JP2010232432A - 磁場発生装置及びその利用方法 - Google Patents
磁場発生装置及びその利用方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010232432A JP2010232432A JP2009078516A JP2009078516A JP2010232432A JP 2010232432 A JP2010232432 A JP 2010232432A JP 2009078516 A JP2009078516 A JP 2009078516A JP 2009078516 A JP2009078516 A JP 2009078516A JP 2010232432 A JP2010232432 A JP 2010232432A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- coil
- main coil
- shield
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A90/00—Technologies having an indirect contribution to adaptation to climate change
- Y02A90/30—Assessment of water resources
Landscapes
- Regulation Of General Use Transformers (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
【解決手段】磁場発生装置1は、メインコイル5と、メインコイル5の径方向外側に、メインコイル5と同心に配置されたシールドコイル6と、メインコイル5の内部に設けられた中央パイプ21と、メインコイル5及びシールドコイル6の間に設けられた複数の周辺パイプ7と、を有する。シールドコイル6の径方向外側に生じた、メインコイル5の磁場は、当該磁場とは反対向きの、シールドコイル6の磁場によって弱められる。そして、中央パイプ21を用いて、水がメインコイル5の内部に配置され、複数の周辺パイプ7を用いて、水がメインコイル5及びシールドコイル6の間に配置される。
【選択図】図1
Description
また、メインコイル内部の強磁場領域(中央領域)の磁場を利用しつつ、メインコイル外部の弱い磁場も利用できる。そのため、メインコイル及びシールドコイルの間の領域(周辺領域)に生じた磁場を有効に利用できる。
第1配置手段は、上記の例のようなものには限られず、磁場利用対象物を、中央領域(メインコイルの内部領域)の適当な位置に設置できるもの、または適当な位置に案内できるものであればよい。
また、第2配置手段は、上記の例のようなものには限られず、磁場利用対象物を、周辺領域(メインコイル及びシールドコイルの間の領域)の適当な位置に設置できるもの、または適当な位置に案内できるものであればよい。
また、第2配置手段による磁場利用対象物の「配置」とは、(i)磁場利用対象物を、周辺領域(メインコイル及びシールドの間の領域)に設置すること、及び、(ii)流体としての磁場利用対象物が周辺領域を通過するように、流路を制限して流体(磁場利用対象物)を流すことをいう。
メインコイル及びシールドコイルの間の領域(周辺領域)における磁束密度の大きさは、中央領域に比べると小さい。しかし、本構成によると、水が磁界中を繰り返し通過できるため、累積的に、磁気処理の効果が十分に得られる。
また、メインコイル内部の強磁場領域の磁場を利用しつつ、メインコイル外部の弱い磁場も利用できる。そのため、メインコイル及びシールドコイルの間の領域に生じた磁場を有効に利用できる。
以下、本発明の第1実施形態について、図1及び図2を用いて説明する。なお、以下の説明における「上下左右」は、図中における上下左右であるとする。また、図2は、図1の破線部Aの断面斜視図に相当する。
まず、磁場発生装置1の全体構成について説明する。磁場発生装置1は、アクティブシールド方式によって漏れ磁場を低減するものである。磁場発生装置1は、真空容器2、シールド容器3、中央パイプ21、六本の周辺パイプ7、メインコイル5、シールドコイル6、及び冷凍機31を有している。そして、磁場発生装置1においては、密閉容器内に超電導電磁石が配置されている。
磁場発生装置1においては、伝導冷却方式によって、超電導コイルが冷却される。冷凍機31は、GM冷凍機(ギフォード・マクマホン冷凍機)であり、冷凍機31には、図示しない圧縮機が接続されている。冷凍機31は、モーター、及び、シリンダ(第1シリンダ32f、第2シリンダ32s)を有している。シリンダ内部には、往復動作をするディスプレーサ(図示せず)が収容されている。また、ディスプレーサの内部には、蓄冷材が収容されている。
真空容器2は、アルミニウム製の箱型容器である。真空容器2の上面には、電力供給用の入力端子2tが取り付けられている。真空容器の材料は、アルミニウム合金やステンレスなどの、非磁性金属であってもよい。また、真空容器は、円筒形状であってもよい。
シールド容器3もまた、アルミニウム製の箱型容器であり、シールド容器3は、真空容器2の内部に収容されている。なお、シールド容器3の内部及び外部は、真空状態(10−4Pa以下)に保たれる(内部及び外部において共通)。シールド容器の材料は、アルミニウム合金や、銅であってもよい。
メインコイル5及びシールドコイル6は、どちらも超電導コイルである。メインコイル5は、軸方向Z(図の矢印Z方向参照)が上下方向に一致するように配置されている。シールドコイル6の内径は、メインコイル5の外径よりも大きい。そして、シールドコイル6は、メインコイル5の径方向外側に配置されている。すなわち、シールドコイル6は、メインコイル5の径方向R(図の矢印R方向参照)に関して、メインコイル5の外側に配置されている。そのため、メインコイル5は、シールドコイル6の内部に配置されている。また、シールドコイル6は、メインコイル5と同心に配置されている。また、シールドコイル6の軸方向は、メインコイル5の軸方向Zと一致している。なお、径方向Rは、軸方向Zに対して垂直である。
中央パイプ(第1配置手段)21及び六本の周辺パイプ(パイプ;第2配置手段)7は、水の流路となるアルミニウム製のパイプである。これらのパイプは、軸方向Zに沿って延びるように、直線的に(真っ直ぐに)形成されている。また、これらのパイプは、断熱構造を有する。なお、中央パイプ及び周辺パイプの材料は、銅やステンレスであってもよい。
また、中央パイプ21により、メインコイル5の内部に水が流される。なお、水の流れる方向と、磁場の方向とが常に一致するようにパイプを連結して、水を流すことが望ましい。
また、伝熱板52にも複数の孔が形成されており、中央パイプ21及び六本の周辺パイプ7は、伝熱板52を貫通している。
次に、磁場発生装置1の動作について説明する。まず、冷凍機31により、シールド容器3及び伝熱板52が冷却される。具体的には、シールド容器3が第1ステージ31fによって冷却され、伝熱板52が第2ステージ31sによって冷却される。その結果、シールド容器3の温度が40K程度となり、メインコイル5及びシールドコイル6の温度が4K程度となる。
また、メインコイル5とシールドコイル6との間の領域(メインコイル5の外周面と支持体61の内周面に挟まれた筒状の領域;周辺領域)においては、比較的弱い磁場が得られ、ここでの磁束密度の大きさ(磁束密度の絶対値)は、中央領域の2割程度(約2T)となる。なお、この周辺領域における磁束密度(ベクトル量)の向きは、中央領域における磁束密度の向きとは逆向きになる。
また、シールドコイル6の作用により、シールドコイル6の外側(径方向Rに関して外側)においては、磁束密度は、ほぼ0Tとなる。
次に、磁場発生装置1の利用方法について説明する。まず、冷凍機31を起動させて、シールド容器3、メインコイル5及びシールドコイル6を冷却する(冷却工程)。
以上のようにして、磁場発生装置1を、磁気処理装置として用いることができる。
(1)本実施形態により得られる効果について説明する。磁場発生装置1は、アクティブシールド方式によって漏れ磁場を低減するものであって、超電導コイルから成るメインコイル5と、超電導コイルから成り、メインコイル5の径方向外側に、メインコイル5と同心に配置されたシールドコイル6と、メインコイル5の内部に設けられた中央パイプ(第1配置手段)21と、メインコイル5及びシールドコイル6の間に設けられた複数の周辺パイプ(第2配置手段)7と、を有する。シールドコイル6の径方向外側に生じた、メインコイル5の磁場は、当該磁場とは反対向きの、シールドコイル6の磁場によって弱められる。中央パイプ21を用いて、水(磁場利用対象物)が、メインコイル5の内部に配置され、複数の周辺パイプ7を用いて、水(磁場利用対象物)が、メインコイル5及びシールドコイル6の間に配置される。
また、メインコイル5の内部の強磁場領域(中央領域)の磁場を利用しつつ、メインコイル5の外部の弱い磁場も利用できる。そのため、メインコイル5及びシールドコイル6の間の領域(周辺領域)に生じた磁場を有効に利用できる。
メインコイル5及びシールドコイル6の間の領域(周辺領域)における磁束密度の大きさは、中央領域に比べると小さい。しかし、本構成によると、水が磁界中を繰り返し通過できるため、累積的に、磁気処理の効果が十分に得られる。
また、メインコイル5の内部の強磁場領域の磁場を利用しつつ、メインコイル5の外部の弱い磁場も利用できる。そのため、メインコイル5及びシールドコイル6の間の領域に生じた磁場を有効に利用できる。
次に、磁場発生装置1の実施例について、図3及び図4を用いて説明する。図3は、実施例に係る磁束密度を示すグラフである。図4は、実施例に係る磁束密度分布を示す分布図である。
メインコイル5の内径:125 mm
メインコイル5の外径:250 mm
メインコイル5の高さ:240 mm
シールドコイル6の内径:480 mm
シールドコイル6の外径:510 mm
シールドコイル6の高さ:240 mm
クライオ上端面(真空容器2の上端)から、メインコイル5の中心までの距離(図1のL1):234 mm
メインコイルの中心軸から、各周辺パイプ7の中心軸までの距離:180 mm
中央パイプ21の内径:100 mm
中央パイプ21の高さ:468 mm
周辺パイプ7の内径:100 mm
周辺パイプ7の高さ:468 mm
シールド容器3の温度:40 K
メインコイル5及びシールドコイル6の温度:4 K
以下、計算結果について説明する。図3及び図4は、上記の条件下で、磁場発生装置1の磁束密度を測定した結果を示している。なお、図3は、メインコイル5の中央位置(軸方向Zに関する中央位置)での測定結果を示している。
∫B dV= ∫B dzdS[T・m3]
中央パイプ21: 2.22×106 [T・m3]
周辺パイプ7(一本) :5.34×105 [T・m3]
六本の周辺パイプ7の合計:3.20×106 [T・m3]
次に、本発明の第2実施形態について、図5を用いて説明する。なお、上記の実施形態と同様の部分については、図に同一の符号を付してその説明を省略する。図5は、第2実施形態に係る磁場発生装置の断面概略図である。以下、上記の実施形態とは異なる部分を中心に説明し、上記の実施形態と同様の事項については、その説明を省略する。なお、符号101、102、103、152を付した部分は、上記の実施形態の図において、符号1、2、3、52を付した部分に相当する。
次に、本発明の第3実施形態について、図6を用いて説明する。なお、上記の実施形態と同様の部分については、図に同一の符号を付してその説明を省略する。図6は、第3実施形態に係る磁場発生装置の断面概略図である。以下、上記の実施形態とは異なる部分を中心に説明し、第1実施形態と同様の事項については、その説明を省略する。なお、符号201、202、203、207、252を付した部分は、上記の第1実施形態の図において、符号1、2、3、7、52を付した部分に相当する。
本発明の実施の形態は、上記の実施形態には限られない。例えば、周辺パイプ7の数は一本のみであってもよい。また、パイプ(中央パイプ21及び周辺パイプ7)の断面形状は円形には限られない。
2 真空容器
2t 入力端子
21 中央パイプ
3 シールド容器
31 冷凍機
31f 第1ステージ
31s 第2ステージ
32f 第1シリンダ
32s 第2シリンダ
33 伝熱体
34 熱スイッチ
35 酸化物超電導体
5 メインコイル
51 支持体
6 シールドコイル
61 支持体
7 周辺パイプ(配置手段、パイプ)
Claims (5)
- アクティブシールド方式によって漏れ磁場を低減する磁場発生装置であって、
超電導コイルから成るメインコイルと、
超電導コイルから成り、前記メインコイルの径方向外側に、前記メインコイルと同心に配置されたシールドコイルと、
前記メインコイルの内部に設けられた第1配置手段と、
前記メインコイル及び前記シールドコイルの間に設けられた第2配置手段と、を有し、
前記第1配置手段を用いて、磁場利用対象物が、前記メインコイルの内部に配置され、
前記第2配置手段を用いて、磁場利用対象物が、前記メインコイル及び前記シールドコイルの間に配置されることを特徴とする磁場発生装置。 - 前記第2配置手段は、液体の流路となるパイプであることを特徴とする、請求項1に記載の磁場発生装置。
- 前記第2配置手段は、液体の流路となる、直線的に形成された複数のパイプであり、
前記複数のパイプは、前記メインコイルの軸方向に沿って配置されており、且つ、端部において互いに連結されて、連続した流路を構成していることを特徴とする、請求項1に記載の磁場発生装置。 - アクティブシールド方式によって漏れ磁場を低減する磁場発生装置の利用方法であって、
前記磁場発生装置は、(a)超電導コイルから成るメインコイルと、(b)超電導コイルから成り、前記メインコイルの径方向外側に、前記メインコイルと同心に配置されたシールドコイルと、を有し、
前記メインコイルの内部に磁場利用対象物を配置する、第1配置工程と、
前記メインコイル及び前記シールドコイルの間に磁場利用対象物を配置する、第2配置工程を備えることを特徴とする、磁場発生装置の利用方法。 - 前記第2配置工程において、前記磁場利用対象物としての水を、前記メインコイル及び前記シールドコイルの間に流すことを特徴とする、請求項4に記載の磁場発生装置の利用方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009078516A JP2010232432A (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 磁場発生装置及びその利用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009078516A JP2010232432A (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 磁場発生装置及びその利用方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010232432A true JP2010232432A (ja) | 2010-10-14 |
Family
ID=43047979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009078516A Pending JP2010232432A (ja) | 2009-03-27 | 2009-03-27 | 磁場発生装置及びその利用方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010232432A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012234939A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | High Energy Accelerator Research Organization | 超電導磁石用磁気遮蔽材 |
JP2012234938A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | High Energy Accelerator Research Organization | 低温用熱伝達材 |
CN105858829A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-08-17 | 洛阳中的电子科技有限公司 | 液体磁化处理装置 |
JP2019106389A (ja) * | 2013-05-31 | 2019-06-27 | メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド | アクティブリターンシステム |
WO2022269308A1 (en) * | 2021-06-20 | 2022-12-29 | Fadaee Outan Alireza | Water treatment device based on magnetic fields application |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03229603A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-10-11 | Fuji Electric Co Ltd | 超電導形磁気分離装置 |
JP2001029775A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-06 | A & W:Kk | 循環式流体イオン化処理装置 |
JP2001121154A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-05-08 | Toshiba Corp | 下水処理システム |
-
2009
- 2009-03-27 JP JP2009078516A patent/JP2010232432A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03229603A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-10-11 | Fuji Electric Co Ltd | 超電導形磁気分離装置 |
JP2001029775A (ja) * | 1999-07-26 | 2001-02-06 | A & W:Kk | 循環式流体イオン化処理装置 |
JP2001121154A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-05-08 | Toshiba Corp | 下水処理システム |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012234939A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | High Energy Accelerator Research Organization | 超電導磁石用磁気遮蔽材 |
JP2012234938A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | High Energy Accelerator Research Organization | 低温用熱伝達材 |
US9103005B2 (en) | 2011-04-28 | 2015-08-11 | Inter-University Research Institute Corporation High Energy Accelerator Research Organization | Magnetic shielding material for superconducting magnet |
JP2019106389A (ja) * | 2013-05-31 | 2019-06-27 | メビオン・メディカル・システムズ・インコーポレーテッド | アクティブリターンシステム |
CN105858829A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-08-17 | 洛阳中的电子科技有限公司 | 液体磁化处理装置 |
WO2022269308A1 (en) * | 2021-06-20 | 2022-12-29 | Fadaee Outan Alireza | Water treatment device based on magnetic fields application |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8162037B2 (en) | Device for generating a pulsed magnetic field | |
CN100508881C (zh) | 传导冷却式被动屏蔽mri磁铁 | |
CN101894652B (zh) | 超导磁体 | |
US7053740B1 (en) | Low field loss cold mass structure for superconducting magnets | |
JP2010232432A (ja) | 磁場発生装置及びその利用方法 | |
JP2005217392A (ja) | 超伝導磁石用の低渦電流極低温剤回路 | |
CN102866370B (zh) | 超导磁体装置及磁共振成像系统 | |
CN106898452A (zh) | 可容易地接近的深度冷冻的nmr匀场装置 | |
US6323749B1 (en) | MRI with superconducting coil | |
JP5172817B2 (ja) | 水の物理処理用磁場発生装置 | |
US10041720B2 (en) | Cooling arrangement for a superconducting magnet structure for an MRI system | |
CN211698154U (zh) | 一种超导磁体结构及磁共振设备 | |
US10712077B2 (en) | Arrangement for cryogenic cooling | |
EP0460601B1 (en) | Superconducting magnet apparatus having circulating path for coolant | |
JP4886482B2 (ja) | 超電導磁石装置及び核磁気共鳴イメージング装置 | |
JP7208914B2 (ja) | 超電導磁石用のサーマルバス熱交換器 | |
JP2008028146A (ja) | 超電導磁石用熱シールド、超電導磁石装置および磁気共鳴イメージング装置 | |
JP2003159230A (ja) | 超電導磁石及びそれを用いた磁気共鳴イメージング装置 | |
US20150080222A1 (en) | Cryogen recondensing system and superconducting magnet apparatus including the same | |
JP4369774B2 (ja) | 超電導磁石装置を用いた磁気共鳴イメージング装置 | |
JP4095742B2 (ja) | 伝導冷却型超電導マグネット | |
JP7348410B1 (ja) | サイクロトロン用の超電導マグネットシステム及びそれを有するサイクロトロン | |
JP2005102951A (ja) | 超伝導磁石装置 | |
Choi et al. | Progress on the development of superconducting magnet system for cyclotron K120 | |
JP2014161427A (ja) | 超電導磁石装置及び磁気共鳴イメージング装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110901 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121029 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121214 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130115 |