JP6187376B2 - ファブリペロー干渉計 - Google Patents
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Description
ギャップ(AG)を介して固定ミラー構造体と対向するメンブレン(MEM)を有するとともに、該メンブレンにおいて固定ミラーに対向して設けられた可動ミラー(M2)を有する可動ミラー構造体(14)と、
圧電膜(40,52)と、対向の方向において圧電膜の両面に形成された電極(42,44)と、を有し、メンブレンを変位させるために、周辺領域において、可動ミラー構造体における固定ミラー構造体と反対の面上に積層配置された圧電駆動部(16)と、を備える。
積層配置された一対の高屈折率層(34,36)と、
透過領域において高屈折率層間に介在され、一対の高屈折率層とともに可動ミラーを形成する低屈折率層(38)と、
周辺領域における圧電駆動部が配置される部分の厚みを厚くするために、一対の高屈折率層に追加された追加層(46,48,50,54)と、を有することを特徴とする。
本発明の実施形態について説明する前に、本発明者が検討した参考形態について説明する。なお、後述する本発明の実施形態と共通乃至関連する要素には、本発明の実施形態の付与する符号に対し、100を加算した符号を付与するものとする。また、アルファベットを含んで示した符号については、便宜上、同じ符号を付与するものとする。また、固定ミラーM1及び可動ミラーM2の対向方向をZ方向と示す。そして、Z方向に直交する一方向をX方向とし、X方向及びZ方向の両方向に直交する方向をY方向とする。
先ず、図1及び図2に基づき、本発明の第1実施形態に係るファブリペロー干渉計10の概略構成について説明する。基本構造は、上記した参考形態と同じである。異なる点は、可動ミラー構造体14が、後述する追加層46をさらに備える点にある。参考形態と同じ部分についての説明は簡略化する。
本実施形態において、上記実施形態に示したファブリペロー干渉計10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態において、上記実施形態に示したファブリペロー干渉計10と共通する部分についての説明は割愛する。
本実施形態において、上記実施形態に示したファブリペロー干渉計10と共通する部分についての説明は割愛する。
Claims (11)
- 光を透過させる透過領域(S1)及び該透過領域の周辺に位置する周辺領域(T1)のうち、前記透過領域に固定ミラー(M1)を有する固定ミラー構造体(12)と、
ギャップ(AG)を介して前記固定ミラー構造体と対向するメンブレン(MEM)を有するとともに、該メンブレンにおいて前記固定ミラーに対向して設けられた可動ミラー(M2)を有する可動ミラー構造体(14)と、
圧電膜(40,52)と、前記対向の方向において前記圧電膜の両面に形成された電極(42,44)と、を有し、前記メンブレンを変位させるために、前記周辺領域において、前記可動ミラー構造体における前記固定ミラー構造体と反対の面上に積層配置された圧電駆動部(16)と、
を備え、
前記可動ミラー構造体は、
積層配置された一対の高屈折率層(34,36)と、
前記透過領域において前記高屈折率層間に介在され、一対の前記高屈折率層とともに前記可動ミラーを形成する低屈折率層(38)と、
前記周辺領域における前記圧電駆動部が配置される部分の厚みを厚くするために、一対の前記高屈折率層に追加された追加層(46,48,50,54)と、を有することを特徴とするファブリペロー干渉計。 - 前記追加層(46,48)は、内部応力が圧縮応力に調整されていることを特徴とする請求項1に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記追加層は、二酸化シリコン膜、シリコン窒化膜、及び多結晶シリコン膜の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項2に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記追加層として、前記圧電駆動部側の前記高屈折率層上に設けられた層(46)を含むことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記追加層として、一対の前記高屈折率層間に設けられた層(48)を含むことを特徴とする請求項2〜4いずれか1項に記載のファブリペロー干渉計。
- 一対の前記高屈折率層は、シリコンを含む半導体薄膜からなり、
前記低屈折率層は、二酸化シリコンをエッチングしてなる空気層であり、
前記追加層として、一対の前記高屈折率層間に設けられた二酸化シリコンからなる層(48)を含むことを特徴とする請求項4に記載のファブリペロー干渉計。 - 前記追加層(50)は、有機膜を用いて形成されていることを特徴とする請求項1に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記有機膜として、ポリイミド膜、パラキシレン膜、ポリジメチルシロキサン膜、ポリエチレン膜、及びネガ型のフォトレジスト膜の少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項7に記載のファブリペロー干渉計。
- 前記圧電膜(52)は、ポリフッ化ビニリデン、及び、フッ化ビニリデン三フッ化エチレン共重合体のいずれかを用いて形成されていることを特徴とする請求項7又は請求項8に記載のファブリペロー干渉計。
- 一対の前記高屈折率層間に、前記追加層(54)としての空気層が介在されていることを特徴とする請求項1に記載のファブリペロー干渉計。
- 一対の前記高屈折率層は、シリコンを含む半導体薄膜からなり、
前記低屈折率層は、空気層であり、
前記対向の方向において、前記圧電駆動部及び前記可動ミラー構造体の内部応力の中立軸(N1)と、前記圧電駆動部の中心(C1)との距離が3μm以上となるように、前記追加層が配置されていることを特徴とする請求項1〜10いずれか1項に記載のファブリペロー干渉計。
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