係る露光装置の第2実施形態について説明する。なお、本実施形態の照明光学系3は、第1実施形態の照明光学系と同様の構成を有するので、第1実施形態と同一又は同等部分については、図面に同一符号を付してその説明を省略或いは簡略化する。
リネーション角を改善することができる。
その他の構成及び作用効果については、上記第1実施形態と同様である。
次に、第3実施形態の露光装置及び露光方法について、図11及び12を参照して説明する。第1及び第2実施形態の露光装置PEでは、ミラー変形ユニット70が2つの平面ミラー66,68、または、コリメーションミラー67と平面ミラー68に設けられた場合について説明したが、本実施形態では、図11に示すように、ミラー変形ユニット70が平面ミラー68に設けられた場合について説明する。
ただし、本実施形態の露光方法は、第1及び第2実施形態の露光装置PEにも適用可能であり、その場合には、ミラー曲げ機構を備えるマスク側の反射鏡の制御に適用することができる。
に対応する値の許容範囲内、また、照度センサ95で測定された照度の低下量が許容値以下となるまで、平面ミラー68のミラー変形ユニット70のモータ74に制御信号を与えて、平面ミラー68による曲率補正、及びギャップ補正が行われる。
次に、図13を参照して、本発明に係る露光装置及び露光方法の第4実施形態について説明する。なお、本実施形態の露光方法では、図13に示すように、第3実施形態の図12と異なる方法で、マスクとワークの位置ずれ量、及びワークのひずみ量の補正を行っており、本実施形態の露光装置では、第1〜第3実施形態のものと比較して曲率補正検出系を備えない構成である。その他の構成については、第1〜第3実施形態と同様であり、第1〜第3実施形態と同一又は同等部分については、図面に同一符号を付してその説明を省略或いは簡略化する。
この実施形態では、まず一度、ワークWにマスクMのパターンを露光転写し、図示しない測長機によって、ワークWに転写されたパターンを測定する(ステップS11)。そして、測定されたパターンに基づいて、マスクMの中心とワークWの中心の位置ずれ量と、ワークWのひずみ量が別々に計算される。そして、マスクMの中心とワークWの中心の位置ずれ量と、ワークWのひずみ量が、それぞれ許容値以下であるかどうか判断する(ステップS12)。
なお、本実施形態では、測定されたパターンに基づいて、アライメント補正を行っているが、第1実施形態と同様に、試し露光の前に、ワークWのアライメントマークWaとマスクMのアライメントマークMaを4箇所のCCDカメラ30で検出して、マスクMの中心とワークWの中心の位置ずれ量を補正してもよい。
その他の構成及び作用効果については、上記第3実施形態と同様である。
次に、図14を参照して、本発明に係る露光装置及び露光方法の第5実施形態について説明する。なお、本実施形態の露光方法では、第3実施形態の露光方法と第4実施形態の露光方法を実質的に組み合わせたものである。
次に、図15及び図16を参照して、本発明に係る露光装置の第6実施形態について説明する。なお、本実施形態では、平面ミラー68にミラー変形ユニット70が設けられた場合を例に説明する。
れ検出の信頼性が向上する。
また、本実施形態では、検出ワイヤ85は、モータ74によって曲率補正を行う平面ミラー68に適用されているが、これに限らず、パッド72を反射鏡に接着して、反射鏡を
保持部材に保持させる構成であれば、駆動手段を有しない構成に適用可能である。
また、保持部材も、パッドを介して反射鏡を保持する構成であれば、任意の構成とすることができる。
さらに、本実施形態の反射鏡は、平面ミラーに限定されず、凸面ミラーや凹面ミラーであってもよい。
2 ワークステージ(ワーク支持部)
3 照明光学系
60 マルチランプユニット(光源)
65 オプティカルインテグレータ
66,68 平面ミラー(ミラー曲げ機構を備える反射鏡)
67 コリメーションミラー(凹面反射鏡、ミラー曲げ機構を備える反射鏡)
70 ミラー変形ユニット(ミラー曲げ機構)
72 パッド
73 保持部材
74 モータ(駆動装置)
85 検出ワイヤ
85a パッド側固定部
85b ミラー側固定部
86 検出装置
95 照度センサ
EL 光路
M マスク
PE 露光装置
W ワーク
Claims (16)
- ワークを支持するワーク支持部と、
マスクを支持するマスク支持部と、
光源、インテグレータ、及び光源からの露光光を反射する複数の反射鏡を有する照明光学系と、
を備え、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光装置であって、
前記複数の反射鏡の内の少なくとも2つの前記反射鏡は、前記反射鏡の曲率を補正可能なミラー曲げ機構をそれぞれ備え、前記インテグレータと前記マスクとの間の光路に配設され、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡は、前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正し、
前記ミラー曲げ機構を備える前記インテグレータ側の他方の前記反射鏡は、前記一方の反射鏡の曲率を補正した状態で、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする露光装置。 - 前記複数の反射鏡で反射された前記露光光の照度を測定する照度測定手段と、
前記露光光の照度を検出する制御部と、
をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構を備える前記インテグレータ側の他方の前記反射鏡は、前記一方の反射鏡の曲率を補正した状態で、前記制御部で検出される前記露光光の照度のばらつきが抑制されるように、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
前記反射鏡より露光面側から前記反射鏡に向けて指向性を有する光を照射する検出用光源と、前記反射鏡で反射された前記指向性を有する光が投影される反射板と、前記反射鏡を介して、前記反射板に映りこんだ前記指向性を有する光を撮像する撮像手段と、前記反射鏡の曲率を補正した際に撮像される前記指向性を有する光の変位量を検出する制御部と、を有する曲率補正量検出系と、
をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡は、前記反射鏡の曲率を補正した際に前記曲率補正量検出系で検出された前記指向性を有する光の変位量が、前記アライメント検出系で検出された両アライメントマークのずれ量から算出された前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記露光光の光路順において、前記インテグレータの次に配置される前記反射鏡は、前記ミラー曲げ機構を備える他方の反射鏡であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構と、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
をさらに備え、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを前記アライメント検出系で検出すると共に、前記露光光を照射して照度測定手段によって前記ワーク支持部に照射される照度を測定し、
前記送り機構は、前記アライメント検出系で検出された前記両アライメントマークのずれ量から算出された前記マスクと前記ワークの位置ずれ量に基づいて、前記ワークと前記マスクとを相対的に移動することで、前記ワークと前記マスクとのアライメントを補正するとともに、
前記算出されたワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構は、前記反射鏡の曲率を補正するとともに、前記送り機構は、前記マスクと前記ワークとのギャップを補正することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記反射鏡より露光面側から前記反射鏡に向けて指向性を有する光を照射する検出用光源と、前記反射鏡で反射された前記指向性を有する光が投影される反射板と、前記反射鏡を介して、前記反射板に映りこんだ前記指向性を有する光を撮像する撮像手段と、前記反射鏡の曲率を補正した際に撮像される前記指向性を有する光の変位量を検出する制御部と、を有する曲率補正量検出系をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構は、前記指向性を有する光の変位量を前記曲率補正量検出系で検出しながら、前記反射鏡の曲率を補正することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 - 前記ワーク支持部に設けられ、前記ワーク支持部に照射される照度を測定する前記照度測定手段をさらに備え、
前記露光光を照射して前記照度測定手段によって前記ワーク支持部に照射される照度を測定し、
前記マスクと前記ワークの位置ずれ量、前記ワークのひずみ補正後のずれ量、及び前記
照度の低下量が許容値以下となるように上記補正を繰り返すことを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 - 前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構をさらに備え、
前記ワークに転写されたパターンを測定し、
前記測定されたパターンに基づいて、前記送り機構は、前記ワークと前記マスクのギャップ補正を行うとともに、前記ミラー曲げ機構は、前記反射鏡の曲率を補正することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記測定されたパターンに基づいて、前記送り機構は、前記ワークと前記マスクとのアライメント補正をさらに行うことを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記マスクと前記ワークの位置ずれ量、前記ワークのひずみ補正後のずれ量、及び照度
の低下量が許容値以下となるように上記補正を繰り返すことを特徴とする請求項8に記載の露光装置。 - 前記反射鏡は、接着剤により接着されたパッドを介して前記反射鏡を保持する保持部材によって保持され、
前記反射鏡及び前記パッドに固定して配索され、前記接着剤による前記反射鏡と前記パッドとの接着が剥がれたとき断線可能な検出ワイヤと、
前記検出ワイヤの断線を検出する検出装置と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置を用いて、前記光源からの露光光を前記マスクを介して前記ワークに照射して前記マスクのパターンを前記ワークに転写する露光方法であって、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡を、前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
前記ミラー曲げ機構を備える前記インテグレータ側の他方の前記反射鏡を、前記一方の反射鏡の曲率を補正した状態で、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正する工程と、
を有することを特徴とする露光方法。 - 前記露光装置は、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
前記反射鏡より露光面側から前記反射鏡に向けて指向性を有する光を照射する検出用光源と、前記反射鏡で反射された前記指向性を有する光が投影される反射板と、前記反射鏡を介して、前記反射板に映りこんだ前記指向性を有する光を撮像する撮像手段と、前記反射鏡の曲率を補正した際に撮像される前記指向性を有する光の変位量を検出する制御部と、を有する曲率補正量検出系と、
をさらに備え、
前記ミラー曲げ機構を備える前記マスク側の一方の前記反射鏡を、前記反射鏡の曲率を補正した際に前記曲率補正量検出系で検出された前記指向性を有する光の変位量が、前記アライメント検出系で検出された両アライメントマークのずれ量から算出されたワークのひずみ量と対応するように、前記ミラー曲げ機構を駆動させることで、その曲率を補正することを特徴とする請求項12に記載の露光方法。 - 前記露光装置は、前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構と、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを検出するアライメント検出系と、
をさらに備え、
前記ワークのアライメントマークと前記マスクのアライメントマークとを前記アライメント検出系で検出する工程と、
前記アライメント検出系で検出された前記両アライメントマークのずれ量に基づいて、前記マスクと前記ワークの位置ずれ量と前記ワークのひずみ量とを算出する工程と、
前記マスクと前記ワークの位置ずれ量に基づいて、前記送り機構によって、前記ワークと前記マスクとのアライメントを補正する工程と、
前記ワークのひずみ量に応じて、前記ミラー曲げ機構によって、前記反射鏡の曲率を補正するとともに、前記送り機構によって、前記マスクと前記ワークとのギャップを補正する工程と、を備えることを特徴とする請求項12に記載の露光方法。 - 前記露光装置は、前記ワークと前記マスクとを水平方向及び上下方向に相対的に移動させる送り機構をさらに備え、
前記ワークに転写されたパターンを測定する工程と、
前記測定されたパターンに基づいて、前記ミラー曲げ機構によって、前記反射鏡の曲率を補正するとともに、前記送り機構によって、前記マスクと前記ワークとのギャップを補正する工程と、
を備えることを特徴とする請求項12に記載の露光方法。 - 請求項1に記載の露光装置に適用されるミラー曲げ機構付き反射鏡であって、
前記ミラー曲げ機構は、前記反射鏡の反射面を変形可能な複数の駆動装置と、前記反射鏡の変位量をセンシングする接触式センサと、を備え、
前記反射鏡は、前記各駆動装置の移動量に関する指令値を前記駆動装置に送り、前記接触式センサによって前記反射鏡の変位量を確認しながら、前記駆動装置を駆動制御して、前記反射鏡の曲率補正が行われることを特徴とするミラー曲げ機構付き反射鏡。
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