JP2012234938A - 低温用熱伝達材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】77K以下の低温かつ磁束密度1T以上の磁場中で用いる熱伝達材であって、純度が99.999質量%以上であり、かつ鉄の含有量が1質量ppm以下であるアルミニウムを含んで成ることを特徴とする熱伝達材である。
【選択図】図2
Description
装置)あるいはリニアモーターカー等、多くの分野で超電導磁石が用いられている。液体ヘリウムを用いてその沸点4.2K(ケルビン)に冷却された低温超電導コイルや、冷凍機で20K程度に冷却された高温超電導コイルが超電導磁石として使われている。
これら超伝導コイルを効率的にかつ均一に冷却するには、液体窒素の沸点77K以下の低温、特に20K以下の極低温において熱伝導率の高い熱伝達材が必要である。
さらに、アルミニウム以外にも純度99.99質量%以上(4N)の無酸素銅等の銅を用いた熱伝達材が知られている。
銅は顕著な磁気抵抗効果を有し、低温では磁場中で電気抵抗が著しく増大することが知られており、また、アルミニウムも銅ほどではないが、大きな磁気抵抗効果を有し、低温では磁場中で電気抵抗が著しく増大することが知られている。
この結果、強磁場下で用いる熱伝達材の熱伝導特性が低下することに伴い、超電導コイルの冷却効率が低下するという問題があった。
本願発明者らは、純度を99.999質量%以上かつ鉄の含有量が1質量ppmのアルミニウムは磁束密度1T以上の磁場が印加されても磁気抵抗効果が顕著には出現せず、従って熱伝導率導の低下が抑制されることを初めて見出し、本願発明に至ったものである。
このため、磁束密度1T以上の磁場中でも用いる熱伝達材に純度が99.999質量%以上でありかつ鉄の含有量が1質量ppm以下であるアルミニウムが用いられることがなかったと考えられる。
なお、詳細は後述の実施例で述べるが、熱伝達材として一般的に用いられる銅については、5Nあるいは6N以上の高純度材であっても強磁場中では顕著な導電性の低下が認められることから、高純度にすることで強磁場中でも高い導電性を維持するという本願発明者が見出した現象は、アルミニウムに特有のものである。
これは、詳細を後述するように、強磁性元素である鉄の量を制御することにより、確実に磁気抵抗効果を抑制し、強磁場中での(強磁場が印加されたことによる)熱伝導率の低下を確実に抑制できるからである。
κ=1/(6.41×10−8×T2.4+0.685/RRR/T) (2)
ここで、κ:熱伝導率(W/m/K)、T:温度(K)、RRR:残留抵抗比
RRR=ρ297K/ρT (3)
ここで、ρ297K:温度297Kでの比抵抗(nΩcm)、ρT:温度T(K)での比抵抗(nΩcm)
従って、(1)〜(3)式より、銅およびアルミニウムは導電性が向上するほど(比抵抗が小さくなるほど)熱伝導率が大きくなることが判る。
(1)不純物レベル
上述のように本願に係る熱伝達材は、純度が99.999質量%以上でかつ鉄の含有量が1質量ppm以下であるアルミニウムを含んで成ることを特徴としている。純度は好ましくは99.9999質量%以上であり、より好ましくは99.99998質量%以上(以下、「6N8」という場合がある)である。純度が高いほど、強磁場下において導電性の低下が少ないからである。さらに、99.9999質量%以上の純度では、磁場を印加しない場合よりも1T以上の強磁場中の方が、比抵抗が小さくなる場合があるからである。
より確実に強磁場中での導電性の低下を抑制できるからである。
鉄を1質量ppm以下にすることにより、強磁場中での導電性の低下を抑制できるメカニズムについては、未だ不明な点も多いが、現時点で推測可能なメカニズムは、鉄が強磁性元素であるために強磁場の影響を受けやすく、この結果、1質量ppmを超えて存在すると導電性に与える影響が大きくなり、強磁場下での導電性を低下させるおそれがあるためであり、0.1ppmでは強磁性体であることによる影響をほぼ完全に排除できるためであると推定される。ただし、この推定されるメカニズムは本願発明の技術的範囲を制約するものではない。
これらの元素の含有量は、例えばグロー放電質量分析法により求めることができる。
このような高純度のアルミニウムは、任意の精製(精錬)方法を用いて得てよい。以下に、本願発明に係る高純度アルミニウムを得るための精製方法をいくつか例示する。ただし、これらの方法に限定されるものではないことはいうまでもない。
高純度のアルミニウムを得る方法の1つとして、Al−Cu合金層に市販の比較的純度の低いアルミニウム(例えば純度99.9%のJIS−H2102の特1種程度のグレード)を投入し、溶融状態で陽極とし、その上に例えばフッ化アルミニウムおよびフッ化バリウム等を含む電解浴を配置し、陰極に高純度のアルミニウムを析出させる三層電解法を用いることができる。
三層電解法では主に純度99.999質量%以上の純度のアルミニウムを得ることができる。またアルミニウム中の鉄の含有量を比較的容易に1質量ppm以下に抑制することができる。
例えば三層凝固法により得た高純度アルミニウムの純度をさらに高めるために一方向凝固法を用いることができる。
一方向凝固法によって、Feの含有量とTi、V、CrおよびZrの各含有量とを選択的に低減することができる。
は、繰り返し行うことが好ましい。
このように三層凝固法と一方向凝固法を組み合わせることにより純度99.9999質量%以上の純度のアルミニウムを得ることができる。また、アルミニウム中の鉄の含有量を比較的容易に1質量ppm以下、更には0.1質量ppm以下に抑制することができる。
さらに、純度の高い、例えば純度99.99998質量%以上のアルミニウムを得るのに帯溶融法を用いることができる。また帯溶融法を適切に用いるとアルミニウム中の鉄の含有量をより確実に、1質量ppm以下、更には0.1質量ppm以下に抑制することができる。
とりわけ、本願発明者らが発明した帯溶融法によるアルミニウムの精製方法(特願2010−064544に記載の方法)を用いることが効果的である。
前処理として、例えば酸処理、電解研磨などが挙げられる。
接触するアルミニウム原料の端部同士が帯溶融時に接合し、長い一本のアルミウム材を得ることができるからである。
繰り返し数(パス数)は通常1以上20以下である。パス数をこれ以上多くしても、精製効果の向上は限定的である。
また、長手方向に複数のアルミニウム原料を互いに接触させて配置した場合、パス数が3より少ないと接合後の精製材(アルミニウム材)の形状(特に高さ寸法)が不均一となって、精製中に溶融幅が変動して均一な精製効果が得られにくい場合があるからである。
上述の精製方法により得られた高純度アルミニウムの鋳塊は、各種の方法を用いて所望の形状に成形される。
以下に成形方法を例示する。なお成形方法はこれらに限定されるものではない。
例えば、得ようとする熱伝達材が板材や線材である場合に圧延は効果的な成形方法である。
圧延加工は、例えば、鋳塊を一対のロールの間に挟み込むことにより圧力を加えながら、これらロール間に鋳塊を通過させる方法など、通常の方法を採用して行えばよい。圧延加工を行う際の具体的な手法や条件(処理温度、処理時間、加工率など)は、特に制限されるものではなく、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設定すればよい。
0.1mmより薄いと断面積が小さくなり熱伝達材としての十分な伝導特性を有しにくくなる場合がある。また3mmより厚いと可撓性を利用して変形させることが難しくなる場合がある。厚さ0.1mm〜3mmの場合に可撓性を利用して曲面状の容器側面に配置できるなど、取り扱いが容易であるという利点を有する。
なお、言うまでもないが圧延加工により得ることができる形状は、板や線材(ワイヤー)に限定されるものではなく、例えばパイプやH型形状も圧延により得ることができる。
また、圧延以外の成形方法として、引き抜き(伸線)または押出しを行ってもよい。引き抜きまたは押出しにより得る形状は限定されないが、例えば断面が円形のワイヤーを得るのに引き抜きまたは押出しは適している。
なお、得られるワイヤーの断面は円形に限定されるものではなく、例えば、楕円、方形等の異形断面を有していてもよい。
(4)焼鈍
さらに、上記圧延加工等の成形方法により得られた本発明の成形品は必要に応じて焼鈍処理を施してもよい。焼鈍処理を施すことにより、通常、鋳塊から被成形材を切り出す際や成形加工の際に生じることがある歪みを除去することができる。
焼鈍処理の条件は特に制限されないが、400〜600℃で1時間以上保持する方法が好ましい。
温度が400℃より低いと鋳塊に含まれる歪(転位)が十分に低減されない。そして、歪(転位)は電気抵抗を高める要因となるため、優れた導電特性を発揮できない場合があるからである。熱処理温度が600℃より高いと、不純物、特に鉄のマトリックスへの固溶が進行する。固溶した鉄は電気抵抗を高める効果が大きいため、導電特性が低下する場合
がある。
この温度範囲であれば、充分に歪を除去できるとともに、鉄がマトリクスに固溶することなく、アルミニウムとの金属間化合物として存在するからである。
鉄とアルミニウムの金属間化合物としては、Al6Fe、Al3FeおよびAlmFe(m〜4.5)等の複数の種類が知られている。そして、この温度範囲(430〜550℃)で焼鈍後の高純度アルミニウム材に存在する鉄とアルミニウムの金属間化合物の過半(例えば体積比で50%以上、好ましくは70%以上)がAl3Feであると考えられる。
このAl3Feは、析出物として存在していても、ほとんど導電性に悪影響を与えることがないという利点を有する。
Al3Feの存在及びその体積比は、化学溶媒による基体溶解およびろ過収集を行い、ろ過収集された残渣を分析電子顕微鏡(分析TEM)で観察および分析することにより確認および測定することができる。
また、本願発明に係る熱伝達材は、超電導磁石を冷却する熱伝達材を具体的用途として例示したが、これに限定されものではなく、例えば、NMRで測定する試料を冷却するための熱伝達材等の低温下(77K以下)でかつ強磁場(1T以上)下で用いられる各種用途の熱伝達材として用いることができる。
また、比較例として純度が4Nレベルのアルミニウムである比較例1(4N−Al)および、純度が3Nレベルのアルミニウムである比較例2(3N−Al)を以下に示す。比較例1および2の比抵抗は計算により求めた。
最初に実施例1〜3に用いた高純度アルミニウム材の作製方法を以下に示す。
・実施例1
純度99.92質量%の市販のアルミニウムを三層電解法により精製して、純度99.999質量%以上で鉄含有量が1質量ppm以下の高純度アルミニウムを得た。
詳しくは、Al−Cu合金層に99.92質量%の市販のアルミニウムを投入し、電解浴の組成を41%AlF3−35%BaF2−14%CaF2−10%NaFとして、760℃で電気を流し、陰極側に析出した高純度アルミニウムを採取した。
この高純度アルミニウム中の各元素含有量について、グロー放電質量分析法(サーモエレクトロン社製「VG9000」を使用)にて分析したところ、表1に示す通りであった。
上記三層溶解法で得られた高純度アルミニウムを一方向凝固法により精製して、純度99.9999質量%以上で鉄含有量が0.1ppm以下の高純度アルミニウムを得た。
詳しくは、ルツボ(内寸法:幅65mm×長さ400mm×高さ35mm)の中に2kgの三層溶解法で得た高純度アルミニウムを入れ、これを、炉体移動式管状炉の炉心管(石英製、内径100mm×長さ1000mm)の内部に収容し、1×10−2Paの真空雰囲気にて炉体(ルツボ)を700℃に温度制御して、高純度アルミニウムを溶解させた後、炉体を30mm/時の速度で炉心管から引き抜くことにより端部から一方向に凝固させた。そして、長さ方向において凝固開始端より50mmの位置から凝固開始端より150mmの位置までを切り出し、幅65mm×長さ100mm×厚さ30mmの塊状の超高純度アルミニウムを得た。
この超高純度アルミニウム中の各元素含有量について、上記と同様、グロー放電質量分
析法にて分析したところ、表1に示す通りであった。
次に以下に示す帯溶融法により、純度99.99998質量%以上で鉄含有量が0.1ppm以下の高純度アルミニウムを得た。
上記の一方向凝固法で得られた6Nアルミニウム塊から、約18mm×18mm×100mmの四角柱あるいは類似形状に切削加工で切出し、純水で希釈した20%塩酸水溶液で3時間酸洗浄したアルミニウム原料を得た。
帯溶融精製装置の真空チャンバ(外径50mm、内径46mm、長さ1400mmの石英管)内部に、グラファイトボートを配置した。グラファイトボートの原料配置部には、住友化学株式会社製の高純度アルミナ粉末AKPシリーズ(純度99.99%)を押圧しながら塗布してアルミナ層を形成した。
ベーキングは10−5〜10−7Paの真空中で、帯溶融に用いる高周波加熱コイル(加熱コイル巻数3、内径70mm、周波数約100kHz)にて加熱し、100mm/時間の速度でボートの一端から他端まで移動して、グラファイトボート全体を順に加熱して行った。
溶融部の溶融幅が約70mmとなるように高周波電源(周波数100kHz、最大出力5kW)の出力を調整した。そして高周波コイルを毎時100mmの速度で移動させ、溶融部を約900mm移動させた。このときのチャンバ内の圧力は5×10−6〜9×10−6Paであった。溶融部の温度を放射温度計にて測定した結果、660℃〜800℃であった。
そして、高周波コイルを溶融開始位置(最初に溶融部を形成した位置)まで移動させ、チャンバ内を真空に維持したまま、溶融開始位置で再度アルミニウム原料を加熱溶融させて溶融部を形成した。この溶融部を移動させて帯溶融精製を繰り返した。溶融幅約70mm、溶融部の移動速度毎時100mmでの帯溶融精製を、合計3回(3パス)行った時点で、溶融開始部から終了部まで形状がほぼ均一となり、それ以降(以下に示す7パスの間)は均一な形状を維持した。
合計10パス終了後にチャンバを大気開放し、アルミニウムを取り出し、長さ約950mmの精製アルミニウム材を得た。
さらに、比較例3のサンプルとして市販の5Nレベルの高純度銅(NewMet Koch社製99.999%Cu、0.5φ)を石英治具に固定し、有機溶剤洗浄し、真空中にて500℃で3時間保持した後炉冷したものを比抵抗測定用のサンプルとした。
・比抵抗の測定
実施例1〜3および比較例3のサンプルについては比抵抗を実際に測定した。
測定は、得られた上記のサンプルを液体ヘリウム(4.2K)中に浸漬した後、サンプルに印加する磁場を磁束密度0T(磁場を印加せず)〜15Tまで変化させて、4端子法で測定した。
磁場はサンプルの長手方向に平行な方向に印加した。
表1に示す組成を有する比較例1および比較例2については、文献:R.J.Corruccini, NBS Technical Note,218(1964)に記載の以下の(4)式を用いて計算した。(4)式では、ΔρHが磁場中での比抵抗の増加量である。ρRTは磁場が印加されないときの室温での比抵抗であり、3N以上の高純度Alではほぼ一定値として扱えるため2753nΩcmとした。ρは磁場が印加されないときの4.2Kでの比抵抗であり、純度により大きく変化するので、今回4N−Alでは9.42nΩcm(RRR=285)、3N−Alでは117nΩcm(RRR=23)の実験値を用いた。これらの式は磁場がサンプルの長手方向に垂直な場合に得られた式であるが、平行な場合の同様の式が得られていないため、今回比較のために使用した。RRRは残留抵抗比とも呼ばれ、297Kでの比抵抗とヘリウム温度(4.2K)での比抵抗の比である。
比較例4〜6については、その比抵抗を文献:Fujiwara S. et.al.,Int. Conf. Process. Mater. Prop., 1st (1993),909-912.より得た。なお、これらの文献値では、磁場の印可方向とサンプルの長手方向の関係は記載されていない。
このようにして導出した実施例1〜3および比較例1〜6の比抵抗を表2に示す。
実施例1(5Nレベル)では、15Tの比抵抗は、磁場のない場合に比べ約1.5倍と比較例2と比べ明らかに増加が小さい。
実施例2(6Nレベル)では、磁場のない場合と比べ、15Tでもその比抵抗の増加は10%以内と非常に小さくなっている。また、磁束密度が1〜12Tの範囲では、その比抵抗の値は、磁場を印加しない場合より小さくなっており磁気抵抗抑制効果が顕著に表れている。
実施例3(6N8レベル)に至っては1〜15Tのいずれの磁束密度においても比抵抗が磁場のない場合より低くなっており磁気抵抗抑制効果が極めて顕著に表れている。
実施例サンプルが極めて顕著な効果を示すことから、縦軸の導電性指数は対数で示した。
表2の結果と上述の(3)式より残留抵抗比RRRを算出した結果を表3に示す。(3)式のρTは表2の値(すなわち4.2Kでの比抵抗)を用いた。ρ297Kは、上述したように銅およびアルミニウムでは、純度および外部から印加される磁場の影響をほとんど受けず、概ね一定であり、高純度金属では一定値として扱えることからアルミニウムのρ297Kとして2753nΩcm、銅のρ297Kとして1500nΩcmを用いた。
図2は熱伝導率と印加した磁場(磁束密度)との関係を示すグラフである。
図2から、従来のアルミニウム製(4Nレベル)の熱伝達材に相当する比較例2および高純度(6N)銅製の熱伝達材に相当する比較例6を含め、全ての比較例で強磁場の強度が高くなると熱伝導率が低下している。磁束密度15Tでは、比較例の中で最も高い熱伝導率を示す比較例3でも1238W/m/Kに留まっている。
実施例1では、1Tで熱伝導率が低下した後は15Tまで安定しており、15Tでも9500W/m/K程度と高い熱伝導率を示している。
実施例2では、1T〜12Tまで、熱伝導率が磁場を印加しないときより高くなっており、15Tでも25000W/m/K程度と高い熱伝導率を示している。
実施例3では、1T〜15Tまで、熱伝導率が磁場を印加しないときより高くなっており、15Tでの熱伝導率は33000W/m/K程度と非常に高い値となっている。
より詳細には、幅wが100mm、長さLが400mm、厚さ0.5mmのシート状の熱伝達材の一端を冷凍機に接続し、他端に2Wの入熱Qを与えた時に、400mm離れた両端間で生ずる温度差を計算した。
より詳細には、幅wが100mm、長さLが400mm、厚さ0.5mmのシート状の熱伝達材の一端を、約4Kに冷却された冷凍機の冷却ステージに接続し、400mm離れた他端に2Wの入熱Qを与えた時に、両端間で生ずる温度差を計算した。
両端間の温度差ΔTは、(5)式により求めた。
ここで、Q:入熱(W)、L:シート状サンプルの長さ(mm)、w:シート状サンプルの幅(mm)、t:シート状サンプルの厚さ(mm)、λ:熱伝導率(W/m/K)
実施例1〜3は、ほとんど温度差が無く、15Tにおいても、実施例1がΔT=1.7Kであり、実施例2がΔT=0.6Kであり、実施例3では0.5Kである。
しかもこれらの値は熱伝導率λの温度変化を考慮しておらず、これを考慮すると比較例ではΔTがさらに大きくなる。
Claims (5)
- 77K以下の低温かつ磁束密度1T以上の磁場中で用いる熱伝達材であって、純度が99.999質量%以上であり、かつ鉄の含有量が1質量ppm以下であるアルミニウムを含んで成ることを特徴とする熱伝達材。
- 前記アルミニウムの純度が99.9999質量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の熱伝達材。
- 前記アルミニウムの純度が99.99998質量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の熱伝達材。
- 前記アルミニウムが金属間化合物Al3Feを含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱伝達材。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱伝達材を用いた超電導磁石冷却用熱伝達材。
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