JP2012522848A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2012522848A
JP2012522848A JP2012502432A JP2012502432A JP2012522848A JP 2012522848 A JP2012522848 A JP 2012522848A JP 2012502432 A JP2012502432 A JP 2012502432A JP 2012502432 A JP2012502432 A JP 2012502432A JP 2012522848 A JP2012522848 A JP 2012522848A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
formula
content
composition according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012502432A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5599862B2 (ja
JP2012522848A5 (ja
Inventor
広超 謝
興明 成
Original Assignee
漢高(中国)投資有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 漢高(中国)投資有限公司 filed Critical 漢高(中国)投資有限公司
Publication of JP2012522848A publication Critical patent/JP2012522848A/ja
Publication of JP2012522848A5 publication Critical patent/JP2012522848A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5599862B2 publication Critical patent/JP5599862B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K21/00Fireproofing materials
    • C09K21/14Macromolecular materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/226Mixtures of di-epoxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/30Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
    • C08G59/302Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C08G59/62Alcohols or phenols
    • C08G59/621Phenols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3445Five-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

本発明は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促進剤および無機充填剤を含むエポキシ樹脂組成物を提供する;上記のエポキシ樹脂は以下を含む:(1)式I、20〜50%;(2)式II、10〜40%;および(3)式III、0〜30%、および/または、式IV、0〜40%、ここで、式IIIと式IVは同時に0%ではなく;RおよびRは、独立して、水素またはC-Cアルキルであり;式Iにおいてnは0〜50の整数であり;エポキシ樹脂混合物中のエポキシ基の数に対する上記フェノール樹脂中のフェノール性ヒドロキシルの数の割合は、0.8〜1.3であり;上記含量の全てのパーセンテージは、エポキシ樹脂混合物の合計質量に対するパーセンテージである。本発明は、無公害で、環境に優しく、高い信頼性と低い反り特性を有するエポキシ樹脂組成物を提供し、それは、鉛を含有しない高温還流方法の要件を満足することができる。

Description

本発明は、エポキシ樹脂組成物に関する。
半導体カプセル化材料として、エポキシ樹脂組成物の難燃性は、難燃性に対する品質基準のUL-94V-0水準を達成しなければならない。先行技術において、この品質基準を達成するための主な方法は、一定量の難燃剤を添加することである。現在使用されている、難燃剤は多数存在し、昔から(環境に優しくない)臭素系難燃剤およびアンチモン系難燃剤が主に使用されている。しかしながら、世界的な環境意識の高まりとともに、種々の国が、相次いで、環境保護条例を提出し、電子工学製品における、臭素含有難燃剤および鉛含有有害物質等の使用を制限している。前世紀の90年代初期において、アメリカ、ヨーロッパ諸国および日本等の国々は、電子産業の急速な発展とともに、工業製品廃棄物の害、特に毎年大量に消費される鉛−錫はんだ中の鉛の害に気づき、多くの注意をはらってきたはずである。現在、中国は、世界における家庭用機器の主要輸出国の1つである;中国製の電子工学製品は、国際市場に投入させる場合、電子工学製品中の有害物質に対する制限について、例えばROHS等の制限法の制約を受けねばならない。欧州議会および理事会により発行された「有害物質に関する制限」の規定によれば、中国において、2006年7月1日より、国家重点規制ディレクトリ内の、市販されている電子情報製品は、有害物質、例えば鉛、アンチモン、水銀、カドミウム、6価クロム、ポリ臭素化ビフェニル(PBB)またはポリ臭素化ジフェニルエーテル(PBDE)等を含有してはならない。したがって、従前の臭素系難燃剤およびアンチモン系難燃剤は、環境に優しい難燃剤に徐々に置き換わりつつあるが、現在使用される環境に優しい難燃剤の難燃性効果は、Br/Sb難燃剤の性能に太刀打ちできるものではなく、所要の難燃性を達成するためには多量の添加が必要である。しかしながら、このような多量の難燃剤の使用は、エポキシ樹脂組成物の流動特性、成形特性および信頼性に、深刻な影響を与える。
半導体カプセル化において、従前の鉛含有はんだの240℃での高温還流工程から、無公害で環境に優しい、鉛を含有しないはんだの260℃での高温還流工程への移り変わりのために、エポキシ成形材料の信頼性に対する、より高い要求が示される。中でも、無公害で環境に優しいクアッドフラットノンリードパッケージ(QFN)のカプセル化において、エポキシ成形材料は、信頼性において、鉛を含有しないカプセル化工程における高温還流の要求を満足すべきであり、高温還流後のエポキシ成形材料とチップ/パドル/枠組みとの間の分離現象を減らすまたは避けるために、高い耐熱性、高い接着力、ならびに低い吸水率および低い応力等の特性を有すべきである。次に、エポキシ成形材料は、低い熱膨張率をさらに有するべきであり、それは、半導体カプセル化材料、例えばチップ/パドル/枠組み等の熱膨張率と適合し、熱膨張率の不適合に起因するパッケージ反り現象を現象させる。したがって、QFNカプセル化において、エポキシ成形材料は、例えば半導体パッケージ等の内部分離および外部分離などの望ましくない現象を減らし、または、避けるために、高い信頼性および低い反り特性を有すべきである。
本発明により解決すべき技術課題は、従来のエポキシ樹脂組成物に臭素系難燃剤またはアンチモン系難燃剤が添加されていたという欠点、および、最近のエポキシ樹脂が、環境に優しい難燃剤を大量に添加するため、鉛を含有しない還流はんだの要件を満足し難いという欠点を解決することである。その結果、本発明は、鉛を含有しない高温還流方法の要件を満足することができるものであって、無公害で、環境に優しく、高い信頼性と低い反り特性を有するエポキシ樹脂組成物を提供する。
効果実施例において接着を試験するための構造の概略図である。
本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促進剤および無機充填剤を含む;上記のエポキシ樹脂は以下を含む:
(1)式Iで示されるエポキシ樹脂;(2)式IIで示されるエポキシ樹脂;および(3)式IIIで示されるエポキシ樹脂および/または式IVで示されるエポキシ樹脂;
Figure 2012522848
[式中、RおよびRは、独立して、水素またはC-Cアルキルであり、Rは好ましくはメチルであり、Rは好ましくはtert-ブチルであり;式Iにおいてnは0〜50の整数である]。
式Iのエポキシ樹脂の含量は、20〜50%、好ましくは30〜40%であり;式IIのエポキシ樹脂の含量は、10〜40%、好ましくは15〜25%であり;式IIIのエポキシ樹脂の含量は、0〜30%、好ましくは15〜25%であり;式IVのエポキシ樹脂の含量は、0〜40%、好ましくは20〜30%であり;式IIIと式IVのこれらは、同時に0%となることはできず;上記含量の全てのパーセンテージは、エポキシ樹脂混合物の合計質量に対するパーセンテージである。上記のエポキシ樹脂混合物の含量は、エポキシ樹脂組成物の、好ましくは3〜8質量%である。
本発明におけるエポキシ樹脂は、フェノール樹脂と反応して、エポキシ樹脂組成物の自消性ネットワーク構造を形成する。すなわち、エポキシ樹脂組成物は燃えるが、酸素が通過するのを防ぐフォーム層(難燃剤バリア)が形成され、熱伝達を遮断し、自消性効果を達成する。一方で、複数種の芳香族炭化水素を含有し、分解反応耐熱性を有する、硬化樹脂化合物により主鎖で形成されるネットワークは、フォーム層安定性に重要な役割を果たす。このような組成物は、優れた耐熱性および信頼性、ならびに低い吸水率および低い応力を有し、鉛を含まないはんだ工程の高温および信頼性の要件をよく満足すると同時に、低い反り特性を満足する。
本発明のフェノール樹脂は、主に硬化剤として使用され、当業界で従来使用されるフェノール樹脂、好ましくは低い吸水性のフェノール樹脂およびビフェニルフェノール樹脂が選択でき、使用できる。エポキシ樹脂混合物中のエポキシ基の数に対する上記のフェノール樹脂中のフェノール性ヒドロキシルの数の割合は、0.8〜1.3、好ましくは0.9〜1.1である。
本発明の硬化促進剤は、イミダゾール化合物である。上記のイミダゾール化合物は、イミダゾールまたはイミダゾール基を含有する化合物を意味し、好ましくはジメチルイミダゾールであり、上記の硬化促進剤の含量は、質量で、エポキシ樹脂組成物の1%以下であることが好ましい。
本発明の無機充填剤は、エポキシ樹脂組成物の吸水率をさらに減らすことができるため、信頼性が増加する。上記の無機充填剤は、コンポジット無機充填剤であることが好ましい。上記のコンポジットは、二酸化ケイ素であることが好ましい;上記コンポジット無機充填剤の粒度分布は、好ましくは以下である;18〜24%が3μm未満、20〜30%が3μm以上および12μm未満、45〜57%が12μm以上および48μm未満、5〜17%が48μm以上および75μm未満;パーセンテージは、コンポジット無機充填剤の合計質量に占めるパーセンテージである。上記のコンポジット無機充填剤は、14〜20μmのメジアン粒径d50を有することが好ましく、18〜24μmの平均粒径を有することが好ましい;上記のコンポジット無機充填剤の含量は、エポキシ樹脂組成物の合計質量の85〜89%であることが好ましい。上記で使用するコンポジット無機充填剤は、高充填技術であるため、充填率が85〜89%の際に、本発明のエポキシ樹脂組成物が良好な流動性を維持することが可能となる。
本発明の好ましい例において、上記のエポキシ樹脂組成物は、さらに難燃剤を含有する。上記難燃剤は、当業界で一般に使用される環境に優しい難燃剤であり、窒素含有難燃剤、臭素含有難燃剤および金属水酸化物難燃剤の1以上であることが好ましい。難燃剤の含量は、エポキシ樹脂組成物の5質量%以下であることが好ましい。
実際の適用の要件に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物は、他の添加剤、例えば離型剤、カップリング剤、着色剤、応力吸収剤、接着促進剤およびイオン捕捉剤等の1以上を、さらに含有してよい。本発明の好ましい例の多くにおいて、本発明のエポキシ樹脂は、離型剤、カップリング剤、着色剤、応力吸収剤、接着促進剤およびイオン捕捉剤を、さらに含有する。それぞれの添加剤の種類と含量は、当業界で通常の技術により選択してよい。ここで、カップリング剤は、エポキシ樹脂組成物の接着性を増加するために使用され、成形材料と枠組み等との間の境界面からチップへ水が浸透するのを防ぐ;イオン捕捉剤は、エポキシ樹脂組成物中の遊離イオンの含量を減らすために使用される。
本発明は、さらに、上記エポキシ樹脂組成物の製造方法を提供する:本発明のエポキシ樹脂組成物の種々の成分を、二軸スクリュー押出機中で、100〜110℃で押出しかつ混合し、その後、冷却し粉砕して、調製を完了する。
本発明の原材料および試薬は全て、市販され入手できる。
本発明の極めて革新的な効果は以下である。
1.エポキシ樹脂の種類と割合を適正にすることにより、臭素を含有しない、および、アンチモンを含有しないエポキシ樹脂組成物を提供する。このようなエポキシ樹脂組成物は、良好な流動性、難燃性、高い耐熱性、高い接着性、低い吸水率および低い応力等を有し、難燃性に対する品質基準のUL-94V-0水準を達成できるだけでなく、無公害で、環境に優しい、鉛を含有しないはんだカプセル化方法の高温および信頼性要件を満たし、高い信頼性と低い反り特性を有するため、エポキシ樹脂組成物は、半導体カプセル化のために優れたエポキシ樹脂組成物であり、無公害で環境に優しいQFNのカプセル化に特に適する。
2.本発明の好ましい例において、本発明のエポキシ樹脂組成物は、高充填方法および好ましいコンポジット無機充填剤を用いることにより、充填率が85〜89%までであるときでもなお、良好な流動性ならびに低い吸水率および低い応力を有し、鉛を含有しないはんだ方法の高温および信頼性要件により良好に合致し得る、そして同時に、低い反り特性を有する。
〔具体的な態様〕
以下に、実施例と共に本発明をさらに説明するが、それによって限定されるものではない。
実施例で使用する式IIIおよび式IVの分子式は、以下である:
Figure 2012522848
実施例で使用するフェノール樹脂は、ビフェニルフェノール樹脂;式V参照、式中、mは0〜15の整数である。
Figure 2012522848
〔実施例1〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:80g、ここで、式(I)が25g(n=0)を占め、式(II)が5gを占め、式(IV)が20gを占める;フェノールノボラック樹脂:60g(エポキシ樹脂に対する等量比は0.8である);ジメチルイミダゾール:10g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:850g;前記二酸化ケイ素の18%が粒度において3μm未満であり、20%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、45%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、17%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、20μmのメジアン粒径、および24μmの平均粒径を有する。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、100℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例2〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:30g、ここで、式(I)が12g(n=15)を占め、式(II)が9gを占め、式(III)が9gを占める;フェノールノボラック樹脂:80g(エポキシ樹脂に対する等量比は1.3である);ジメチルイミダゾール:10g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:890g;前記二酸化ケイ素の24%が粒度において3μm未満であり、26%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、45%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、5%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、14μmのメジアン粒径、および18μmの平均粒径を有する。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例3〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:40g、ここで、式(I)が8g(n=50)を占め、式(II)が10gを占め、式(III)が10gを占め、式(IV)が12gを占める;フェノールノボラック樹脂:60g(エポキシ樹脂に対する等量比は1.1である);ジメチルイミダゾール:10g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:890g;前記二酸化ケイ素の20%が粒度において3μm未満であり、30%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、45%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、5%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、16μmのメジアン粒径、および20μmの平均粒径を有する。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、110℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例4〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:60g、ここで、式(I)が30g(n=30)を占め、式(II)が6gを占め、式(III)が12gを占め、式(IV)が12gを占める;フェノールノボラック樹脂:60g(エポキシ樹脂に対する等量比は0.9である);ジメチルイミダゾール:5g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:875g:前記二酸化ケイ素の18%が粒度において3μm未満であり、20%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、57%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、5%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、18μmのメジアン粒径、および22μmの平均粒径を有する。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例5〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:60g、ここで、式(I)が18g(n=30)を占め、式(II)が15gを占め、式(III)が9gを占め、式(IV)が18gを占める;フェノールノボラック樹脂:60g(エポキシ樹脂に対する等量比は1.0である);ジメチルイミダゾール:5g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:850g;前記二酸化ケイ素の20%が粒度において3μm未満であり、22%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、57%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、10%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、16μmのメジアン粒径、および20μmの平均粒径を有する;着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤:エポキシシラン6g;難燃剤:ホウ酸亜鉛11g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例6〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:40g、ここで、式(I)が14g(n=12)を占め、式(II)が6gを占め、式(III)が8gを占め、式(IV)が12gを占める; フェノールノボラック樹脂:35g(エポキシ樹脂に対する等量比は1.0である);ジメチルイミダゾール:5g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:856g;前記二酸化ケイ素の20%が粒度において3μm未満であり、22%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、57%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、10%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、16μmのメジアン粒径、および20μmの平均粒径を有する;着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤、エポキシシラン:6g;難燃剤、水酸化アルミニウム:50g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例7〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:40g、ここで、式(I)が14g(n=12) を占め、式(II)が6gを占め、式(III)が8gを占め、式(IV)が12gを占める;フェノールノボラック樹脂:35g(エポキシ樹脂に対する等量比は1.0である);ジメチルイミダゾール:5g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:870g;前記二酸化ケイ素の20%が粒度において3μm未満であり、22%が粒度において3μm以上および12μm未満であり、57%が粒度において12μm以上および48μm未満であり、10%が粒度において48μm以上および75μm未満である。その二酸化ケイ素は、16μmのメジアン粒径、および20μmの平均粒径を有する; 着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤、エポキシシラン:6g;難燃剤、メラミン:30g;応力吸収剤、ポリシロキサンシリコーン油:2g;結合促進剤、メルカプトシラン:2g;イオン捕捉剤:2g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例8〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:45gが選択され、使用され、ここで、式(I)が12g(n=4)を占め、式(II)が9gを占め、式(III)が10gを占め、式(IV)が9gを占める;フェノールノボラック樹脂:40g;イミダゾール硬化促進剤(ジメチルイミダゾール):2g;コンポジット無機充填剤、二酸化ケイ素:890g、3μm未満の粒子が22%を占め、3μm以上および12μm未満の粒子が18%を占め、12μm以上および48μm未満の粒子が48%を占め、48μm以上および75μm未満の粒子が12%を占める粒度分布を有する;その二酸化ケイ素は18μmのメジアン粒径d50、および22μmの平均粒径を有する;着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤、エポキシシラン:6g;難燃剤、メラミン:3g; 応力吸収剤、ポリシロキサンシリコーン油:2g; 結合促進剤、メルカプトシラン:2g;イオン捕捉剤:2g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例9〕
エポキシ樹脂組成物(1000g)の配合組成は:
エポキシ樹脂:55g、ここで、式(I)が24g(n=8)を占め、式(II)が15gを占め、式(IV)が16gを占める; フェノールノボラック樹脂:40g;イミダゾール硬化促進剤(ジメチルイミダゾール):2g;コンポジット無機充填剤(実施例8と同じ):885g;着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤、エポキシシラン:6g;難燃剤、メラミン:3g; 応力吸収剤、ポリシロキサンシリコーン油:2g; 結合促進剤、メルカプトシラン:2g;イオン捕捉剤:使用において2g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例10〕
以下を使用する:エポキシ樹脂:55g、ここで、式(I)が20g(n=18)を占め、式(II)が24gを占め、式(III)が11gを占める;フェノールノボラック樹脂:40g;イミダゾール硬化促進剤(ジメチルイミダゾール):2g;コンポジット無機充填剤(実施例8と同じ):885g;着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤、エポキシシラン:6g;難燃剤、メラミン:3g;応力吸収剤、ポリシロキサンシリコーン油:2g;結合促進剤、メルカプトシラン:2g;イオン捕捉剤:2g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔実施例11〕
以下を使用する:エポキシ樹脂:45gが選択され、使用される、ここで、式(I)が8g(n=20)を占め、式(II)が14gを占め、式(III)が10gを占め、式(IV)が13gを占める;フェノールノボラック樹脂:40g;イミダゾール硬化促進剤(ジメチルイミダゾール):2g; コンポジット無機充填剤(実施例8と同じ):890g;着色剤、カーボンブラック:3g;離型剤、カルナウバワックス:5g;カップリング剤、エポキシシラン:6g;難燃剤、メラミン:3g;応力吸収剤、ポリシロキサンシリコーン油:2g;結合促進剤、メルカプトシラン:2g;イオン捕捉剤:2g。
製造の間に、上記の原材料を、二軸スクリュー押出機中、105℃で混合し、次いで冷却し粉砕する。
〔効果実施例〕
効果実施例のエポキシ樹脂組成物を、実施例8〜11に従って製造する。
I.実施例8〜11に従って製造したエポキシ樹脂組成物の、主要性能指数についての試験
1.ゲル化時間(GT):HW/ZL/JS015−HPGT
2.スパイラル流動長(SF):HW/ZL/JS015−SF
3.灰分(Ash):HW/ZL/JS015−ASH
4.難燃性(UL 94):HW/ZL/JS015−UL
5.吸水率(PCT24):121C/100%/24H
6.ガラス転移温度/熱膨張率(Tg/CTE1&2):HW/ZL/JS015TMA
7. 接着力:エポキシ樹脂組成物を、図1に示した枠組み上にカプセル化させ、ここでエポキシ樹脂組成物と枠組みとの間の接触領域は0.784平方インチであり、175℃のオーブン中で6時間、後硬化させ、さらに、JEDEC MSL3(30℃/60%/168時間)の条件下で水分吸収処理を施し、その後、処理したサンプルを260℃の条件下で3回還流させる。最後に、エポキシ樹脂組成物と金属枠組みとの間の接着力を、引張り試験機にて試験する。
試験結果を表1に示す。
II.実施例8〜11に従って製造したエポキシ樹脂組成物の、半導体パッケージにおける、信頼性および反り特性についての試験
1.分離信頼性:サンプルをQFN 7×7mmのCu/AgおよびNi/Pa/Au(PPF)枠組み上に、それぞれ、カプセル化させ、カプセル化したサンプルを、175℃で6時間、後硬化させて、続いて、JEDEC MSL1(85/85/100%)/260℃の下で、3回還流後処理を行った後、QFNパッケージの内部分離状態をC-samで調べる。
2.パッケージ反り特性:サンプルを、QFN7×7mm上にパッケージ化した後、Shadow Morrieの方法で反り試験を行う。
試験結果を表2に示す。
Figure 2012522848
Figure 2012522848
表2において、「/」の前の数字は失敗したサンプルの数であり、「/」の後の数字はサンプルの合計数である。
表1および表2より、本発明のエポキシ樹脂組成物は、それぞれ、より良好な信頼性および反り特性を有することがわかる。特に、実施例9のものは、PPF上で、第1級評価に合格し、実施例10のものは、Cu/Ag上で第1級評価に合格する。

Claims (14)

  1. エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促進剤および無機充填剤を含むエポキシ樹脂組成物であって、該エポキシ樹脂が:
    (1)式I、20〜50%;
    (2)式II、10〜40%;および
    (3)式III、0〜30%、および/または、式IV、0〜40%、ここで、式IIIと式IVは同時に0%ではない;
    Figure 2012522848
    [式中、RおよびRは、独立して、水素またはC-Cアルキルであり;式Iにおいてnは0〜50の整数であり;エポキシ樹脂混合物中のエポキシ基の数に対する該フェノール樹脂中のフェノール性ヒドロキシルの数の割合は、0.8〜1.3であり;上記含量の全てのパーセンテージは、エポキシ樹脂混合物の合計質量に対するパーセンテージである]
    を含む、エポキシ樹脂組成物。
  2. はメチルであり、Rはtert-ブチルであることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  3. 式Iの含量が30〜40%であり;式IIの含量が15〜25%であり;該含量の全てのパーセンテージは、エポキシ樹脂混合物の合計質量に対するパーセンテージであることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 式IIIの含量が15〜25%であり;該含量の全てのパーセンテージは、エポキシ樹脂混合物の合計質量に対するパーセンテージであることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  5. 式IVの含量が20〜30%であり; 該含量の全てのパーセンテージは、エポキシ樹脂混合物の合計質量に対するパーセンテージであることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  6. エポキシ樹脂の含量が、エポキシ樹脂組成物の3〜8質量%であることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  7. エポキシ樹脂混合物中のエポキシ基の数に対するフェノール樹脂中のフェノール性ヒドロキシルの数の割合が、0.9〜1.1であることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  8. 硬化促進剤がイミダゾール化合物であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  9. 硬化促進剤の含量が、エポキシ樹脂組成物の1質量%以下であることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  10. 無機充填剤がコンポジット無機充填剤であり、ここで、該コンポジット無機充填剤が二酸化ケイ素であり;該コンポジット無機充填剤の粒度分布が以下:18〜24%が3μm未満、20〜30%が3μm以上および12μm未満、45〜57%が12μm以上および48μm未満、5〜17%が48μm以上および75μm未満であり;パーセンテージは、コンポジット無機充填剤の合計質量に占めるパーセンテージであり;該コンポジット無機充填剤は、14〜20μmのメジアン粒径、および18〜24μmの平均粒径を有することを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  11. 無機充填剤の含量が、エポキシ樹脂の85〜89質量%であることを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  12. エポキシ樹脂組成物が、難燃剤、離型剤、カップリング剤、着色剤、応力吸収剤、接着促進剤およびイオン捕捉剤の1以上をさらに含有することを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  13. エポキシ樹脂組成物が、難燃剤、離型剤、カップリング剤、着色剤、応力吸収剤、接着促進剤およびイオン捕捉剤をさらに含有することを特徴とする、請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
  14. 難燃剤が窒素含有難燃剤、臭素含有難燃剤および金属水酸化物難燃剤の1以上であり、該難燃剤の含量がエポキシ樹脂組成物の5質量%以下であることを特徴とする、請求項12または13に記載のエポキシ樹脂組成物。
JP2012502432A 2009-04-01 2010-03-24 エポキシ樹脂組成物 Expired - Fee Related JP5599862B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200910048710.0 2009-04-01
CN200910048710A CN101851386B (zh) 2009-04-01 2009-04-01 一种环氧树脂组合物
PCT/CN2010/071268 WO2010111921A1 (zh) 2009-04-01 2010-03-24 一种环氧树脂组合物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012522848A true JP2012522848A (ja) 2012-09-27
JP2012522848A5 JP2012522848A5 (ja) 2013-05-09
JP5599862B2 JP5599862B2 (ja) 2014-10-01

Family

ID=42803077

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012502432A Expired - Fee Related JP5599862B2 (ja) 2009-04-01 2010-03-24 エポキシ樹脂組成物

Country Status (5)

Country Link
US (2) US8362115B2 (ja)
JP (1) JP5599862B2 (ja)
KR (1) KR20120000077A (ja)
CN (2) CN101851386B (ja)
WO (1) WO2010111921A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101851386B (zh) * 2009-04-01 2012-09-05 汉高华威电子有限公司 一种环氧树脂组合物
JP5844252B2 (ja) 2010-04-02 2016-01-13 株式会社カネカ 硬化性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物タブレット、成形体、半導体のパッケージ、半導体部品及び発光ダイオード
CN102558769B (zh) * 2010-12-31 2015-11-25 第一毛织株式会社 用于封装半导体器件的环氧树脂组合物以及由该环氧树脂组合物封装的半导体器件
CN103421272A (zh) * 2012-05-22 2013-12-04 汉高华威电子有限公司 一种电子封装用环氧树脂组合物及其制备方法
CN104448693B (zh) * 2014-11-20 2020-04-10 徐东 环氧树脂组合物及其制备方法、应用
WO2016145654A1 (en) * 2015-03-19 2016-09-22 Henkel Huawei Electronics Co. Ltd. Epoxy resin composition, preparation and use thereof
CN104830261A (zh) * 2015-06-07 2015-08-12 安徽华美高分子材料科技有限公司 一种高分子粘接材料
CN105038129B (zh) * 2015-07-13 2018-01-19 江苏中鹏新材料股份有限公司 一种倒装芯片封装的环氧树脂组合物
CN106674911B (zh) * 2016-12-30 2019-06-07 科化新材料泰州有限公司 一种半导体封装用高粘接环氧塑封料
CN113601926A (zh) * 2021-07-07 2021-11-05 江西科昂电子新材料有限公司 一种用于5g高频线路板的耐高温散热覆盖膜

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000159981A (ja) * 1998-11-30 2000-06-13 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP2006188622A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2006278530A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd ソルダーレジスト用熱硬化性樹脂組成物およびソルダーレジスト
JP2007092083A (ja) * 2000-12-28 2007-04-12 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
JP2008156403A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Matsushita Electric Works Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2008195835A (ja) * 2007-02-14 2008-08-28 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd エポキシ樹脂ワニスの製造法、プリプレグの製造法、積層板および配線板の製造法
JP2008239983A (ja) * 2007-02-28 2008-10-09 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000230039A (ja) 1998-12-08 2000-08-22 Nitto Denko Corp 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置
JP2000281874A (ja) * 1999-03-31 2000-10-10 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
TWI281924B (en) * 2003-04-07 2007-06-01 Hitachi Chemical Co Ltd Epoxy resin molding material for sealing use and semiconductor device
CN1621479A (zh) * 2003-11-26 2005-06-01 江苏中电华威电子股份有限公司 一种半导体封装用环氧树脂组合物及其制备方法
US7675185B2 (en) * 2003-12-11 2010-03-09 Hitachi Chemical Co., Ltd. Epoxy resin molding material for sealing and electronic component
CN1301296C (zh) * 2004-06-14 2007-02-21 江苏中电华威电子股份有限公司 一种环氧树脂组合物
MY148463A (en) 2004-07-29 2013-04-30 Sumitomo Bakelite Co Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2006176555A (ja) * 2004-12-21 2006-07-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
CN100335541C (zh) * 2005-04-15 2007-09-05 江苏中电华威电子股份有限公司 一种用于半导体封装的环氧树脂组合物的制备方法
JP5124808B2 (ja) 2005-08-05 2013-01-23 信越化学工業株式会社 エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
CN101851386B (zh) * 2009-04-01 2012-09-05 汉高华威电子有限公司 一种环氧树脂组合物

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000159981A (ja) * 1998-11-30 2000-06-13 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置
JP2007092083A (ja) * 2000-12-28 2007-04-12 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂成形材料及び半導体装置
JP2006188622A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2006278530A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd ソルダーレジスト用熱硬化性樹脂組成物およびソルダーレジスト
JP2008156403A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Matsushita Electric Works Ltd 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2008195835A (ja) * 2007-02-14 2008-08-28 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd エポキシ樹脂ワニスの製造法、プリプレグの製造法、積層板および配線板の製造法
JP2008239983A (ja) * 2007-02-28 2008-10-09 Hitachi Chem Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20120077904A1 (en) 2012-03-29
CN102365329A (zh) 2012-02-29
WO2010111921A1 (zh) 2010-10-07
JP5599862B2 (ja) 2014-10-01
CN101851386A (zh) 2010-10-06
KR20120000077A (ko) 2012-01-03
CN101851386B (zh) 2012-09-05
US20130109786A1 (en) 2013-05-02
US8362115B2 (en) 2013-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5599862B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
TWI478969B (zh) 環氧樹脂組成物及半導體裝置
TWI388620B (zh) 半導體密封用環氧樹脂組成物及半導體裝置
JP2012522848A5 (ja)
CN111153631A (zh) 一种高导热高可靠性环氧树脂组合物及其应用
WO2011088950A1 (en) Epoxy resin composition and surface mounting device coated with said composition
KR930003800B1 (ko) 에폭시 수지 조성물로 구성된 반도체 장치 봉지용 재료
CN103665775A (zh) 一种硅微粉高填充的环氧模塑料及其制备方法
JP2012067252A (ja) 封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置
TW201305235A (zh) 電子零件封裝用環氧樹脂組合物及使用其之電子零件裝置
KR101865417B1 (ko) 반도체 밀봉용 에폭시 수지 조성물, 및 이를 사용한 반도체 장치
JP3573651B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
CN1301296C (zh) 一种环氧树脂组合物
CN101974206A (zh) 环氧树脂组合物
CN101967266A (zh) 无卤阻燃环氧树脂组合物
JP4691886B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
CN111117158A (zh) 一种低成本低应力环氧组合物及其制备方法
JP3980701B2 (ja) 半導体封止用樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置
KR101758448B1 (ko) 반도체 소자 밀봉용 에폭시수지 조성물 및 이를 사용하여 밀봉된 반도체 소자
KR101127933B1 (ko) 밀착성 및 금형 오염 방지능이 우수한 환경친화적 반도체 소자 봉지용 에폭시 수지 조성물
JP4513136B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
CN112143177A (zh) 一种环氧模塑料及其制备方法和应用
JP5673613B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
KR100947144B1 (ko) 저흡습 반도체소자 봉지용 에폭시 수지 조성물
KR20210115595A (ko) 에폭시 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130319

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130319

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130814

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130820

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140715

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140813

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5599862

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees