JP2012195064A5 - - Google Patents

Description

［１］本発明の光源装置は、複数の固体光源と、前記複数の固体光源からの光をそれぞれ略平行化する複数のコリメーターレンズと、前記複数のコリメーターレンズからの光を集光する集光光学系と、前記集光光学系からの光のうち、少なくとも一部から蛍光を生成する蛍光層とを備える光源装置であって、前記複数のコリメーターレンズから前記蛍光層までの光路中に、少なくとも１つのアナモフィック面を備え、前記複数の固体光源は、前記複数のコリメーターレンズの焦点位置とは、光軸方向に異なる位置に配置されていることを特徴とする。

［２］本発明の光源装置においては、前記集光光学系は第１の集光レンズを備え、前記第１の集光レンズの射出面又は入射面のうち少なくとも一面はアナモフィック面からなることが好ましい。

［３］本発明の光源装置においては、前記集光光学系は、１枚の集光レンズからなり、前記集光レンズの射出面がアナモフィック面からなり、前記集光レンズの入射面は、回転対称系の非球面からなることが好ましい。

このような構成とすることにより、回転対称系の非球面からなる入射面を用いて、蛍光層に入射する光の入射具合を調整することが可能となる。
本発明の光源装置においては、前記複数のコリメーターレンズから前記集光光学系までの光路中に、前記複数のコリメーターレンズからの光を光軸の間隔が狭くなるように反射する反射部をさらに備えることが好ましい。
このような構成とすることにより、先願に係る光源装置と同様に、従来の光源装置と比較して、後段の光学要素に入射する光における光軸の間隔を狭くすることが可能となる。その結果、後段の光学要素の大型化を抑制し、従来の光源装置よりも光源装置の小型化及び軽量化が可能となる。

集光光学系５０は、図１及び図２に示すように、１枚の集光レンズからなり、反射部４０を経由してきたコリメーターレンズアレイ３０からの光を所定の集光位置に集光する。集光光学系５０を構成する集光レンズは本発明における第１の集光レンズである。
集光光学系５０は、入射面５２が回転対称系の非球面からなり、射出面５４が、光軸の間隔を狭くする方向（ｘ軸方向）に対して垂直な母線（ｙ軸方向に沿う母線）を有するシリンドリカル面からなる。

蛍光層６４は、集光光学系５０の焦点位置とは光軸方向に異なる位置（つまり、デフォーカスとなる位置）に配置されている。
蛍光層６４には、反射部４０が備えるアナモフィック面（シリンドリカル面）と集光光学系５０が備えるアナモフィック面と、固体光源２４とコリメーターレンズ３２との前述したような位置関係と、により、図５に示すようにピーク強度が低減された光が入射する。このときのピーク強度は、約６５Ｗ／ｍｍ^２である。

Claims (10)

1. 複数の固体光源と、
   前記複数の固体光源からの光をそれぞれ略平行化する複数のコリメーターレンズと、
   前記複数のコリメーターレンズからの光を集光する集光光学系と、
   前記集光光学系からの光のうち、少なくとも一部から蛍光を生成する蛍光層と、を備える光源装置であって、
   前記複数のコリメーターレンズから前記蛍光層までの光路中に、少なくとも１つのアナモフィック面を備え、
   前記複数の固体光源は、前記複数のコリメーターレンズの焦点位置とは、光軸方向に異なる位置に配置されていることを特徴とする光源装置。
2. 請求項１に記載の光源装置において、
   前記集光光学系は第１の集光レンズを備え、
   前記第１の集光レンズの射出面又は入射面のうち少なくとも一面はアナモフィック面からなることを特徴とする光源装置。
3. 請求項１に記載の光源装置において、
   前記集光光学系は、１枚の集光レンズからなり、
   前記集光レンズの射出面がアナモフィック面からなり、
   前記集光レンズの入射面は、回転対称系の非球面からなることを特徴とする光源装置。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光源装置において、
   前記複数のコリメーターレンズから前記集光光学系までの光路中に、前記複数のコリメーターレンズからの光を光軸の間隔が狭くなるように反射する反射部をさらに備えることを特徴とする光源装置。
5. 請求項４に記載の光源装置において、
   前記アナモフィック面は、前記光軸の間隔を狭くする方向に対して垂直な母線を有するシリンドリカル面からなることを特徴とする光源装置。
6. 請求項４または５に記載の光源装置において、
   前記反射部は、ストライプ状に形成され、前記光軸の間隔を狭くする方向に対して垂直な方向に沿う複数の反射面を有し、
   前記反射面は、アナモフィック面からなることを特徴とする光源装置。
7. 請求項６に記載の光源装置において、
   前記アナモフィック面は、前記光軸の間隔を狭くする方向に対して垂直な母線を有するシリンドリカル面からなることを特徴とする光源装置。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の光源装置において、
   前記蛍光層は、前記集光光学系の焦点位置とは、光軸方向に異なる位置に配置されていることを特徴とする光源装置。
9. 請求項１〜８に記載の光源装置において、
   前記固体光源は、半導体レーザーからなることを特徴とする光源装置。
10. 請求項１〜９のいずれかに記載の光源装置を備える照明装置と、
    前記照明装置からの光を変調する光変調装置と、
    前記光変調装置からの光を投写する投写光学系と、を備えることを特徴とするプロジェクター。