JP2012086484A5 - - Google Patents

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本発明者は、シランカップリング剤と転写基材との結合反応よりも、シランカップリング剤の分子間の縮合反応による鎖状や網目状の層が生じやすく、転写基材との結合に供する官能基がケイ素原子に３個結合したシランカップリング剤を用いて形成した密着層では、表面に凸部が生じて平坦性が低下することに着目して本発明をなすに至った。
すなわち、上記のような目的を達成するために、本発明のインプリント方法は、所望の形状の転写形状部を有するモールドと転写基材との間に被加工物を介在させ、該被加工物に前記転写形状部の形状を転写するインプリント方法において、基材に密着層を形成して転写基材を作製する密着層形成工程と、前記モールドと前記密着層との間に前記被加工物が介在するようして前記モールドと前記転写基材とを近接させ前記被加工物を前記転写形状部に充填する充填工程と、前記被加工物を硬化させる硬化工程と、前記被加工物から前記モールドを引き離す離型工程と、を有し、前記密着層形成工程は、１個の加水分解性基と２個の不活性基とを有する４価の原子と該原子に結合した反応性官能基とを１分子中に有する化合物を含有する密着剤を、前記基材に接触させ、その後、洗浄する工程を有し、高さ５ｎｍ以上の凸部が存在しない密着層を形成するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記密着層形成工程における洗浄は、極性溶媒を使用するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記密着剤の前記４価の原子はケイ素であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材として周囲に対して凸構造となった凸状平坦面を有する基材を使用し、前記密着層形成工程では、該凸状平坦面に密着層を形成して転写基材を作製するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記密着層形成工程において、前記密着剤をスピンコート法により前記基材に塗布するような構成とした。
本発明の転写基材は、基材と、該基材上に位置する密着層とを備えるインプリント用の転写基材であって、密着層は、酸素原子を介して前記基材に結合するとともに２個の不活性基とを有する４価の原子と、該原子に結合した反応性官能基と、を有し、高さ５ｎｍ以上の凸部が存在しないような構成とした。
本発明の他の態様として、隣接する前記４価の原子同士は結合していないような構成とした。
本発明の他の態様として、前記４価の原子はケイ素であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材は、周囲に対して凸構造となった凸状平坦面を有し、該凸状平坦面に前記密着層を備えるような構成とした。

Claims (9)

  1. 所望の形状の転写形状部を有するモールドと転写基材との間に被加工物を介在させ、該被加工物に前記転写形状部の形状を転写するインプリント方法において、
    基材に密着層を形成して転写基材を作製する密着層形成工程と、
    前記モールドと前記密着層との間に前記被加工物が介在するようして前記モールドと前記転写基材とを近接させ前記被加工物を前記転写形状部に充填する充填工程と、
    前記被加工物を硬化させる硬化工程と、
    前記被加工物から前記モールドを引き離す離型工程と、を有し、
    前記密着層形成工程は、１個の加水分解性基と２個の不活性基とを有する４価の原子と該原子に結合した反応性官能基とを１分子中に有する化合物を含有する密着剤を、前記基材に接触させ、その後、洗浄する工程を有し、高さ５ｎｍ以上の凸部が存在しない密着層を形成するものであることを特徴とするインプリント方法。
  2. 前記密着層形成工程における洗浄は、極性溶媒を使用することを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
  3. 前記密着剤の前記４価の原子はケイ素であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のインプリント方法。
  4. 前記基材として、周囲に対して凸構造となった凸状平坦面を有する基材を使用し、前記密着層形成工程では、該凸状平坦面に密着層を形成して転写基材を作製することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のインプリント方法。
  5. 前記密着層形成工程において、前記密着剤をスピンコート法により前記基材に塗布することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のインプリント方法。
  6. 基材と、該基材上に位置する密着層とを備えるインプリント用の転写基材において、
    密着層は、酸素原子を介して前記基材に結合するとともに２個の不活性基とを有する４価の原子と、該原子に結合した反応性官能基と、を有し、高さ５ｎｍ以上の凸部が存在しないことを特徴とする転写基材。
  7. 隣接する前記４価の原子同士は結合していないことを特徴とする請求項６に記載の転写基材。
  8. 前記４価の原子はケイ素であることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の転写基材。
  9. 前記基材は、周囲に対して凸構造となった凸状平坦面を有し、該凸状平坦面に前記密着層を備えることを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれかに記載の転写基材。
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