JP2012108371A - ファブリペロー干渉計及びその製造方法 - Google Patents
ファブリペロー干渉計及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012108371A JP2012108371A JP2010258028A JP2010258028A JP2012108371A JP 2012108371 A JP2012108371 A JP 2012108371A JP 2010258028 A JP2010258028 A JP 2010258028A JP 2010258028 A JP2010258028 A JP 2010258028A JP 2012108371 A JP2012108371 A JP 2012108371A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable
- refractive index
- mirror
- rigidity
- fabry
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
Abstract
【解決手段】初期状態で、固定ミラーと可動ミラーの対向距離が固定電極と可動電極の対向距離以下である。固定電極と固定ミラー構造体の他の部分及び可動電極と動ミラー構造体の他の部分の少なくとも一方が電気的に分離されている。メンブレンは、外端から中心に向けて、第1ばね変形部、可動電極を含む高剛性部、第2ばね変形部、可動ミラーM2の順に有する。2つのばね変形部は可動ミラー及び高剛性部よりも剛性が低くされている。また、可動電極における固定電極との対向部分は、メンブレンの中心から外端に向かう方向において、高剛性部の一部のみを占めており、可動電極における固定電極との対向部分の中心と高剛性部における第1ばね変形部側の端部との距離をL1、高剛性部の長さをL2とすると、L2/L1≧3/2を満たすように構成されている。
【選択図】図2
Description
固定ミラー構造体と、ギャップを介して固定ミラー構造体に対向配置されるとともに、ギャップを架橋する部位が変位可能なメンブレンとされた可動ミラー構造体と、を備え、
ギャップを介した対向部位として、
固定ミラー構造体は、固定ミラーと、固定電極とを有し、
可動ミラー構造体は、固定ミラーに対向して形成された可動ミラーと、可動電極とを有し、
固定電極と可動電極の間に印加された電圧に基づいて生じる静電気力によりメンブレンが変位され、ギャップにおける固定ミラーと可動ミラーとの対向距離に応じた波長の光を選択的に透過させるファブリペロー干渉計であって、
電圧が印加されない初期状態で、固定ミラーと可動ミラーの対向距離が、固定電極と可動電極の対向距離以下とされ、
固定電極と該固定電極を除く固定ミラー構造体の他の部分、及び、可動電極と該可動電極を除く可動ミラー構造体の他の部分、の少なくとも一方が電気的に分離され、
メンブレンは、可動ミラーと、可動電極を含み、可動ミラーを取り囲む高剛性部と、メンブレンの外端に設けられ、高剛性部と接続された第1ばね変形部と、高剛性部と可動ミラーとの間に設けられ、高剛性部及び可動ミラーと接続された第2ばね変形部を有し、
可動ミラーを取り囲むように多重に設けられた2つのばね変形部は、メンブレンを構成する他の可動ミラー及び高剛性部よりも剛性が低くされ、
可動電極における固定電極との対向部分が、メンブレンの中心から外端に向かう方向において、高剛性部の一部のみを占めており、
メンブレンの中心から外端に向かう方向において、可動電極における固定電極との対向部分の中心と高剛性部における第1ばね変形部側の端部との距離をL1、高剛性部の長さをL2とすると、
L2/L1≧3/2
を満たすように構成されていることを特徴とする。
シリコン及びゲルマニウムの少なくとも一方を含む半導体薄膜からなる高屈折率層間の固定ミラー形成領域に、高屈折率層を構成する元素の酸化膜からなる酸化物層を配置して、固定ミラー構造体を基板の一面上に形成する工程と、
低屈折率層と同じ材料からなる犠牲層を、固定ミラー構造体の前記基板と反対の面上に形成する工程と、
固定ミラー構造体と同じ半導体薄膜からなる高屈折率層間の可動ミラー形成領域に、固定ミラー構造体と同じ酸化膜からなる酸化物層を配置して、可動ミラー構造体を犠牲層を覆うように形成する工程と、
エッチングにより、メンブレンに対応する犠牲層の部分を除去して、固定ミラー構造体と可動ミラー構造体とを対向させるギャップを設けるとともに、固定ミラー構造体及び可動ミラー構造体の酸化物層を除去してエアミラーとする工程と、備え、
可動ミラー構造体を形成する工程において、酸化物層を、可動ミラー形成領域だけでなく、高剛性部の形成領域にも配置し、
エッチングの工程において、高剛性部の酸化物層を除去せずに残すことを特徴とする。
以下においては、固定ミラー構造体30と可動ミラー構造体70との間のギャップがエアギャップAG(空隙)である例を示す。また、エアギャップAGの長さ方向、換言すればメンブレンMEMの変位方向を単に変位方向と示し、該変位方向に垂直な方向を単に垂直方向と示す。また、平面形状とは、特に断りのない限り、上記垂直方向に沿う形状を示すものとする。
(数1)λ=2×dm/n
したがって、1次の干渉光(n=1)の波長可変帯域は、理想的には2dmi〜2(dmi−Δdmp)となる。また、2次の干渉光(n=2)の波長可変帯域は、理想的にはdmi〜(dmi−Δdmp)となる。1次の干渉光と2次の干渉光との分光不可域を無くすには、1次の干渉光の波長可変帯域の下限値[2(dmi−Δdmp)]が、2次の干渉光の波長可変帯域の上限値[dmi]以下となれば良い。プルイン限界での変化量Δdmpが初期長さdmiの1/2以上となると、1次の干渉光の波長可変帯域の下限値が2次の干渉光の波長可変帯域の上限値dmi以下となる。
(数2)L2/L1=Δd1/Δde
可動ミラーM2は、第2ばね変形部B2を介して高剛性部H1の端部H1bに接続されている。したがって、電極間の対向距離の変化量Δdeがプルイン限界Δdep(=dei×1/3)のとき、高剛性部H1の内側の端部H1bの変化量Δd1は、下記式で示されることとなる。
(数3)L2/L1=3Δd1/dei
上記したように、プルイン限界での変化量Δdmpが初期長さdmiの1/2以上となると、1次の干渉光の波長可変帯域の下限値が2次の干渉光の波長可変帯域の上限値dmi以下となる。また、ミラーM1,M2間の初期長さdmiは電極E1,E2間の初期長さdei以下である。したがって、高剛性部H1の端部H1bの変化量Δd1が、電極E1,E2間の初期長さdeiの1/2以上となれば、ミラーM1,M2間のプルイン限界での変化量Δdmpが初期長さdmiの1/2以上となる。本実施形態に示すように、初期長さdeiと初期長さdmiが等しい場合には、Δd1が初期長さdeiの1/2で、変化量Δdmpが初期長さdmiの1/2となる。これを満たす式は、数式3から下記の通りとなる。
(数4)L2/L1≧3/2
このように、数式4の関係を満たすと、可動ミラーM2を初期長さdmiの1/2以上変位させ、これにより、図3(b)に示すように、1次の干渉光の可変波長帯域を長くして、1次の干渉光の可変波長帯域と2次の干渉光の可変透過波長帯域を連続させることができる。すなわち、分光不可域を無くすことができる。したがって、1次の干渉光と2次の干渉光により、分光帯域をより広くすることができる。
(数5)L2/L1≧3
このように、数式5の関係を満たすと、可動電極E2がプルイン限界まで変位した状態で、可動ミラーM2を初期長さdmiまで、すなわち固定ミラーM1に接触するまで変位させることができる。このため、1次の干渉光の波長可変帯域が2dmiから理想的にはゼロまでの範囲となり、1次の干渉光のみで分光帯域をさらに広くすることができる。なお、可動ミラーM2が固定ミラーM1に接触すると、スティッキングの状態となり、電圧Vの印加を解除しても可動ミラーM2が固定ミラーM1から離れがたくなる。したがって、実際は、可動ミラーM2が固定ミラーM1に接触しないように電圧を調整すると良い。
次に、第2実施形態に係るファブリペロー干渉計を、図4及び図5を用いて説明する。
上記例では、可動ミラー構造体70が、エアギャップAG上に位置するメンブレンMEMと、メンブレンMEMと固定ミラー構造体30との間にエアギャップAGを構成すべくメンブレンMEMを固定ミラー構造体30上に支持する部分を有する例を示した。しかしながら、図7に示すように、固定ミラー構造体30と可動ミラー構造体70の間に、スペーサとしての機能を果たす支持部材50を介在させても良い。図7に示す例では、二酸化シリコンからなる犠牲層の一部をエッチングにより除去してエアギャップAGを形成しつつ、残った犠牲層の部分を支持部材50としている。これによれば、上記例に較べて、メンブレンMEMを支持する部分の剛性を確保しやすくなる。反面、犠牲層の一部を除去してエアギャップAGを形成しつつ残った部分を支持部材50とするので、エアギャップAG(メンブレンMEM)の垂直方向の寸法精度が上記例よりも劣ることとなる。第1べナ変形部B1の垂直方向の長さ(剛性)の調整の観点では、上記例のほうが好ましい。
第2実施形態では、厚さにより、ばね変形部B1,B2の剛性を、可動ミラーM2及び高剛性部H1よりも低くする例を示した。これに対し、本実施形態においては、メンブレンMEMを貫通し、エアギャップAGに連通する貫通孔76により、メンブレンMEMを構成する他の可動ミラーM2及び高剛性部H1よりも剛性が低くなっている点を特徴とする。
上記例では、ばね変形部B1,B2を梁構造とする例を示した。しかしながら、図13に示すように、ばね変形部B1,B2とともに高剛性部H1を梁構造としても良い。図13では、ばね変形部B1,B2の間に高剛性部H1が接続された梁構造部が、回転対称位置に4つの配置されている。また、各梁部分において、梁の幅は厚さ(変位方向の厚さ)に較べて十分に長くなっている。
本実施形態では、ばね変形部B1,B2が、一部にメンブレンMEMを構成する他の可動ミラーM2及び高剛性部H1よりもヤング率の小さい構成材料を用いることで、剛性が低くされている点を特徴とする。
本実施形態では、ミラーM1,M2がエアミラーであり、高剛性部H1が酸化物層75を有する構成において、高剛性部H1が、高屈折率上層72上に、内部応力が引張応力に調整された引張応力層82を、少なくとも酸化物層75に対応して有する点を特徴とする。なお、少なくとも酸化物層75に対応するとは、酸化物層75上に引張応力層82が位置する位置関係である。
70・・・可動ミラー構造体
100・・・ファブリペロー干渉計
AG・・・エアギャップ(ギャップ)
B1・・・第1ばね変形部
B2・・・第2ばね変形部
E1・・・固定電極
E2・・・可動電極
Ec・・・電極E1,E2の対向部分の中心
H1・・・高剛性部
H1a,H1b・・・端部
M1・・・固定ミラー
M2・・・可動ミラー
MEM・・・メンブレン
Claims (13)
- 固定ミラー構造体と、ギャップを介して前記固定ミラー構造体に対向配置されるとともに、前記ギャップを架橋する部位が変位可能なメンブレンとされた可動ミラー構造体と、を備え、
前記ギャップを介した対向部位として、
前記固定ミラー構造体は、固定ミラーと、固定電極とを有し、
前記可動ミラー構造体は、前記固定ミラーに対向して形成された可動ミラーと、可動電極とを有し、
前記固定電極と前記可動電極の間に印加された電圧に基づいて生じる静電気力により前記メンブレンが変位され、前記ギャップにおける前記固定ミラーと前記可動ミラーとの対向距離に応じた波長の光を選択的に透過させるファブリペロー干渉計であって、
電圧が印加されない初期状態で、前記固定ミラーと前記可動ミラーの対向距離が、前記固定電極と前記可動電極の対向距離以下とされ、
前記固定電極と該固定電極を除く前記固定ミラー構造体の他の部分、及び、前記可動電極と該可動電極を除く前記可動ミラー構造体の他の部分、の少なくとも一方が電気的に分離され、
前記メンブレンは、前記可動ミラーと、前記可動電極を含み、前記可動ミラーを取り囲む高剛性部と、前記メンブレンの外端に設けられ、前記高剛性部と接続された第1ばね変形部と、前記高剛性部と前記可動ミラーとの間に設けられ、前記高剛性部及び前記可動ミラーと接続された第2ばね変形部を有し、
前記可動ミラーを取り囲むように多重に設けられた2つの前記ばね変形部は、前記メンブレンを構成する他の前記可動ミラー及び前記高剛性部よりも剛性が低くされ、
前記可動電極における前記固定電極との対向部分が、前記メンブレンの中心から外端に向かう方向において、前記高剛性部の一部のみを占めており、
前記メンブレンの中心から外端に向かう方向において、前記可動電極における前記固定電極との対向部分の中心と前記高剛性部における第1ばね変形部側の端部との距離をL1、前記高剛性部の長さをL2とすると、
L2/L1≧3/2
を満たすように構成されていることを特徴とするファブリペロー干渉計。 - L2/L1≧3
を満たすように構成されていることを特徴とする請求項1に記載のファブリペロー干渉計。 - 2つの前記ばね変形部は、前記メンブレンを構成する他の前記可動ミラー及び前記高剛性部よりも厚さが薄くされ、前記可動ミラー及び前記高剛性部よりも剛性が低くされていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のファブリペロー干渉計。
- 2つの前記ばね変形部は、前記メンブレンを貫通し、前記ギャップに連通する貫通孔により、前記メンブレンを構成する他の前記可動ミラー及び前記高剛性部よりも剛性が低くされていることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項に記載のファブリペロー干渉計。
- 2つの前記ばね変形部は、前記貫通孔により梁構造をなしていることを特徴とする請求項4に記載のファブリペロー干渉計。
- 2つの前記ばね変形部は、前記貫通孔を有する環状構造とされていることを特徴とする請求項4に記載のファブリペロー干渉計。
- 2つの前記ばね変形部は、一部に前記メンブレンを構成する他の前記可動ミラー及び前記高剛性部よりもヤング率の小さい構成材料を用いることで、剛性が低くされていることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記固定ミラー及び前記可動ミラーは、シリコン及びゲルマニウムの少なくとも一方を含む半導体薄膜からなる高屈折率層間に、該高屈折率層よりも低屈折率の空気層を介在させてなる光学多層膜構造を有していることを特徴とする請求項1〜7いずれか1項に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記高剛性部は、2つの前記高屈折率層と、該高屈折率層の間に介在された、前記高屈折率層を構成する元素の酸化物層と、を有することを特徴とする請求項8に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記高剛性部は、前記高屈折率層の一面上に、内部応力が引張応力に調整された引張応力層を有することを特徴とする請求項9に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記引張応力層は、前記高屈折率層を構成する元素のLP−窒化膜からなることを特徴とする請求項10に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記高剛性部において、酸化物層に対するLP−窒化膜の膜厚比が0.25以上であることを特徴とする請求項11に記載のファブリペロー干渉計。
- 請求項9に記載のファブリペロー干渉計の製造方法であって、
シリコン及びゲルマニウムの少なくとも一方を含む半導体薄膜からなる高屈折率層間の固定ミラー形成領域に、前記高屈折率層を構成する元素の酸化膜からなる酸化物層を配置して、固定ミラー構造体を基板の一面上に形成する工程と、
前記低屈折率層と同じ材料からなる犠牲層を、前記固定ミラー構造体の前記基板と反対の面上に形成する工程と、
前記固定ミラー構造体と同じ半導体薄膜からなる高屈折率層間の可動ミラー形成領域に、前記固定ミラー構造体と同じ酸化膜からなる酸化物層を配置して、可動ミラー構造体を前記犠牲層を覆うように形成する工程と、
エッチングにより、前記メンブレンに対応する前記犠牲層の部分を除去して、前記固定ミラー構造体と前記可動ミラー構造体とを対向させるギャップを設けるとともに、前記固定ミラー構造体及び前記可動ミラー構造体の酸化物層を除去してエアミラーとする工程と、備え、
前記可動ミラー構造体を形成する工程において、前記酸化物層を、前記可動ミラー形成領域だけでなく、前記高剛性部の形成領域にも配置し、
前記エッチングの工程において、前記高剛性部の酸化物層を除去せずに残すことを特徴とするファブリペロー干渉計の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010258028A JP5516358B2 (ja) | 2010-11-18 | 2010-11-18 | ファブリペロー干渉計の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010258028A JP5516358B2 (ja) | 2010-11-18 | 2010-11-18 | ファブリペロー干渉計の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012108371A true JP2012108371A (ja) | 2012-06-07 |
JP5516358B2 JP5516358B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=46494036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010258028A Expired - Fee Related JP5516358B2 (ja) | 2010-11-18 | 2010-11-18 | ファブリペロー干渉計の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5516358B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012127917A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Denso Corp | 波長選択型赤外線検出装置 |
JP2014199324A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 日本信号株式会社 | プレーナ型アクチュエータ |
WO2015122316A1 (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ |
US9128279B2 (en) | 2010-08-25 | 2015-09-08 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-tunable interference filter, optical module, and optical analysis apparatus |
JP2016007692A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 株式会社デンソー | ファブリペロー干渉計の製造方法 |
JP2017022290A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
JP2017022291A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
US9557554B2 (en) | 2010-08-25 | 2017-01-31 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-variable interference filter, optical module, and optical analysis device |
US9972971B2 (en) | 2015-07-13 | 2018-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface emitting laser, information acquisition apparatus, and imaging apparatus |
JP2018156112A (ja) * | 2018-06-14 | 2018-10-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ |
US10746909B2 (en) | 2017-02-28 | 2020-08-18 | Seiko Epson Corporation | Wavelength variable interference filter and optical module |
WO2022040864A1 (zh) * | 2020-08-24 | 2022-03-03 | 深圳市海谱纳米光学科技有限公司 | 一种具有可动镜面的可调法珀腔器件及其制造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07286809A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-10-31 | Vaisala Oy | 光学材料分析に用いる表面ミクロ機械加工技術によって製造される電気同調可能型ファブリ・ペロ干渉計 |
JP2008134388A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Denso Corp | 光学多層膜ミラーおよびそれを備えたファブリペロー干渉計 |
JP2008537802A (ja) * | 2005-04-15 | 2008-09-25 | シンヴェント・アクチェセルスカベット | 調整可能な干渉フィルタ |
JP2009134026A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
-
2010
- 2010-11-18 JP JP2010258028A patent/JP5516358B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07286809A (ja) * | 1994-02-17 | 1995-10-31 | Vaisala Oy | 光学材料分析に用いる表面ミクロ機械加工技術によって製造される電気同調可能型ファブリ・ペロ干渉計 |
JP2008537802A (ja) * | 2005-04-15 | 2008-09-25 | シンヴェント・アクチェセルスカベット | 調整可能な干渉フィルタ |
JP2008134388A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Denso Corp | 光学多層膜ミラーおよびそれを備えたファブリペロー干渉計 |
JP2009134026A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Seiko Epson Corp | 光学デバイス、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9128279B2 (en) | 2010-08-25 | 2015-09-08 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-tunable interference filter, optical module, and optical analysis apparatus |
US9557554B2 (en) | 2010-08-25 | 2017-01-31 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-variable interference filter, optical module, and optical analysis device |
JP2012127917A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Denso Corp | 波長選択型赤外線検出装置 |
JP2014199324A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 日本信号株式会社 | プレーナ型アクチュエータ |
CN105992964B (zh) * | 2014-02-13 | 2019-01-18 | 浜松光子学株式会社 | 法布里-珀罗干涉滤光器 |
WO2015122316A1 (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ |
JP2015152713A (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ |
CN105992964A (zh) * | 2014-02-13 | 2016-10-05 | 浜松光子学株式会社 | 法布里-珀罗干涉滤光器 |
KR20160120277A (ko) * | 2014-02-13 | 2016-10-17 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 패브리 페로 간섭 필터 |
KR102350757B1 (ko) * | 2014-02-13 | 2022-01-13 | 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 | 패브리 페로 간섭 필터 |
US10591715B2 (en) | 2014-02-13 | 2020-03-17 | Hamamatsu Photonics K.K. | Fabry-Perot interference filter |
JP2016007692A (ja) * | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 株式会社デンソー | ファブリペロー干渉計の製造方法 |
JP2017022290A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
US9972971B2 (en) | 2015-07-13 | 2018-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface emitting laser, information acquisition apparatus, and imaging apparatus |
JP2017022291A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
US10746909B2 (en) | 2017-02-28 | 2020-08-18 | Seiko Epson Corporation | Wavelength variable interference filter and optical module |
US10921503B2 (en) | 2017-02-28 | 2021-02-16 | Seiko Epson Corporation | Wavelength variable interference filter and optical module |
JP2018156112A (ja) * | 2018-06-14 | 2018-10-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ |
WO2022040864A1 (zh) * | 2020-08-24 | 2022-03-03 | 深圳市海谱纳米光学科技有限公司 | 一种具有可动镜面的可调法珀腔器件及其制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5516358B2 (ja) | 2014-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5516358B2 (ja) | ファブリペロー干渉計の製造方法 | |
JP5177209B2 (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
JP2011027780A (ja) | ファブリペロー干渉計及びその製造方法 | |
JP6211833B2 (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ | |
JP5545199B2 (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
KR102350757B1 (ko) | 패브리 페로 간섭 필터 | |
US8913322B2 (en) | Micromechanical tunable Fabry-Perot interferometer and a method for producing the same | |
JP5601190B2 (ja) | 波長選択型赤外線検出装置 | |
JP5685257B2 (ja) | マイクロメカニカル可変同調型ファブリー・ペロー干渉計及びその製造方法 | |
JP6211315B2 (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ | |
JP5739224B2 (ja) | 光学部品の製造方法及び光学部品 | |
JP5170025B2 (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
JP5067209B2 (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
JP2018010038A (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ及び光検出装置 | |
JP6070435B2 (ja) | ファブリペローフィルタ、それを備えたファブリペロー干渉計、および、ファブリペローフィルタの製造方法 | |
JP2010160033A (ja) | ファブリペロー干渉計及びその製造方法 | |
JP5577983B2 (ja) | ファブリペロー干渉計の製造方法 | |
US7348535B2 (en) | Metal line structure of optical scanner and method of fabricating the same | |
JP5515314B2 (ja) | 波長選択型赤外線検出器 | |
JP5302596B2 (ja) | 固体真空デバイス | |
JP6187376B2 (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
JP6710721B2 (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ | |
JP6770356B2 (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ及び光検出装置 | |
JP2005172808A (ja) | 半導体加速度センサ | |
JP2013009156A (ja) | 共振器及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130717 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130919 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140116 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140304 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140317 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5516358 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |