JP2012221965A - 半導体記憶装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体記憶装置1は、半導体基板と、半導体基板の表面に配置された複数のセルトランジスタT1−1〜9及びT2−1〜9と、それぞれセルトランジスタT1−1〜9及びT2−1〜9に対応し、これらが配置された半導体基板の表面内の領域Cと平面的に見て重複する領域に設けられる複数のセルキャパシタC1−1〜9及びC2−1〜9とを備え、セルキャパシタC1−1〜9及びC2−1〜9は、平面的に見て互いに重複する領域に形成される。
【選択図】図4
Description
2 シリコン基板
3 素子分離領域
4,5 層間絶縁膜
6,7 不純物拡散層
8 ゲート絶縁膜
10 積層構造体
11 下部電極
12 上部電極
12a 上部電極の垂直部分
12b 上部電極の水平部分
13 容量絶縁膜
14 コンタクトプラグ
15 絶縁膜
15a 開口部
21 容量コンタクトプラグ
22 ビット線コンタクトプラグ
30,32 絶縁膜
31 導電膜
33 第1のスルーホール
34,35 サイドウォール絶縁膜
36 シリコン窒化膜
37 レジスタ
38 第2のスルーホール
40 変質層
AR 活性領域
BL ビット線
C1,C2 セルキャパシタ
DWL ダミーワード線
T1,T2 セルトランジスタ
WL,WL1,WL2 ワード線
Claims (10)
- 半導体基板と、
前記半導体基板の表面に配置された複数のセルトランジスタと、
それぞれ前記複数のセルトランジスタに対応し、前記複数のセルトランジスタが配置された前記半導体基板の表面内の領域と平面的に見て重複する領域に設けられる複数のセルキャパシタとを備え、
前記複数のセルキャパシタは、平面的に見て互いに重複する領域に形成される
ことを特徴とする半導体記憶装置。 - 前記半導体基板の法線方向に積層される複数の下部電極と、
前記複数のセルキャパシタに共通な上部電極と、
前記複数の下部電極と前記上部電極の間に設けられる容量絶縁膜とを備え、
前記複数のセルキャパシタはそれぞれ、前記複数の下部電極のうちのひとつと、前記上部電極と、該下部電極と該上部電極との間に設けられる前記容量絶縁膜とによって構成される
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記上部電極は、前記法線方向と平行に延設される垂直部分と、それぞれ前記半導体基板の表面と平行に延設される複数の水平部分とを有し、
前記複数の下部電極と前記複数の水平部分とは、前記法線方向に交互に、前記容量絶縁膜を挟んで積層され、
前記複数の水平部分は、前記垂直部分を介して、互いに電気的に接続する
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。 - それぞれ前記複数の下部電極を貫いて前記法線方向に延設され、下端で前記複数のセルトランジスタのうちのひとつと電気的に接続する複数のコンタクトプラグと、
前記複数のコンタクトプラグそれぞれと前記複数の下部電極との間に設けられる絶縁膜とをさらに備え、
前記絶縁膜は、前記複数の下部電極の中から前記コンタクトプラグごとに選択される前記下部電極と、該コンタクトプラグとを電気的に接続するための開口部を有し、
前記選択される下部電極は、対応する前記コンタクトプラグが下端で電気的に接続する前記セルトランジスタに対応する前記セルキャパシタを構成する前記下部電極である
ことを特徴とする請求項2又は3に記載の半導体記憶装置。 - 複数のセルトランジスタと、
互いに絶縁された複数の下部電極層と、
容量絶縁膜を介して前記複数の下部電極層を覆う上部電極と、
前記複数のセルトランジスタをそれぞれ互いに異なる前記下部電極層に接続する複数のコンタクトプラグと
を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 - それぞれ前記複数のセルトランジスタに対応する複数のセルキャパシタを備え、
前記複数のセルキャパシタはそれぞれ、前記複数の下部電極層のうちのひとつと、前記上部電極と、該下部電極層と該上部電極との間に設けられる前記容量絶縁膜とによって構成される
ことを特徴とする請求項5に記載の半導体記憶装置。 - 平面内に並べて配置された複数のセルトランジスタを含むセルトランジスタ層を半導体基板上に形成する工程と、
前記セルトランジスタ層の上面に、複数の絶縁層と、それぞれ前記セルトランジスタに対応する複数の下部電極とが交互に積層した積層構造体を形成する工程と、
前記積層構造体に、前記セルトランジスタごとに、底面に該セルトランジスタが電気的に露出する複数の第1のスルーホールを形成する工程と、
前記複数の第1のスルーホールそれぞれの内壁に、前記複数の下部電極のうち前記第1のスルーホールごとに異なるひとつを露出させる開口部を有するサイドウォール絶縁膜を形成する工程と、
前記サイドウォール絶縁膜の形成後、前記複数の第1のスルーホール内に導電材料を埋め込むことにより、前記セルトランジスタごとに、前記下部電極のうちのひとつと該セルトランジスタとを電気的に接続する複数のコンタクトプラグを形成する工程と、
前記積層構造体に、第2のスルーホールを形成する工程と、
前記第2のスルーホールを介してエッチャントを導入することにより、前記絶縁層を除去する工程と、
前記第2のスルーホール内に露出した前記複数の導電層の表面に容量絶縁膜を形成する工程と、
前記第2のスルーホール内部と前記複数の下部電極の間の領域とを埋める上部電極を形成する工程と
を備えることを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。 - 前記第1のスルーホールを形成する工程では、前記開口部により露出される前記下部電極より上に位置する上側部分の直径をそれ以外の下側部分の直径より大きくすることで、前記第1のスルーホールの内壁に段差を形成し、
前記サイドウォール絶縁膜を形成する工程では、前記第1のスルーホールの内壁に絶縁膜を形成した後異方性エッチングを行って前記段差の上面を露出させることで、前記開口部を形成する
ことを特徴とする請求項7に記載の半導体記憶装置の製造方法。 - 前記積層構造体を形成する工程は、前記セルトランジスタごとに、対応する前記下部電極の上面に接する前記絶縁層のうち、平面的に見て該セルトランジスタと重複する領域に形成された部分にレーザーを照射する工程を含み、
前記第1のスルーホールを形成する工程では、前記レーザーの照射により変質した前記絶縁層及び前記下部電極の少なくとも一方をストッパとするエッチングにより前記上側部分を形成し、該上側部分の内壁にサイドウォール絶縁膜を形成した後該上側部分の底面をさらにエッチングすることで、前記下側部分を形成する
ことを特徴とする請求項8に記載の半導体記憶装置の製造方法。 - 前記複数の下部電極はそれぞれ、前記第2のスルーホールにより互いに絶縁された複数の部分に分離される
ことを特徴とする請求項7乃至9のいずれか一項に記載の半導体記憶装置の製造方法。
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